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标准单元版图的优化方法及装置、终端

摘要

一种标准单元版图的优化方法及装置、终端,所述方法,包括:提取影响标准单元版图的性能的特征变量,所述特征变量的数量为一个或者多个;调整一个或者多个特征变量的值,并基于每次调整后的特征变量的值,对所述标准单元版图所属的芯片工艺流程进行仿真,获得仿真结果,所述仿真结果为对应于该芯片工艺流程的芯片性能参数;建立仿真结果与特征变量之间的映射关系;建立模型训练样本,所述模型训练样本是根据调整后的特征变量与对应的仿真结果确定的;采用所述模型训练样本训练回归模型;基于训练得到的回归模型对所述标准单元版图进行优化。本发明可以提高优化效率和准确性。

著录项

  • 公开/公告号CN114417762A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-04-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 全芯智造技术有限公司;

    申请/专利号CN202111605182.1

  • 发明设计人 不公告发明人;

    申请日2021-12-24

  • 分类号G06F30/331;G06F30/392;G06K9/62;G06V10/774;G06N5/00;G06F113/18;

  • 代理机构北京集佳知识产权代理有限公司;

  • 代理人武振华;骆苏华

  • 地址 230088 安徽省合肥市高新区创新大道2800号创新产业园二期J2C栋13楼

  • 入库时间 2023-06-19 15:07:06

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-05-20

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06F30/331 专利申请号:2021116051821 申请日:20211224

    实质审查的生效

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