保护性涂层、具有保护性涂层的涂覆构件以及生产保护性涂层的方法

摘要

本发明涉及保护性涂层，所述保护性涂层具有化学组成C

说明书

技术领域

本发明涉及具有优良的滑动特征和改善耐热性的构件(member)的 保护性涂层，所述保护性涂层通过在需要具有耐磨性和足够的高温抗 氧化性的构件上形成硬薄膜而生产；涉及具有保护性涂层的涂覆构 件，如切割工具、模、成形工具、发动机部件、燃气涡轮机等；且还 涉及生产用于构件的保护性涂层(特别是多层薄膜)的方法。

背景技术

滑动构件经常用氮化物涂层涂覆，如CrN或TiN，然而，也越来 越多地应用金刚石样碳(DLC)。认为涂覆滑动构件是有用的，因为容 易提供光滑表面，并且摩擦特征优良。例如，专利参考文献1公开在 金属基材上形成a-C:H型DLC薄膜的技术。专利参考文献2描述通过 加入不同的金属改性a-C:H涂层。将这些涂层称为a-C:H:Me涂层。 专利参考文献3通过将薄膜中的氢内容物含量限定在约5％原子的低 水平而实现改善耐热性，并增加DLC薄膜的硬度。专利参考文献4 和专利参考文献5公开在碳薄膜中含有Si的DLC薄膜。

专利参考文献6说明通过加入硅或硼改变a-C:H涂层的光学性质。

然而，由于在专利参考文献1至6中提到的涂层基于碳与一些成 合金元素，如氢和/或金属，或硅或硼，其耐热性改善在相稳定性中限 于约350-400℃，在空气中氧化方面限于约400-500℃。

与此相反，本发明的申请人提出如专利参考文献7的基于 Si(BCNO)的薄膜，用于提高其耐热性，并进一步增加其硬度。因此， 用于切割工具和耐磨构件的薄膜的耐磨性和耐热性显著提高。相对于 专利参考文献7，本发明不仅要提高耐磨性和耐热性，而且增强薄膜 均滑动特征。

[现有技术参考文献]

[参考文献]

[专利参考文献1]DD 258341

[专利参考文献2]DE 32 46 361A1

[专利参考文献3]EP-A-1 266 879

[专利参考文献4]EP-A-1 783 349

[专利参考文献5]WO 97/12075

[专利参考文献6]WO 00/56127

[专利参考文献7]EP-1 783 245

发明概述

[待解决的问题]

对于汽车应用，必须减少CO₂排放。实现它的一种方式是减少发 动机和传输中的摩擦损失。这可通过涂覆部件(如挺杆、喷射系统部件 和活塞环或衬垫)而实现。

然而，传统DLC涂层显示一些耐热性限制。

需要改善传统DLC涂层性质的另一个实例是切割技术领域。最 近的趋势指向在高效加工条件下短时操作，用于缩短生产时间。因此， 对于比常规更先进的高效操作，切割速度加快且进料量增加。例如， 切割速度加速可增加加工热量，并且工具由于热量可能受到更大损 伤。另一方面，在进料量增加时，工具和被加工物体之间的界面压力 增加，因此，引起在增加的界面压力下的早期磨损。此外，减少润滑 剂的量也是现代生产中的一个重要目标。因此，必须减小摩擦，尤其 在切片传输(chip transport)区域。

虽然在任何情况下可能有一些差异，但加工热的影响大于常规加 工条件，并且必须改善工具和涂覆工具表面的薄膜的耐热性和抗氧化 性。另外，也需要高硬度和高润滑性的物理性质，以抑制高界面压力 下发生的磨损。因此，本发明的目的也是提供多层薄膜涂覆的构件， 此构件用具有与常规DLC类似水平的润滑性特征并且具有足够高硬 度和足够高耐热性的硬薄膜涂覆，本发明也提供生产它的方法。

[解决问题的方法]

本发明涉及涂覆构件，所述构件用包含碳、硅和硼作为主要成分 的硬薄膜涂覆。

因此，本发明提供保护性涂层，所述保护性涂层具有化学组成 C_aSi_bB_dN_eO_gH_lMe_m，其中Me为至少一种选自{Al，Ti，V，Cr，Zr， Nb，Mo，Hf，Ta，W，Y，Sc，La，Ce，Nd，Pm，Sm，Pr，Mg， Ni，Co，Fe，Mn}的金属，并且a+b+d+e+g+l+m＝1。根据本发明，满 足以下条件：0.45≤a≤0.98，0.01≤b≤0.40，0.01≤d≤0.30，0≤e≤0.35， 0≤g≤0.20，0≤l≤0.35，0≤m≤0.20。

如上述式中清楚公开的，另外的改性元素，如氮和氧，可包含于 薄膜中。如本发明说明书以后公开的，也可包括一些金属元素，尤其 在需要它们以产生足够高品质的靶用于薄膜沉积时。由沉积方法引 起，通常在涂层中加入一些氢。也可能加入来自靶制造的其它杂质(例 如，In)。如果溅射方法用于涂覆过程，也可能包括残余溅射气体(例 如，Ar)。

由于薄膜含有硅和硼，它变得比分别只具有硅或只具有硼或只具 有金属的含碳涂层在耐热性方面更稳定。即，其耐热性显著提高，并 且薄膜可甚至在更苛刻的工作环境下显示足够耐热性。另外，由于薄 膜适当含有无定形碳，其润滑性特征优良。

在涂层中存在游离无定形碳是重要的，这意味存在不化学键合到 硅或硼的碳。碳原子相互键合，在薄膜中形成自己的相。为了将它表 征，已证明拉曼光谱为适合的方法。在拉曼光谱中在1300和1600cm^-1之间检测的峰为从无定形碳得到的峰。增加涂层中碳含量的一种简单 方法是溅射至少含硅和硼的靶。在薄膜形成期间，可用限定的基于烃 的气体调节形成的薄膜的C含量，因此其中如果达到足够高的碳含量， 则C元素相互键合，而不键合到任何其它元素(排除氢)，特别是一定 量的碳不键合到硅和硼，因此形成C-C键合。这在检测C-C键的拉曼 光谱中的数据得到证明。

如果在基材和硬薄膜之间，构件具有另外的硬薄膜，所述硬薄膜 包含至少两种选自Al、Ti、Cr、Nb、W、V、Zr、Hf、Ta、Mg、Mo、 Y、Sc、La和镧系元素(如Ce、Pr、Nd、Pm、Sm)的金属成分和至少 一种选自N、C、O；Si、B和S的非金属成分，则另外的硬薄膜与上 述硬薄膜A一起形成多层结构。因此，硬薄膜A于基材的粘着增强， 并且硬薄膜A能够充分地显示其性质。

另外，在沉积硬薄膜A之前，通过在基材表面沉积金属中间层(例 如，Cr或TiSi)，也可调整涂层的粘着。

在本发明的多层薄膜涂覆的构件中，在用硬薄膜涂覆时，薄膜具 有极大提高的润滑性和耐热性。本发明不仅提供作为功能性表面的唯 一涂层的硬薄膜A，而且提供用硬薄膜A涂覆的多层薄膜涂覆的构件 和生产它的方法。

本发明的涂层的特殊实施方案显示于图1a和图2中。在图1中， 硬薄膜A和硬薄膜B两者均为单层，因此，涂覆构件具有双层结构。 硬薄膜A位于构件的最外表面侧上。在图2中，硬薄膜A和硬薄膜B 两者均具有多层结构。硬薄膜A位于构件的最外表面侧上。

生产本发明的多层薄膜涂覆的构件的方法为适用于用具有上述 特征的薄膜涂覆构件的方法。

附图简述

[图1]图1显示具有单层结构的本发明的一般实施方案。

[图1a]图1a显示双层结构的薄膜涂覆的构件的一般层结构。

[图2]图2显示多层结构的薄膜涂覆的构件的一般层结构。

[图3]图3显示用于本发明的薄膜涂覆的构件的薄膜形成所用装 置的一个实例。

[图4]图4为在本发明的实施例1中热处理后涂覆构件的横截面的 扫描电子显微相片。

[图5]图5为从本领域现状已知的常规实施例38热处理后涂覆构 件的横截面的扫描电子显微相片。

[图6]图6显示本发明的实施例1中的拉曼光谱的数据。

图1显示具有单层结构的本发明的一般实施方案，其中单层为 CSiBNOHMe层。在一个特殊实施方案中，根据图1的涂层可具有组 成C_0.65Si_0.20B_0.08N_0.05O_0.02。600nm厚涂层具有例如2100+/-100的纳米 硬度。涂层为X-射线无定形，例如，检测不到来自涂料的折射峰。由 基材(烧结碳化物)弯曲方法测量的应力为约1,2GPa。

下面关于显示游离碳含量的测量作更详细的讨论。例如，关于拉 曼光谱，Ix表示从无定形碳得到的峰。已知峰强度依薄膜厚度变化， 因此，不可能从峰强度确定薄膜中存在的无定形碳的绝对量。关于其 中存在相同量无定形碳但具有不同厚度的薄膜，较厚的薄膜倾向于得 到较高的峰强度。因此，必须使用试图排除峰强度的厚度依赖性的方 法。为此，使用光谱中的背景中的最大强度Iy，并且将无定形碳的存 在量相对地定义为在Ix的无定形碳的峰强度与背景中的最大强度Iy 的强度比。Iy是背景中的最大强度，与Ix一样，其强度根据薄膜厚度 变化。较厚的薄膜得到较高的Ix和Iy，因此认为比率Ix/Iy限定相对 于它的无定形碳的存在量。

在所述方法限度内，有以下发现。至少，满足3.2≤Ix/Iy，薄膜具 有润滑性特征的效果。在Ix/Iy＜3.2时，则薄膜中无定形碳的相对存在 量小，因此，薄膜不能有较低的润滑效果。在Ix/Iy＞8.0时，则薄膜中 无定形碳的相对存在量大，因此，薄膜的耐热性较低，结果是薄膜用 途较受限制，然而，润滑性质和耐热性相对于常规DLC薄膜改善。 由于对于实施例的沉积，在薄膜形成中使用基于烃的气体，因此已证 明在薄膜中也检测到C-H键。图6显示拉曼光谱的数据的实例。

对于拉曼光谱，使用Seki Technotron的微激光拉曼光谱仪。测定 条件如下：

(测定条件)

用于激发的固体激光器波长：532nm。

检测器：冷却CCD多通道。

光谱仪：Chromex 250，为成像摄谱仪。

运行时间：60秒。

样品条件：室温，在空气中。

在含有氧的硬薄膜A的实施方案中，从磨损环境下薄膜的润滑性 和抗氧化性的观点来看，优选控制薄膜中的氧浓度，使得表面层附近 的区域最高，所述区域为从最外表面层降至薄膜厚度方向上至多 500nm范围。优选氧作为与硅或硼的氧化物存在于薄膜中。在氧作为 其固溶体存在于薄膜的情况下，则它可在例如导致磨损偶合的接触区 域中较高温度的操作期间，形成氧化硅和氧化硼。在此情况下，组成 摩擦相对部分的构件的成分可扩散到薄膜内，从而经常引起熔合(melt  fusion)，并使薄膜的机械性质变坏。因此，期望氧以其中的氧化物形 式存在于薄膜中。

如果溅射从含有硅和硼的靶(例如，SiC/BN混合物)进行，不控制 Ix/Iy比，将反应气体—基于烃的气体(例如，C₂H₂)的流速Fy与薄膜形 成中的工艺气体氩气的流速Fx的比率Fy/Fx控制到例如 0.007≤Fy/Fx≤0.50。优选将该阶段中薄膜形成压力控制在约0.01Pa至 3.0Pa的范围内。在Fy/Fx＜0.007时，则基于烃的气体的流速低，因此 导致Ix/Iy＜3.2。因此，薄膜中无定形碳的存在量减少，薄膜不能有足 够的润滑性特征。另一方面，在Fy/Fx＞0.50时，则Ix/Iy＞8.0，结果是 薄膜的用途更限于较低温度用途，然而仍显示改善的耐热性。因此， 优先将比率Fy/Fx控制到0.007≤Fy/Fx≤0.50。

作为基于烃的气体，本文中可使用甲烷、乙炔、苯或甲基苯，优 选乙炔。

在本发明中双层结构的硬薄膜B的主要作用是使硬薄膜A的性质 与硬薄膜B的性质组合。硬薄膜A和硬薄膜B可分别具有图2中所 示的多层结构。例如，硬薄膜A为CSiB，并且它可具有多层结构， 其中C含量在其表面层附近的区域增加。硬薄膜B也可具有多层，例 如(TiAl)N/(TiSi)N结构。在此结构中，(TiSi)N施用于硬薄膜A和 (AlTi)N之间，从而增加多层薄膜的耐磨性和粘着性。或许，硬薄膜A 对整个多层薄膜的比例不能增加，因为硬薄膜A可增加多层薄膜的残 余压缩应力，在此情况下，硬薄膜B增厚。关于硬薄膜A与硬薄膜B 之比，硬薄膜A的比例优选相对于整个多层薄膜(作为100％)为2％至 50％。为了使硬薄膜A充分显示其特征，硬薄膜B必须具有对基材表 面优良的粘着强度。

在本发明中，可用RF根据溅射方法形成硬薄膜A。在此情况下， 优选使用碳化硅和氮化硼的复合靶，然而，碳化硅和氮化硼可在不同 涂料源中布置，并且二者可同时溅射，以形成硬薄膜A。

不仅限于以下PVD方法，可使用其它磁控管溅射方法，例如DC 溅射或脉冲溅射，包括从复合靶高功率脉冲磁控管溅射，复合靶如碳 靶，并具有由SiC、B₄C组成的插入物和含有氮气的反应性气体。

通过用Si和硼掺杂碳阴极和/或用含有硼或硅的适合反应性气体， 也可使用蒸镀方法来沉积本发明的涂层。

沉积此涂层的另一种简单方法是，通过使用包含至少碳、硅和硼 的适合前体的纯CVD和PE-CVD方法。

在形成多层薄膜的一种优选方法中，硬薄膜A根据溅射方法形 成，硬薄膜B根据电弧离子电镀法(AIP方法)和/或溅射方法形成。例 如，在图1a中，重要的是硬薄膜B的薄膜3具有对基材2增强的粘 着强度，因此，AIP方法对基材2和薄膜3之间的界面区域是优选的。 界面区域以外的其它区域可根据溅射方法形成，进一步提高形成的薄 膜的耐磨性。所述方法可与AIP方法组合。薄膜4的硬薄膜A根据溅 射方法涂覆。在涂层薄膜形成中，关于溅射方法中的涂料源和偏压电 源及AIP方法中的偏压电源，可使用高频电源或直流电源，但从涂覆 过程中的稳定性方面来看，高频电源用于溅射电源。考虑到硬薄膜的 导电性和硬薄膜的机械性质，更优选高频偏压电源作为偏压电源。

图3为显示用于涂覆本发明的基材的涂覆装置13的结构的视图。 涂覆装置13包括真空室10、4个涂料源5、6、7和8及其挡板14、 15、16和17。在此之中，5和7分别为RF涂料源，6和8分别为电 弧源。各涂料源具有其挡板，此挡板单独阻挡涂料源。挡板相互独立 驱动，因此能够单独阻挡相应的涂料源。因此，在涂覆过程期间，不 必临时停止涂料源。氩工艺气体和反应气体N₂、O₂或C₂H₂送入真空 室10，因此真空室10具有提供开关装置的蒸气入口12。提供有旋转 装置的基材支架11与直流(DC)偏压电源或高频(RF)偏压电源9连接。 关于薄膜的涂覆方法，以下描述涂覆装置13的移动机制和涂覆方法 的一个优选实施方案。

(1)清洁：

在由基材支架11保持后，将基材2在250℃加热到800℃。在此 期间，所有的源挡板保持关闭。通过从偏压电源9对基材施加脉冲偏 压，用离子使其清洁。

(2)涂覆硬薄膜B

在基材如此清洁后，将用于电弧源6和8的挡板15和17打开， 将基材涂覆上硬薄膜B。可根据DC溅射方法或DC-AIP方法形成硬 薄膜B。为形成薄膜所给的DC偏压优选为约10V至400V。或许， 也可利用双极脉冲偏压。在此阶段的频率优选在0.1kHz至300kHz的 范围内，正偏压优选在3V至100V的范围内。脉冲/暂停比可在0.1 至0.95的范围内。在硬薄膜B形成期间，驱动RF涂料源5和7，同 时保持挡板14和16关闭。这是为了从靶表面去除杂质，如氧化物。 在硬薄膜B形成后，打开挡板14和16，同时驱动RF涂料源5和7， 以开始下一薄膜形成。

(3)涂覆硬薄膜A：

从RF磁控管源5和7形成至少由CSiB组成的硬薄膜A。具体地 讲，RF磁控管源5和7优选为碳化硅和氮化硅的复合靶材料。通过 将乙炔等工艺气体经蒸气入口12提供到真空室10，硬薄膜A的表面 侧可含有较大量碳。优选在硬薄膜A中的碳含量在较接近表面侧的区 域中较高，这有助于增强薄膜的滑动特征。

涂层显示1500至3500的一般硬度，和-0.5至-3.5GPa的通过弯曲 试验对烧结碳化物测量的本征宏观应力(涂层厚度约1,5um)。

所有涂层为X-射线无定形。

如果单层薄膜A直接涂在基材上，则进行排除沉积薄膜B的类似 涂覆程序。另一个实例是在沉积薄膜A之前沉积金属中间层代替氮化 物涂层。

通过薄膜B和薄膜B的中间沉积，也可沉积具有多于两层的多层。 如果此时运行用于传统硬涂层(如AlTiN)的源(例如AIP)和用于薄膜A 的源(例如溅射源)，则通过将基材从薄膜B的源类型移到薄膜A的源 类型而产生纳米多层。

以下参考实施例描述本发明。

实施例1

为了评价本发明的硬薄膜A的物理性质，根据下述涂覆方法，用 含有3％重量或更多且小于12％重量Co含量的硬金属，将基材涂上硬 薄膜。在大多数研究情况下，首先沉积薄膜B。这样进行是要直接显 示此薄膜A在基材上保护的影响(而不是硬薄膜B)。

涂覆方法包括第一步骤，在500℃加热工具；第二步骤，通过对 其施加脉冲偏压而将工具离子清洁约30分钟，所述脉冲偏压具有 200V的负电压、30V的正电压、20kHz的频率和4的脉冲/暂停比； 第三步骤，用来自电弧源的(AlTi)N涂覆工具；第四步骤，通过使溅 射靶放电，使靶表面清洁，同时关闭挡板，同时保持用来自电弧源的 (AlTi)N涂覆工具；第五步骤，通过从RF磁控管源RF溅射涂层，用 摩尔混合比为1/3的BN/SiC靶，涂覆硬薄膜A；和第六步骤，除了对 其施加RF偏压外，通过对样品施加具有50V负电压的DC偏压，以 RF+DC涂覆硬薄膜A。根据以上第一步骤至第六步骤的方法，涂覆工 具。在第六步骤，将乙炔作为反应气体与进入的工艺气体Ar一起引 入室中作为Ar+C₂H₂混合气体，将比率控制为Fy/Fx＝0.05。最后，层 叠物结构包含以那个次序层叠的(AlTi)N和硬薄膜A，薄膜厚度为约 3μm。根据第一涂覆方法涂覆的样品为本发明的实施例1。在实施例1 中硬薄膜2的组成有多种变化，从而产生本发明的实施例2至实施例 36的样品。引入室的Ar+C₂H₂混合气体的比率(Fy/Fx)有多种变化，从 而产生本发明的实施例2至实施例7和35至36的样品。

那些实施例的细节显示于表1中。

表1：本发明的特殊实施方案和从本领域现状已知的实施例

通过表2，显示了表1中所给实施例的相应摩擦系数和氧化厚度。

表2：表1中所给实施例的摩擦系数和氧化厚度。本发明薄膜A 的涂层厚度约(600+/-100)nm。

除了表1中本发明的特殊实施方案外，也研究了本发明的多种涂 覆薄膜的单涂层性质，结果由实施方案I至V在表3中显示。

表3：本发明的另外实施方案。

在硬薄膜A的本发明的实施例1至实施例7中，控制Fy/Fx，因 此改变无定形碳的含量，结果Ix/Iy因而改变。另一方面，在实施例 35和实施例36中，选择Fy/Fx，以得到高碳含量，导致高Ix/Iy。在 比较实施例39至实施例41中，在薄膜形成中未使用基于烃的气体。 低碳含量直接由溅射混合靶(SiC/BN)引起。

为了评价本发明的薄膜A的滑动特征，通过使用球盘型摩擦试 验，试验本发明实施例和比较实施例的涂覆构件的摩擦系数。关于摩 擦系数的值，将从滑动开始到其结束的数据平均，成为试验样品的摩 擦系数。

在试验中，使用SUJ2的φ6-球材料，和通过涂覆ISO型号 SNMN120408(相当于K10)的烧结碳化物插入物而制备的盘，并且本 发明的薄膜A主要沉积在薄膜B。注意，摩擦性能取决于薄膜A，因 为薄膜A在摩擦试验期间从不完全磨损。

(试验条件)

滑动速度：100mm/秒

滑动半径：3.0mm

负荷：2N

滑动距离：50m

试验温度：室温，300℃，500℃

试验气氛：在空气中，无润滑

样品的试验结果显示于表2中。

表2和表3中摩擦系数的发现数据证明，薄膜A和由它产生的本 发明的多层薄膜涂覆的构件样品均具有在室温、在300℃和在500℃ μ＜0.3的摩擦系数，因此，具有优良的摩擦特征。这是由于在那些样 品中硬薄膜A的润滑性特征的效果。从这些结果了解，本发明的薄膜 涂覆构件具有在室温至500℃温度范围内μ≤0.3的摩擦系数。另一方 面，在比较实施例中，并非所有样品的摩擦系数都能为μ≤0.3。例如， 在比较实施例38中，在高温范围的摩擦系数为μ＜0.3，但在室温的摩 擦系数μ＝0.7，这是高的。这是因为，在高温环境，加入的元素硼显示 其润滑效果，但在室温范围，该元素不显示该效果。在比较实施例42 和43中，摩擦系数为μ＜0.1，并且在室温周围极低，但在高温范围， 摩擦系数对薄膜的石墨化和氧化不稳定。由于在较高温度(500℃)的高 波动，难以得到明确的摩擦值。

具有最高碳的样品35和36显示和标准DLC-涂层在500℃类似的 摩擦值。

然而，该涂层仍相对于标准DLC涂层显示一些优点，如后所示。

热处理本发明实施例和比较实施例的样品，并试验它们的抗氧化 性。用具有8％重量Co含量的超细微粒烧结碳化物合金的插入物作为 试验中的基材。在空气中在1000℃和58％湿度条件下，将样品保持2 小时，然后用冷空气流冷却。在热处理后，用扫描电子显微镜(以后称 为SEM)分析硬薄膜的横截面，从而测量氧化物层的厚度。氧化物层 厚度显示于表2和表3中。应提到，比较实施例42和43，作为没有 硼和硅的硬碳涂层，不能经受高氧化温度。具有高碳含量的实施例35 和36仍显示对氧化的良好稳定性。

为了证明薄膜A的优良耐热性，显示SEM(扫描电子显微镜)图像。

图4和图5为热处理后样品的SEM(扫描电子显微镜)图像。图4 为本发明实施例1的样品的SEM相片，图5为比较实施例38的样品 的SEM相片。比较实施例38的样品，作为在顶上具有TiSiN涂层的 硬涂层，具有在传统硬涂层组内的高温环境下优良的抗氧化性。在图 4和图5两者中，只有薄膜被氧化，基材未被氧化。在图4的本发明 实施例1的样品中，只有薄膜A的表面层被氧化，并且氧化物层的厚 度为100nm，或者说，氧化物层极薄。另一方面，在图5中本发明的 比较实施例38的样品中，氧化物层的厚度为900nm。

结果证明，本发明的薄膜具有高温环境下优良的抗氧化性。

工业实用性

总的来说，本发明提供具有优良的抗氧化性和润滑性特征的硬保 护性涂层的解决方法，因此，可应用于需要良好耐磨性和良好高温抗 氧化性的构件，如切割工具、模、成形工具、发动机部件、燃气涡轮 机等，也可应用于需要良好滑动特征的构件，如汽车发动机部件等。

除了由至少元素CSiB组成的单层薄膜外，也可沉积由传统硬涂 层加上由至少元素CSiB组成的薄膜组成的两层多层薄膜，以及各类 型多于一个单层的多层。由至少元素CSiB组成的薄膜和传统硬涂层 (例如，AlTiN或AlCrMgSiN)两者的各单层的厚度可以在纳米范围内。

[附图标记说明]

1 多层薄膜涂覆构件

2 基材

3 硬薄膜B

4 硬薄膜A

5 RF涂料源

6 电弧源

7 RF涂料源

8 电弧源

9 DC偏压电源或高频(RF)偏压电源

10 真空室

11 基材支架

12 蒸气入口或蒸气出口

13 涂覆装置

14 挡板

15 挡板

16 挡板

17 挡板