空间控制等离子体

摘要

一种等离子体输送设备，包括：设置在输送设备的外表面中的等离子体源，外表面被布置成面向待处理的基板；传送机构，被配置为相对于彼此传送基板和外表面；等离子体源包括气体入口，用于向等离子体生成空间提供气流；等离子体生成空间，其流体耦合到布置在外表面中的至少一个等离子体输送口；其中，等离子体生成空间由工作电极和对电极的外表面界定；包括介电层的工作电极；至少一个等离子体排气口，至少一个等离子体排气口设置在外表面中并且远离等离子体输送口，以经由所述等离子体排气口排出沿外表面流动的等离子体，其中，所述至少一个等离子体输送口和至少一个等离子体排气口被布置成提供沿相反方向流动的至少两个连续的等离子体流，每个等离子体流由至少两个工作电极中的相应一个工作电极产生；以及开关电路，用于向至少两个工作电极可切换地提供电压，其中开关电路与传送机构协同操作。