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具有包围型源区的沟槽型功率半导体器件及其制备方法

摘要

本申请是关于一种具有包围型源区的沟槽型功率半导体器件,包括:衬底区、漂移区、基体区、源区、屏蔽栅、控制栅、绝缘层、源极、漏极和金属栅极;漂移区与衬底区相接,以衬底区指向漂移区的方向为上方,基体区和源区依次设置在漂移区上方;控制栅和屏蔽栅由上至下依次设置在漂移区的侧方,并通过绝缘层分别与漂移区、基体区和源区相接;源区包括P型源区和N型源区;P型源区设置在基体区上方,N型源区设置在P型源区侧面与绝缘层的相接处,N型源区的一侧与绝缘层相接,使得N型源区被P型源区半包围;源极设置在源区上方;漏极设置在衬底区下方;金属栅极设在控制栅上方。本申请提供的方案,能够扩大雪崩电流通道的交界面,提高最大雪崩耐量。

著录项

  • 公开/公告号CN114171580A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-03-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 无锡先瞳半导体科技有限公司;

    申请/专利号CN202111463420.X

  • 申请日2021-12-02

  • 分类号H01L29/06(20060101);H01L29/08(20060101);H01L29/78(20060101);H01L21/336(20060101);

  • 代理机构44438 广州市时代知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人陈惠珠;苏维勤

  • 地址 214000 江苏省无锡市滨湖区建筑西路777号A3幢8层810

  • 入库时间 2023-06-19 14:28:14

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-03-11

    公开

    发明专利申请公布

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