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一种提高碳化硅外延片载流子寿命的方法

摘要

本发明提供一种提高碳化硅外延片载流子寿命的方法,包括以下步骤:S1.将硅面碳化硅衬底置于石墨基座上;S2.调节反应室内条件并生长缓冲层;S3.保持生长温度和压力不变,降低C/Si比,之后以线性渐变的方式提高C/Si比进行第1次生长;S4.保持生长温度和压力不变,继续进行n次速率切换梯度层生长;S5.调节反应室内条件并完成外延层的生长;S6.完成外延层生长后,关闭生长源和掺杂源,最终用氩气将反应室压力充气至大气压后,开腔取片。本发明通过采用阶梯式生长提镀层的方法,优化了梯度层设计,达到补偿缓冲层产生的碳空位和抑制梯度层碳空位形成的目的,大幅提高了碳化硅外延片的载流子寿命。

著录项

  • 公开/公告号CN114242566A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-03-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202111442719.7

  • 发明设计人 赵志飞;李赟;王翼;周平;李忠辉;

    申请日2022-01-07

  • 分类号H01L21/02(20060101);C23C16/32(20060101);C23C16/44(20060101);

  • 代理机构32200 南京经纬专利商标代理有限公司;

  • 代理人孙昱

  • 地址 210016 江苏省南京市秦淮区中山东路524号

  • 入库时间 2023-06-19 14:37:32

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-03-25

    公开

    发明专利申请公布

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