首页> 中国专利> 一种γ辐射环境下成像设备的防辐射装置及图像去噪方法

一种γ辐射环境下成像设备的防辐射装置及图像去噪方法

摘要

本发明公开了一种γ辐射环境下成像设备的防辐射装置及图像去噪方法,其装置包括:成像设备、内保护层、中间保护层、外保护层、耐辐照玻璃罩和成像设备安装件;其方法包括以下步骤:S1、通过防辐射装置采集γ辐射环境下的图像序列;S2、遍历图像序列上的每个像素点,得到噪声标记图;S3、对噪声标记图中噪声点进行恢复,得到去噪图像;本发明解决了γ辐射场景下,场景图像中存在大量噪声,严重影响视觉质量的问题。

著录项

  • 公开/公告号CN114500802A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-05-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西南科技大学;

    申请/专利号CN202210071229.9

  • 发明设计人 方琳琳;邓豪;张华;王海;翟旭强;

    申请日2022-01-21

  • 分类号H04N5/225;H04N5/374;H04N5/217;G06T5/00;G21F3/00;

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 621010 四川省绵阳市涪城区青龙大道中段59号

  • 入库时间 2023-06-19 15:16:37

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-05-31

    实质审查的生效 IPC(主分类):H04N 5/225 专利申请号:2022100712299 申请日:20220121

    实质审查的生效

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号