首页> 中国专利> 化合物半导体单晶体生长用容器以及使用其的化合物半导体单晶体的制造方法

化合物半导体单晶体生长用容器以及使用其的化合物半导体单晶体的制造方法

摘要

本发明提供在以VB法或VGF法制造化合物半导体单晶体中,不需要复杂的设备,可抑制结晶增径部的双晶、多晶体的产生,以高收率制造化合物半导体单晶体的单晶体生长用容器。在具有作为晶种容纳部的细径部、从该细径部向上方直径变大的增径部、以及从该增径部向上方延伸的作为晶体生长部的筒状的定径部的化合物半导体单晶体生长用容器中,该增径部内壁的构成角度大于等于120°且小于160°。

著录项

  • 公开/公告号CN1683606A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2005-10-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 日立电线株式会社;

    申请/专利号CN200510055428.7

  • 发明设计人 和地三千则;佐佐边博;山本俊辅;

    申请日2005-03-17

  • 分类号C30B15/10;

  • 代理机构11243 北京银龙知识产权代理有限公司;

  • 代理人钟晶

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2023-12-17 16:33:52

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-05-08

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C30B15/10 授权公告日:20070919 终止日期:20120317 申请日:20050317

    专利权的终止

  • 2007-09-19

    授权

    授权

  • 2005-12-14

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-10-19

    公开

    公开

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