近红外反射膜及使用其的近红外反射玻璃

摘要

本发明提供一种抑制在可见区域产生的脉动等的反射峰，在近红外区域显示优异的反射峰的近红外反射膜。所述近红外反射膜具有支承体和配置于所述支承体上的交替层叠有高折射率层和低折射率层的电介质多层膜，其中，任意所述高折射率层及与该高折射率层邻接的所述低折射率层满足1.1≥(dH×nH)/(dL×nL)﹥1或者1﹥(dH×nH)/(dL×nL)≥0.9(式中，dH表示高折射率层的厚度，nH表示高折射率层的折射率，dL表示低折射率层的厚度，nL表示低折射率层的折射率，dH×nH表示高折射率层的光学厚度，dL×nL表示低折射率层的光学厚度。)，所述电介质多层膜具有电介质膜组组合，所述电介质膜组组合包含第一电介质膜组和第二电介质膜组，所述第一电介质膜组包含高折射率层(折射率n1H、厚度d1H)及低折射率层(折射率n1L、厚度d1L)各自至少3层，所述第二电介质膜组包含与所述第一电介质膜组的支承体的相反面相接的高折射率层(折射率n2H、厚度d2H)及低折射率层(折射率n2L、厚度d2L)各自至少3层，此时，所述电介质膜组组合满足1.10≥d2H/d1H﹥1并且1.10≥d2L/d1L﹥1。

说明书

技术领域

本发明涉及一种红外反射膜及使用其的近红外反射玻璃。

背景技术

由太阳放射的光从紫外区域至红外光区域具有宽广的光谱。其中，红外 光占太阳光的约50％，该红外光主要被分类为波长接近可见光的近红外线(波 长约750～2500nm)、具有其以上的波长的中红外线(约2500～4000nm)及远红外 线(波长约4000nm以上)。这样的红外光(特别是近红外光)与紫外光相比时， 波长为长波长，因此，能量小，另一方面，热的作用大，被物质吸收时，以 热的形式放出，导致温度上升。由此，红外光也被称为热线，通过反射红外 光(特别是近红外光)，例如可以抑制室内的温度上升。

近年来，对节能对策的关注提高，进行了将反射上述近红外光的膜安装 于建筑物或车辆的窗玻璃来反射太阳光的热线的透射而减少对冷气设备所施 加的负荷的尝试。另一方面，如果这样的近红外反射膜也反射波长与近红外 光接近的可见光，则无法确保膜的透明性，膜发生着色。因此，可以说优选 选择性地反射近红外光且可见光透过的近红外反射膜。

作为这样的选择性地反射近红外光且使可见光透过的近红外反射膜，例 如在专利文献1中公开了一种在透明的平板玻璃上形成将低折射率的电介质 体膜和高折射率的电介质体膜交替层叠而成的近红外线反射膜而得到的近红 外线反射基板。所述近红外线反射膜的特征在于，至少在1面以4层以上且 11层以下层叠电介质体膜而成，形成有该近红外线反射膜的平板玻璃根据JIS  R3106-1998中所规定的可见光透过率为70％以上，在波长900nm至1400nm 的波长区域具有超过50％的反射的最大值。另外，对该近红外线反射膜而言， (1)将电介质体膜从平板玻璃面依次计数，将第偶数层的折射率的最大值设为 n_emax、最小值设为n_emin、第奇数层的折射率的最大值设为n_omax、最小值设为 n_omin时，满足n_emax<n_omin或者n_omax<n_emin的条件，及(2)将第i个层的折射率设 为n_i和厚度设为d_i时，相对于波长λ为900～1400nm范围的红外线满足225nm ≤n_i·d_i≤350nm的条件。

如上述专利文献1的段落“0029”～“0030”中记载那样，采用低折射率 的电介质体膜和高折射率的电介质体膜交替层叠而成的结构，通过产生电介 质体膜的干涉，可以反射近红外线(上述条件(1))。另外，为了反射期望的波 长的近红外光(900～1400nm)，重要的是将光程差(光学厚度)n_i·d_i设为所述期 望的波长的1/4(上述条件(2))。

在专利文献1中记载的近红外反射膜(近红外反射膜)中，在近红外区域出 现尖锐的反射峰，但有时在可见区域也出现反射峰(特别是根据波长的不同而 重复高反射及低反射的所谓被称为脉动的峰)。因此，不仅近红外光产生反射， 可见光也会产生反射，有时无法充分地确保红外反射膜的透明性。

因此，正在研究在保持近红外区域的反射峰的同时防止在可见区域产生 反射峰的方法。例如在专利文献2中公开了一种在透明基板上形成将由高折 射率材料构成的高折射率薄膜和由低折射率材料构成的低折射率薄膜交替层 叠多层而成的多层膜的红外线截止滤光片。此时，所述多层膜由16层以上且 32层以下的所述薄膜的层构成，自所述多层膜的所述透明基板侧开始第一层 为所述高折射率薄膜，所述多层膜的最终层为所述低折射率薄膜。而且，特 征在于，将设计波长设为λ时，自所述多层膜的所述透明基板侧开始第一层 及第二层以(λ/4)以上的光学厚度成膜，自所述多层膜的所述透明基板侧第三 层至规定的层以(λ/4)以下的光学厚度成膜，所述规定的层和所述最终层之间 的层以(λ/4)以上的光学厚度成膜，所述最终层以(λ/4)以下的光学厚度成膜。 即，将构成红外线截止滤光片的多层膜分类为4个层组，关于该4个层组， 分别将光学厚度的值自λ/4错开。关于红外线截止滤光片，根据专利文献2 的记载，可以得到从波长550nm至750nm透过率逐渐减少的透过率特性，可 抑制在可见区域产生脉动。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平06-194517号公报

专利文献2：日本特开2004-309934号公报

发明内容

发明所要解决的课题

根据上述专利文献1中记载的近红外线反射基板，虽然可得到尖锐的近 红外反射峰，但可产生脉动。另外，根据上述专利文献2记载的红外线截止 滤光片，虽然可抑制脉动，但由于具有从波长550nm至750nm透过率逐渐减 少的透过率特性，因此，成为带红色的膜，另外，有时关于脉动抑制效果也 不一定充分。

因此，本发明的目的在于，提供一种抑制在可见区域产生的脉动等反射 峰，显示优异的近红外区域的反射峰的近红外反射膜。

用于解决课题的技术方案

本发明人进行了潜心研究，结果发现，通过错开构成近红外反射膜的高 折射率层及低折射率层的光学厚度，且控制高折射率层及低折射率层的厚度， 可得到显示适当的反射峰的近红外反射膜，以至完成了本发明。

即，本发明的上述课题可通过以下的技术方案来实现。

(1)一种近红外反射膜，其具有支承体和配置于所述支承体上的电介质多 层膜，所述电介质多层膜交替层叠有高折射率层和低折射率层，其中，任意 的所述高折射率层及与该高折射率层邻接的所述低折射率层满足

[数学式1]

1.1≥(dH×nH)/(dL×nL)﹥1或者1﹥(dH×nH)/(dL×nL)≥0.9

(式中，dH表示高折射率层的厚度，nH表示高折射率层的折射率，dL表 示低折射率层的厚度，nL表示低折射率层的折射率，dH×nH表示高折射率层 的光学厚度，dL×nL表示低折射率层的光学厚度)，

所述电介质多层膜具有包含第一电介质膜组和第二电介质膜组的电介质 膜组组合，所述第一电介质膜组包含高折射率层(折射率n₁H、厚度d₁H)及低 折射率层(折射率n₁L、厚度d₁L)各自至少3层，所述第二电介质膜组包含与 所述第一电介质膜组的支承体的相反面相接的高折射率层(折射率n₂H、厚度 d₂H)及低折射率层(折射率n₂L、厚度d₂L)各自至少3层，

此时，所述电介质膜组组合满足

[数学式2]

1.10≥d₂H/d₁H﹥1并且1.10≥d₂L/d₁L﹥1。

(2)根据(1)所述的近红外反射膜，其中，所述第一电介质膜组的高折射率 层的光学厚度(d₁H×n₁H)及低折射率层的光学厚度(d₁L×n₁L)满足

[数学式3]

1.06≥(d₁H×n₁H)/(d₁L×n₁L)﹥1或者1﹥(d₁H×n₁H)/(d₁L×n₁L)≥0.94，

和/或

所述第二电介质膜组的高折射率层的光学厚度(d₂H×n₂H)及低折射率层 的光学厚度(d₂L×n₂L)满足

[数学式4]

1.06≥(d₂H×n₂H)/(d₂L×n₂L)﹥1或者1﹥(d₂H×n₂H)/(d₂L×n₂L)≥0.94。

(3)根据(1)或(2)所述的近红外反射膜，其中，所述第一电介质膜组的高折 射率层的光学厚度(d₁H×n₁H)及所述第二电介质膜组的高折射率层的光学厚 度(d₂H×n₂H)满足

[数学式5]

1.10≥(d₂H×n₂H)/(d₁H×n₁H)﹥1.06，

和/或

所述第一电介质膜组的低折射率层的光学厚度(d₁L×n₁L)及所述第二电介 质膜组的低折射率层的光学厚度(d₂L×n₂L)满足

[数学式6]

1.10≥(d₂L×n₂L)/(d₁L×n₁L)﹥1.06。

(4)根据(1)～(3)中任一项所述的近红外反射膜，其具有2个以上的所述电 介质膜组组合。

(5)根据(1)～(4)中任一项所述的近红外反射膜，其中，任意的所述高折射 率层的折射率nH和与该高折射率层邻接的至少1层所述低折射率层的折射率 nL之比满足

[数学式7]

2﹥nH/nL≥1.1。

(6)根据(1)～(5)中任一项所述的近红外反射膜，其中，所述电介质多层膜 含有树脂。

(7)根据(6)所述的近红外反射膜，其中，所述电介质多层膜还含有金属氧 化物粒子。

(8)一种近红外反射玻璃，其是在玻璃板表面贴合(1)～(7)中任一项所述的 近红外反射膜而成的。

发明的效果

根据本发明，可提供一种能够抑制在可见区域产生的脉动等反射峰、并 且示出优异的近红外区域反射峰的近红外反射膜。

附图说明

图1是示意性地示出一实施方式的近红外反射膜的剖面概略图；

图2是表示实施例1中制造的红外反射膜的反射峰的图表；

图3是表示比较例1中制造的红外反射膜的反射峰的图表；

图4是表示比较例3中制造的红外反射膜的反射峰的图表；

图5是表示实施例2中制造的红外反射膜的反射峰的图表；

图6是表示比较例5中制造的红外反射膜的反射峰的图表；

图7是表示实施例6中制造的红外反射膜的反射峰的图表；

图8是表示实施例7中制造的红外反射膜的反射峰的图表；

图9是表示实施例8中制造的红外反射膜的反射峰的图表；

图10是表示比较例8中制造的红外反射膜的反射峰图表。

符号说明

1 近红外反射膜、

2 支承体、

3 电介质多层膜、

4 低折射率层、

5 高折射率层、

6 第一电介质膜组、

7 第二电介质膜组、

8 电介质膜组组合。

具体实施方式

本发明的一实施方式涉及一种近红外反射膜，其具有支承体和配置于上 述支承体上的交替层叠有高折射率层和低折射率层的电介质多层膜。此时， 近红外反射膜的特征在于，任意的上述高折射率层及与该高折射率层邻接的 上述低折射率层满足下述式。

[数学式8]

1.1≥(dH×nH)/(dL×nL)﹥1或者1﹥(dH×nH)/(dL×nL)≥0.9

此时，在上述式中，dH表示高折射率层的厚度，nH表示高折射率层的 折射率，dL表示低折射率层的厚度，nL表示低折射率层的折射率，dH×nH 表示高折射率层的光学厚度，dL×nL表示低折射率层的光学厚度。

另外，上述电介质多层膜的特征在于，具有包含第一电介质膜组和第二 电介质膜组的电介质膜组组合，所述第一电介质膜组包含高折射率层(折射率 n₁H、厚度d₁H)及低折射率层(折射率n₁L、厚度d₁L)各自至少3层，所述第二 电介质膜组包含与所述第一电介质膜组的支承体的相反面相接的高折射率层 (折射率n₂H、厚度d₂H)及低折射率层(折射率n₂L、厚度d₂L)各自至少3层， 此时，上述电介质膜组组合满足下述式。

[数学式9]

1.10≥d₂H/d₁H﹥1并且1.10≥d₂L/d₁L﹥1

以下，参照附图对本实施方式进行说明，但本发明的技术范围应基于权 利要求书的记载确定，并不受以下实施方式的限制。另外，附图的尺寸比率 为了方便说明被夸大，有时与实际之比率不同。

<近红外反射膜>

图1是示意性地示出一实施方式的近红外反射膜的剖面概略图。根据图 1，近红外反射膜1在由聚碳酸酯制成的支承体2上配置有电介质多层膜3。 此时，上述电介质多层膜3采用下述结构：由氟化镁(MgF₂)溅射而成的低折 射率层4和由氧化钛(TiO₂)溅射而成的高折射率层5交替层叠总计12层。因 此，从支承体2开始数，第奇数层为低折射率层4，第偶数层为高折射率层5。 上述低折射率层的折射率(nL)为1.33，上述高折射率层的折射率(nH)为2.70， 另外，上述低折射率层的厚度(nL)从支承体2开始数，第1、3、5层为197nm， 第7、9、11层为211nm。另一方面，上述高折射率层的厚度(dH)从支承体2 开始数，第2、4、6层为102nm，第8、10、12层为109nm。此时，关于任 意的高折射率层及与该高折射率层邻接的低折射率层、例如从支承体开始数 第2层的高折射率层及第3层的低折射率层的光学厚度(折射率×厚度)，高折 射率层的光学厚度(nH×dH)为275，低折射率层的光学厚度(nL×dL)为262，因 此，其比(nH×dH)/(nL×dL)为1.05。另外，关于从支承体开始数第8层的高折 射率层及第9层的低折射率层的光学厚度(折射率×厚度)，高折射率层的光学 厚度(nH×dH)为294，低折射率层的光学厚度(nL×dL)为281，因此，其比 (nH×dH)/(nL×dL)为1.05。

另外，上述电介质多层膜具有电介质膜组组合8，其由2个电介质膜组、 即(1)均具有相同的折射率(n₁H：2.70)、厚度(d₁H：102nm)的高折射率层、及 均具有相同的折射率(n₁L：1.33)、厚度(d₁L：197nm)的低折射率层各自层叠3 层而成的第一电介质膜组6；以及(2)与上述第一电介质膜组的支承体的相反 面相接且均具有相同的折射率(n₂H：2.70)、厚度(d₂H：109nm)的高折射率层、 及均具有相同的折射率(n₂L：1.33)、厚度(d₂L：211nm)的低折射率层各自层叠 3层而成的第二电介质膜组7构成。此时，在上述电介质膜组组合8中，第一 电介质膜组6及第二电介质膜组7之间的高折射率层间的厚度之比(d₂H/d₁H) 为1.07，低折射率层间的厚度之比(d₂L/d₁L)为1.07。

进而，从构成电介质膜组组合8的第一电介质膜组和第二电介质膜组的 关系来看，第二电介质膜组的高折射率层的光学厚度相对于第一电介质膜组 的高折射率层的光学厚度之比(d₂H×n₂H/d₁H×n₁H)为1.07，第二电介质膜组的 低折射率层的光学厚度相对于第一电介质膜组的低折射率层的光学厚度之比 (d₂L×n₂L/d₁L×n₁L)为1.07。

根据图1的近红外反射膜1，可抑制在可见区域产生的脉动等反射峰，显 示优异的近红外区域的反射峰。

以下，对本实施方式的近红外反射膜的各构成详细地进行说明。

<支承体>

作为应用于本发明的红外反射膜的支承体，只要为透明就没有特别限制， 可以使用公知的树脂膜。具体而言，可以举出：聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚 苯乙烯(PS)、聚芳酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚酰胺、聚碳酸酯(PC)、聚对苯二 甲酸乙二醇酯(PET)、对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、 聚砜、聚醚砜、聚醚醚酮、聚酰亚胺、芳香族聚酰胺、聚醚酰亚胺等。其中， 从成本及容易获得的观点考虑，优选使用聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘 二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚碳酸酯(PC)等。

另外，支承体优选JIS R3106-1998所示的可见区域的透过率为85％以上， 更优选为90％以上。如果支承体的可见光透过率为85％以上，则制成近红外 反射膜时的JIS R3106-1998所示的可见区域的透过率可以为50％以上，故优 选。

另外，使用上述树脂膜的支承体可以为未拉伸膜，也可以为拉伸膜，但 在具有如PET或PEN那样的结晶性的树脂膜的情况下，从强度的提高、热膨 胀抑制的观点考虑，优选为在拉伸后被热固定化的膜。

使用上述树脂膜的支承体可以通过现有公知的一般的方法来制造。例如 可以通过利用挤出机熔融作为材料的树脂，通过环状模头或T模头挤出并骤 冷，制造实质上无定形且未取向的未拉伸的基材。另外，可以通过利用单轴 拉伸、拉幅机式逐次双轴拉伸、拉幅机式同时双轴拉伸、管式同时双轴拉伸 等公知的方法沿树脂膜的流动(纵轴)方向和/或与树脂膜的流动方向垂直(横轴) 方向拉伸上述未拉伸膜来制造拉伸膜。此时的拉伸倍率可以根据作为支承体 的原料的树脂适宜选择，纵轴方向及横轴方向分别优选为2～10倍。

本发明的支承体的厚度优选为5～300μm，更优选为15～150μm。另外，支 承体可以重叠2张以上，此时，支承体的种类可以相同，也可以不同。

另外，从尺寸稳定性的方面考虑，支承体可以进行松弛处理、离线热处 理。松弛处理优选在上述树脂膜的拉伸制膜工序中的热固定后直到横向拉伸 的拉幅机内或离开拉幅机后的卷绕的工序中进行。松弛处理优选在处理温度 80～200℃下进行，更优选在100～180℃下进行。另外，长度方向、宽度方向 均优选在松弛率0.1～10％下进行处理，更优选在2～6％下进行处理。经过松弛 处理的支承体通过实施离线热处理使耐热性提高，进而，尺寸稳定性更进一 步提高。

上述支承体优选在制膜过程中在单面或两面设置底涂层。该底涂层可通 过在线或制膜后形成。作为底涂层的形成方法，例如可以举出：涂布底涂层 涂布液并将得到的涂膜干燥的方法。底涂层涂布液通常含有树脂。作为该树 脂，例如可以举出：聚酯树脂、丙烯酸改性聚酯树脂、聚氨酯树脂、丙烯酸 树脂、乙烯基树脂、偏氯乙烯树脂、聚乙烯亚胺亚乙烯基树脂、聚苯乙烯丁 二烯树脂、聚乙烯亚胺树脂、聚乙烯醇树脂、及明胶等。上述底涂层涂布液 中也可以进一步加入公知的添加剂。底涂层涂布液的涂布量优选在干燥状态 下以成为约0.01～2g/m²的方式进行涂布。作为底涂层涂布液的涂布方法，没 有特别限制，可使用辊涂法、凹版涂布法、刀涂法、浸渍涂布法、喷涂法等 公知的方法。得到的涂膜可以进行拉伸，通常、在涂布涂布液后在拉幅机内 一边进行横向拉伸一边在80～120℃下干燥，由此可形成底涂层。另外，底涂 层可以为单层结构，也可以为层叠结构。

本发明的支承体可进一步具有导电性层、防静电层、阻气层、易粘接层(粘 接层)、防污层、除臭层、流滴层、易滑层、硬涂层、耐磨性层、防反射层、 电磁波屏蔽层、紫外线吸收层、红外线吸收层、印刷层、荧光发光层、全息 层、剥离层、粘合层、着色层(可见光线吸收层)、夹层玻璃中所利用的中间膜 层等功能层。

在支承体具有上述底涂层或功能层等中间层的情况下，支承体及中间层 的总膜厚优选为5～500μm，更优选为25～250μm。

<电介质多层膜>

电介质多层膜具有将高折射率层和低折射率层交替层叠而成的构成。通 过采用将具有不同的折射率的折射率层交替层叠而成的构成，在从基板侧或 电介质多层膜侧照射近红外光的情况下，可至少反射红外光的一部分而发挥 红外反射效果。

[折射率层：高折射率层及低折射率层]

在本实施方式中，电介质多层膜将具有不同的折射率的高折射率层及低 折射率层交替层叠而成。构成电介质多层膜的高折射率层及低折射率层可分 别相同，也可以不同。构成电介质多层膜的折射率层为高折射率层或低折射 率层可通过与邻接的折射率层的折射率的对比来判断。具体而言，以某折射 率层作为基准层时，如果与该基准层邻接的折射率层的折射率比基准层低， 则判断基准层为高折射率层(邻接层为低折射率层)。另一方面，如果邻接层的 折射率比基准层高，则判断基准层为低折射率层(邻接层为高折射率层)。因此， 折射率层为高折射率层或低折射率层是通过与邻接层所具有的折射率的关系 而确定的相对的层，某折射率层通过与邻接层的关系也可成为高折射率层或 低折射率层。因此，以下，对可含有两者的折射率层的构成详细地进行说明。

作为折射率层没有特别限定，优选使用该技术领域中所使用的公知的折 射率层。作为公知的折射率层，例如可以举出：使用干式制膜法形成的折射 率层、通过树脂的挤出成形形成的折射率层和使用湿式制膜法形成的折射率 层。

(使用干式成膜法形成的折射率层)

在干式成膜法中，通过对电介质体材料进行蒸镀等来形成折射率层。

可用于干式成膜法的材料没有特别限制，但优选为透明的电介质体材料。 作为透明的电介质体材料的例子，可以举出：氧化钛(TiO₂)、氧化锌(ZnO)、 氧化锆(ZrO₂)、氧化铌(Nb₂O₅)、氧化铝(Al₂O₃)、氧化硅(SiO₂)、氟化钙(CaF₂)、 氟化镁(MgF₂)、氧化铟锡(ITO)、氧化锑锡(ATO)等。其中，优选使用氧化钛、 氧化锌、氧化硅、及氟化镁。

在干式成膜法中，优选的高折射率层-低折射率层的材料的组合为氧化钛 -氧化硅、氧化钛-氟化镁、及氧化锌-氧化硅。

(通过树脂的挤出成形形成的折射率层)

作为通过树脂的挤出成形形成的折射率层的形成方法，例如可以举出： 将树脂熔融而得到的熔融树脂多层挤出，从模头挤出在浇铸鼓上后，进行骤 冷的方法。此时，也可以在熔融树脂的挤出冷却后将树脂片材进行拉伸。作 为树脂的拉伸倍率，可以根据树脂适宜选择，但优选沿纵轴方向及横轴方向 分别为2～10倍。

作为上述树脂，只要为热塑性树脂就没有特别限定，例如可以举出：聚 亚烷基系树脂、聚酯系树脂、聚碳酸酯系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂、酰胺系 树脂、硅酮系树脂、氟系树脂等。

作为上述聚亚烷基系树脂，可以举出：聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)等。

作为上述聚酯系树脂，可以举出以二羧酸成分和二醇成分为主要的构成 成分的聚酯树脂。此时，作为上述二羧酸成分，可以举出：对苯二甲酸、间 苯二甲酸、邻苯二甲酸、2,6-萘二羧酸、2,7-萘二羧酸、二苯基砜二羧酸、二 苯基醚二羧酸、二苯基乙烷二羧酸、环己烷二羧酸、二苯基二羧酸、二苯基 硫醚二羧酸、二苯基酮二羧酸、苯基茚满二羧酸等。另外，作为上述二醇成 分，可以举出：乙二醇、丙二醇、四亚甲基二醇、1,4-丁二醇、环己烷二甲醇、 2,2-双(4-羟基苯基)丙烷、2,2-双(4-羟基乙氧基苯基)丙烷、双(4-羟基苯基)砜、 双酚芴二羟基乙醚、二乙二醇、新戊二醇、氢醌、环己烷二醇等。其中，优 选为聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)、聚-1,4-对苯 二甲酸环己烷饿甲醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)。

作为上述聚碳酸酯系树脂，可以举出：双酚A活作为其衍生物的双酚类 和碳酰氯或二碳酸苯酯的反应物等。

作为上述(甲基)丙烯酸系树脂，可以举出：丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯腈、 甲基丙烯腈、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲 基)丙烯酸-2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯 酸羟基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-乙氧基乙酯、(甲 基)丙烯酸-2-丁氧基乙酯、(甲基)丙烯酰胺、N-甲基(甲基)丙烯酰胺、N-乙基(甲 基)丙烯酰胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯酰胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯酰胺、N- 异丙基(甲基)丙烯酰胺、N-叔辛基(甲基)丙烯酰胺等均聚物或共聚物。

作为上述酰胺系树脂，可以举出：6,6-尼龙、6-尼龙、11-尼龙、12-尼龙、 4,6-尼龙、6,10-尼龙、6,12-尼龙等脂肪族酰胺系树脂；由亚苯基二胺等芳香族 二胺和对苯二甲酰氯或间苯二甲酰氯等芳香族二羧酸或其衍生物构成的芳香 族聚酰胺等。

作为上述硅酮系树脂，可以举出：包含具有烷基、芳香族基团等有机基 团的硅氧烷键作为构成单元的树脂。作为上述烷基，没有特别限制，可以举 出：甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、 己基等。另外，作为上述芳香族基，没有特别限制，可以举出：苯基、甲苯 基、二甲苯基、苄基等。其中，优选具有甲基和/或苯基，更优选二甲基聚硅 氧烷、甲基苯基聚硅氧烷、二苯基聚硅氧烷、及它们的改性体。

作为上述氟系树脂，可以举出：四氟乙烯、六氟乙烯、三氟氯乙烯、偏 氟乙烯、氟乙烯、全氟烷基乙烯基醚等均聚物或共聚物等。

上述的树脂可以单独使用，也可以混合使用2种以上。

在使用熔融树脂的挤出成形的折射率层的形成中，作为优选的高折射率 层-低折射率层的材料的组合，可以举出PET-PEN等。

(使用湿式成膜法形成的折射率层)

在湿式成膜法中，可通过将涂布液依次涂布并干燥的方法、将涂布液叠 层涂布并干燥的方法等来形成折射率层。

作为上述涂布液中所含的材料，可以举出：树脂。

作为上述树脂，只要可溶解于溶剂就没有特别限制，例如可以举出：聚 酯系树脂、聚碳酸酯系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂、酰胺系树脂、硅酮系树脂、 氟系树脂、含硅聚合物、聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯烷酮、聚环氧乙烷、纤维 素系树脂、明胶类、增粘多糖类等。

上述树脂中，可优选使用的树脂的具体例如下所述。

作为上述含硅聚合物，例如可以举出：聚碳硅烷、聚聚有机硼硅氮烷、 聚金属氧烷、聚硼硅氧烷、聚碳硅氮烷等。

作为上述聚乙烯醇，可以举出：未改性聚乙烯醇及改性聚乙烯醇。

未改性聚乙烯醇的平均聚合度从柔软性及耐久性的观点考虑，优选为 200～4000，更优选为500～3000，进一步优选为1000～2500。另外，未改性聚 乙烯醇的皂化度优选为约60～100摩尔％，更优选为78～99.8摩尔％，进一步 优选为80～96摩尔％。这样的皂化聚乙烯醇可通过将醋酸乙烯酯进行自由基 聚合并对得到的聚醋酸乙烯酯适宜进行皂化来制造。此时，期望的未改性聚 乙烯醇可通过其自身公知的方法适宜控制聚合度、皂化度来制造。上述部分 皂化聚乙烯醇也可以使用市售品。作为市售的未改性聚乙烯醇，例如可以举 出：Gohsenol EG05、EG25(日本合成化学工业株式会社制)、PVA203(株式会 社可乐丽制)、PVA204(株式会社可乐丽制)、PVA205(株式会社可乐丽制)、 JP-04(JAPAN VAM&POVAL CO.,LTD.制)、JP-05(JAPAN VAM&POVAL  CO.,LTD.制)等。

改性聚乙烯醇为对上述的未改性聚乙烯醇实施了1或2种以上任意的改 性处理的改性聚乙烯醇。例如可以举出：胺改性聚乙烯醇、乙烯改性聚乙烯 醇、羧酸改性聚乙烯醇、二丙酮改性聚乙烯醇、硫醇改性聚乙烯醇、缩醛改 性聚乙烯醇等。另外，也可以使用将末端阳离子改性而成的聚乙烯醇或具有 阴离子性基团的阴离子改性聚乙烯醇、及非离子改性聚乙烯醇等改性聚乙烯 醇。其中，优选缩醛改性聚乙烯醇。

作为缩醛改性聚乙烯醇，可以举出：聚乙烯醇缩甲醛、聚乙烯醇缩乙醛、 聚乙烯醇缩丙醛、聚乙烯醇丁缩醛(聚乙烯醇缩丁醛)、聚乙烯醇缩戊醛、聚乙 烯醇缩己醛、聚乙烯醇缩庚醛、聚乙烯醇缩2-乙基己醛、聚乙烯醇缩环己醛、 聚乙烯醇缩戊二醛、聚聚乙烯醇缩苯甲醛、聚乙烯醇缩2-甲基苯甲醛、聚乙 烯基醇缩3-甲基苯甲醛、聚乙烯醇缩4-甲基苯甲醛、聚乙烯醇缩对羟基苯甲 醛、聚乙烯醇缩间羟基苯甲醛、聚乙烯醇缩苯乙醛、聚乙烯醇缩-β-苯丙醛等。 其中，优选使用用C1～C5醛(甲醛、乙醛、丙醛、丁醛、戊醛等)进行了缩醛 化的聚乙烯醇、即聚乙烯醇缩甲醛、聚乙烯醇缩乙醛、聚乙烯醇缩丙醛、聚 乙烯醇丁缩醛、聚乙烯醇缩戊醛，更优选用C2～C4醛进行了缩醛化的聚乙烯 醇、即聚乙烯醇缩甲醛、聚乙烯醇缩乙醛、聚乙烯醇缩丙醛、聚乙烯醇缩丁 缩醛。

缩醛改性聚乙烯醇的缩醛化度优选为40～85摩尔％，更优选为55～80摩 尔％，进一步优选为60～75摩尔％。该缩醛化度可通过使用FT-IR(堀场制作所 公司制、FREEEXACT-II、FT-720)的红外吸收光谱(IR)法来测定。另外，羟基 量从粘接性及柔软性等观点考虑，优选为15～35摩尔％。

缩醛改性聚乙烯基缩醛的质均分子量优选为90000～400000，更优选为 90000～370000，进一步优选为90000～340000。需要说明的是，在本说明书中， 所谓质均分子量是指通过使用TSKgel GMHxL、TSKgel G4000HxL或TSKgel  G2000HxL(东曹株式会社制)的柱凝胶渗透色谱(GPC)分析装置(溶剂：四氢呋 喃(THF))，以利用差示折射仪检测得到的聚苯乙烯换算表示的分子量。

缩醛改性聚乙烯醇可以用C1～C10的醛对未改性聚乙烯醇进行缩醛化而 得到。作为上述C1～C10的醛，没有特别限定，可以举出：甲醛、乙醛、丙 醛、丁醛、戊醛、己醛、庚醛、2-乙基己醛、环己醛、糠醛、乙二醛、戊二 醛、苯甲醛、2-甲基苯甲醛、3-甲基苯甲醛、4-甲基苯甲醛、对羟基苯甲醛、 间羟基苯甲醛、苯基乙醛、β-苯基丙醛等。其中，优选为甲醛、乙醛、丙醛、 丁醛、戊醛等C1～C5的醛，更优选为乙醛、丙醛、丁醛等C2～C4的醛。该醛 可以单独使用，也可以混合使用2种以上。

这些改性聚乙烯醇可以使用市售品，或者通过该领域中公知的方法制造 的改性聚乙烯醇。例如，作为市售的缩醛改性聚乙烯醇，可使用Denka butyral  3000-1、5000-A、6000-C、6000-CS(电气化学工业株式会社制)、S-LEC BX-1、 BX-5、KS-5(积水化学工业株式会社制)等。

上述聚乙烯基吡咯烷酮为N-乙烯基-2-吡咯烷酮的聚合物。上述聚乙烯基 吡咯烷酮的粘均分子量优选为5000～800000，更优选为10000～630000，进一 步优选为15000～340000。

上述聚环氧乙烷为环氧乙烷的聚合物。聚环氧乙烷的质均分子量优选为 1000～800000，更优选为5000～630000，进一步优选为10000～340000。

作为上述纤维素系树脂，可以举出：内部塑化纤维素树脂、及外部塑化 纤维素树脂，优选使用内部塑化纤维素树脂。

作为内部塑化纤维素树脂，可以举出：纤维素酯、纤维素氨基甲酸酯、 纤维素醚等。

作为纤维素酯，可以举出：有机酸酯及无机酸酯。该纤维素酯也可以为 上述有机酸和无机酸的混合酸酯。

作为有机酸酯，可以举出：纤维素烷基羧酸酯、及纤维素芳香族羧酸酯。 作为上述纤维素烷基羧酸酯，纤维素乙酸酯、纤维素丙酸酯、纤维素丁酸酯、 纤维素戊酸酯、纤维素己酸酯、纤维素乙酸酯丙酸酯、纤维素乙酸酯丁酸酯、 纤维素乙酸酯戊酸酯、纤维素乙酸酯己酸酯等纤维素C2～C6烷基酯；甲基纤 维素乙酸酯、乙基纤维素乙酸酯等C1～C6烷基纤维素C2～C6烷基酯；二氯甲 基纤维素乙酸酯、三氯甲基纤维素丙酸酯、三氟甲基纤维素乙酸酯等的C1～C6 ハロ烷基纤维素C1～C6烷基酯等。另外，作为上述纤维素芳香族羧酸酯，可 以举出：纤维素邻苯二甲酸酯、纤维素苯甲酸酯、纤维素-4-甲基苯甲酸酯等 纤维素C7～C12芳香族酯等。另一方面，作为无机酸酯，可以举出：磷酸纤 维素、硫酸纤维素等。其中，从透明性的观点考虑，优选为纤维素C2～C6烷 基酯，更优选为纤维素乙酸酯丙酸酯、纤维素乙酸酯丁酸酯、纤维素乙酸酯 戊酸酯、纤维素乙酸酯己酸酯等乙酰基C3～C6酰基纤维素。

作为纤维素氨基甲酸酯，可以举出：纤维素乙基氨基甲酸酯等纤维素 C1～C6烷基氨基甲酸酯；纤维素苯基氨基甲酸酯等纤维素C6～C12芳基氨基 甲酸酯；乙基纤维素丙基氨基甲酸酯等C1～C6烷基纤维素C1～C6烷基氨基甲 酸酯(纤维素醚氨基甲酸酯)；乙基纤维素苯基氨基甲酸酯等C1～C6烷基纤维 素C6～C12芳基氨基甲酸酯(纤维素醚氨基甲酸酯)等。其中，优选使用乙基纤 维素苯基氨基甲酸酯等C1～C6烷基纤维素C6～C12芳基氨基甲酸酯(纤维素醚 氨基甲酸酯)。

作为纤维素醚，可以举出：甲基纤维素、乙基纤维素、丙基纤维素、戊 基纤维素等C1～C10烷基纤维素；氰基乙基纤维素、氰基丙基纤维素等氰基 C1～C10烷基纤维素；苄基纤维素等C6～C12芳基-C1～C4烷基纤维素(芳烷基 纤维素)等。其中，优选氰基乙基纤维素、氰基丙基纤维素等氰基C1～C10烷 基纤维素。

上述纤维素系树脂中，优选使用纤维素酯、纤维素醚，更优选使用纤维 素酯。

作为纤维素系树脂的平均聚合度，没有特别限定，优选为50～8000，更 优选为100～7000，进一步优选为200～6000。另外，纤维素系树脂的平均取代 度优选为1～3，更优选为1.3～3，进一步优选为1.5～3，特别优选为2～3。另外， 乙酰基C3～C6酰基纤维素中的乙酰基和C3～C6酰基之比例，优选为乙酰基 /C3～C6酰基(摩尔比)＝90/10～5/95，更优选为70/30～10/90，进一步优选为 50/50～15/85。

纤维素系树脂可以使用通过公知的方法合成的纤维素系树脂，也可以使 用市售的纤维素系树脂。作为合成纤维素系树脂的方法，可以举出：(a)使纤 维素与羧酸、醇、异氰酸酯等反应，进行内部塑化的方法；(b)在纤维素中添 加增塑剂进行外部塑化的方法；(c)组合上述(a)及上述(b)的方法。

作为上述明胶类，可以举出目前在卤化银照片感光材料领域中所广泛使 用的各种明胶，更详细而言，可以举出：酸处理明胶、碱处理明胶、酶处理 明胶及它们的衍生物。关于明胶的一般的制造法是熟知的，例如可以参考 T.H.James：The Theory of Photographic Process 4th.ed.1977(Macmillan)55项、 科学照片便览(上)72～75项(丸善)、照相工学基础-银盐照相编119～124页 (CORONA公司)等的记载。另外，可以举出Research Disclosure志第176卷、 No.17643(1978年12月)的IX页中所记载的明胶。

作为上述增粘多糖类没有特别限制，可以举出：一般抑制的天然简单多 糖类、天然复合多糖类、合成简单多糖类及合成复合多糖类等。具体而言， 果胶、半乳聚糖(例如琼脂糖、琼脂胶等)、半乳甘露聚糖(例如刺槐豆胶、瓜 尔胶等)、木葡聚糖(例如罗望子胶、罗望多糖等)、葡甘露聚糖(例如魔芋甘露 聚糖、源自木材的葡甘露聚糖、黄原胶等)、半乳葡甘露聚糖(例如源自针叶树 材的聚糖)、阿拉伯半乳聚糖(例如源自大豆的聚糖、源自微生物的聚糖等)、 葡糖鼠李聚糖(例如结冷胶等)、糖胺聚糖(例如透明质酸、硫酸角质素等)、海 藻酸及海藻酸盐、琼脂、κ-卡拉胶、λ-卡拉胶、ι-卡拉胶、红藻胶等源自红藻 类的天然高分子多糖类、羧甲基纤维素、羟乙基纤维素、甲基纤维素等纤维 素类。

上述树脂中，优选改性聚乙烯醇(特别是缩醛改性聚乙烯醇)、纤维素树脂。

上述的树脂可以单独使用，也可以混合使用2种以上。

上述涂布液中也可以与上述树脂一同含有金属氧化物粒子。

作为可使用的金属氧化物粒子，没有特别限定，可以举出可用于干式成 膜法的电介质体材料等。其中，优选使用氧化钛(TiO₂)、氧化硅(SiO₂)。

作为上述氧化钛(TiO₂)，没有特别限定，优选催化活性低的金红石型的氧 化钛。另外，如果催化活性低，则可抑制折射率层或邻接的层中产生的副反 应(光催化反应)，耐气候性变高。

另外，上述氧化钛优选使用pH为1.0～3.0且钛粒子的Ζ电位为正的水系 的氧化钛溶胶的对表面进行疏水化而形成可分散于有机溶剂的状态的溶液。 上述水系的氧化钛溶胶的制备方法例如可以参照日本特开昭63-17221号公 报、日本特开平7-819号公报、日本特开平9-165218号公报、日本特开平 11-43327号公报、日本特开昭63-17221号公报、日本特开平7-819号公报、 日本特开平9-165218号公报、日本特开平11-43327号公报等中所记载的事项。

另外，关于氧化钛粒子的其它的制造方法，例如可以参考“氧化钛-物性 和应用技术”清野学p255～258(2000年)技报堂出版株式会社)中记载的方法或 WO2007/039953号说明书的段落0011～0023中记载的工序(2)的方法。利用上 述工序(2)的制造方法为：对二氧化钛水合物用选自由碱金属的氢氧化物或碱 土类金属的氢氧化物构成的组中的至少1种碱性化合物进行处理(工序(1))， 将由此得到的二氧化钛分散物用含羧酸基的化合物及无机酸进行处理。在本 发明中，可以使用通过工序(2)中的无机酸将pH调整为1.0～3.0的氧化钛的水 系溶胶。

作为上述氧化硅(SiO₂)，可以举出：合成非晶形二氧化硅、胶体二氧化硅 等。其中，更优选使用酸性的胶体二氧化硅溶胶。进一步优选使用分散于水 和/或有机溶剂的胶体二氧化硅溶胶。上述胶体二氧化硅可通过利用酸等使硅 酸钠复分解而得到、或对使通过离子交换树脂层而得到的二氧化硅溶胶进行 加热熟化而得到。这样的胶体二氧化硅例如记载于日本特开昭57-14091号公 报、日本特开昭60-219083号公报、日本特开昭60-219084号公报、日本特开 昭61-20792号公报、日本特开昭61-188183号公报、日本特开昭63-17807号 公报、日本特开平4-93284号公报、日本特开平5-278324号公报、日本特开 平6-92011号公报、日本特开平6-183134号公报、日本特开平6-297830号公 报、日本特开平7-81214号公报、日本特开平7-101142号公报、日本特开平 7-179029号公报、日本特开平7-137431号公报、及国际公开第94/26530号小 册子等。另外，胶体二氧化硅可以使用合成品，也可以使用市售品。

上述金属氧化物粒子可以单独使用，也可以混合使用2种以上。

金属氧化物粒子的平均粒径优选为2～100nm，更优选为3～50nm，进一步 优选为4～30nm。该金属氧化物粒子的平均粒径可用电子显微镜观察粒子本身 或者在折射率层的剖面及表面出现的粒子，测定1,000个任意粒子的粒径，作 为其简单平均值(个数平均)求出。在此，各个粒子的粒径用假定与其投影面积 相等的圆时的直径表示。

金属氧化物粒子的含量优选相对于所形成的折射率层的总质量为30～90 质量％，更优选为40～80质量％。如果金属氧化物粒子的含量为30质量％以 上，则可得到期望的折射率，故优选。另外，如果金属氧化物粒子的含量为 90质量％以下，则可得到膜的柔软性，制膜容易，故优选。

另外，在高折射率层及低折射率层两者中含有金属氧化物粒子的情况下， 进行阴离子化处理或阳离子化处理，金属氧化物粒子优选具有相同的离子性 (电荷)。通过进行阴离子化处理或阳离子化处理，与2种金属氧化物粒子之间 产生斥力，由此不易引起例如低折射率层及高折射率层的叠层涂布时层界面 的凝聚等。

作为金属氧化物粒子的阴离子化处理，例如如果例示氧化钛的阴离子处 理，则该氧化钛粒子可以通过用含硅的水合氧化物进行被覆来进行阴离子化。 含硅的水合化合物的被覆量通常为3～30质量％，优选为3～10质量％，更优选 为3～8质量％。如果被覆量为30质量％以下，则可得到高折射率层所期望的 折射率化，故优选，如果被覆量为3％以上，则可以稳定地形成粒子，故优选。

金属氧化物粒子的阳离子化处理例如可通过使用阳离子性化合物来进 行。作为上述阳离子性化合物的例子，可以举出阳离子性聚合物、多价金属 盐等，但从吸附力、透明性的观点考虑，优选多价金属盐。作为多价金属盐， 可以举出：铝、钙、镁、锌、铁、锶、钡、镍、铜、钪、镓、铟、钛、锆、 锡、铅等金属的盐酸盐、硫酸盐、硝酸盐、乙酸盐、甲酸盐、琥珀酸盐、丙 二酸盐、氯乙酸盐等。其中，优选使用水溶性铝化合物、水溶性钙化合物、 水溶性镁化合物、水溶性锌化合物、水溶性锆化合物，更优选使用水溶性铝 化合物、水溶性锆化合物。作为上述水溶性铝化合物的具体例，可以举出： 聚氯化铝(碱性氯化铝)、硫酸铝、碱性硫酸铝、硫酸铝钾(明矾)、硫酸氨铝(铝 明矾)、硫酸钠铝、硝酸铝、磷酸铝、碳酸铝、聚硫酸硅酸铝、乙酸铝、碱性 乳酸铝等。在此，水溶性多价金属化合物中的水溶性是指在20℃的水中溶解 1质量％以上、更优选3质量％以上。该阳离子性化合物的被覆量根据金属氧 化物粒子的形状及粒径等而不同，但优选相对于金属氧化物粒子为1质量 ％～15质量％。

在湿式成膜法中，作为优选的高折射率层-低折射率层的材料的组合，可 以举出：聚乙烯醇及氧化钛-聚乙烯醇及氧化硅-聚乙烯醇、以及氧化锆-明胶 及氧化硅-聚乙烯醇等。

上述的折射率层也可以进一步含有公知的添加剂。作为该添加剂，可以 举出：固化剂、氨基酸、乳液树脂等。

固化剂

上述固化剂在折射率层中含有树脂的情况下，具有使该树脂固化的功能。 通过固化，可对折射率层赋予耐水性。

作为可使用的固化剂，只要为与树脂引起固化反应的固化剂就没有特别 限制，在树脂为未改性聚乙烯醇或改性聚乙烯醇的情况下，优选使用硼酸及 其盐(以硼原子为中心原子的含氧酸及其盐)、具体而言，原硼酸、二硼酸、偏 硼酸、四硼酸、五硼酸及八硼酸或它们的盐。硼酸及其盐可以为单独的水溶 液，另外，也可以混合使用2种以上，特别优选使用硼酸及硼砂的混合水溶 液。此外也可以使用公知的化合物，一般而言，为具有可与树脂反应的基团 的化合物、或促进树脂所具有的不同基团彼此反应那样的化合物，可根据树 脂的种类适宜选择使用。作为固化剂的具体例，例如可以举出：二缩水甘油 基乙醚、乙二醇二缩水甘油醚、1,4-丁二醇二缩水甘油醚、1,6-二缩水甘油基 环己烷、N,N-二缩水甘油基-4-缩水甘油氧基苯胺、山梨糖醇聚缩水甘油醚、 丙三醇聚缩水甘油醚等环氧系固化剂；甲醛、乙二醛等醛系固化剂；2,4-二氯 -4-羟基-1,3,5-均三嗪等活性卤素系固化剂；1.3.5-三-丙烯酰基-六氢-均三嗪、 双乙烯基磺酰基甲醚等活性乙烯基系化合物；铝明矾等。

另外，在使用明胶作为树脂的情况下，作为固化剂，例如可以使用乙烯 基砜化合物、尿素-甲醛缩合物、黑色素-甲醛缩合物、环氧系化合物、吖丙啶 系化合物、活性烯烃类、异氰酸酯系化合物等有机硬膜剂、铬、铝、锆等无 机多价金属盐类等。

固化剂的总使用量优选相对于树脂1g为1～600mg。

乳液树脂

乳液树脂通常为分散于涂布液的聚合物在制膜时融合而形成的树脂。成 为乳液树脂的原料的乳液可通过将油溶性的单体使用高分子分散剂等进行乳 液聚合而得到。

可使用的油溶性的单体没有特别限制，可以举出：乙烯、丙烯、丁二烯、 醋酸乙烯酯及其部分水解物、乙烯基醚、丙烯酸及其酯类、甲基丙烯酸及其 酯类、丙烯酰胺及其衍生物、甲基丙烯酰胺及其衍生物、苯乙烯、二乙烯基 苯、氯乙烯、偏氯乙烯、马来酸、乙烯基吡咯烷酮等。其中，从透明性和粒 径的观点考虑，优选使用丙烯酸及其酯类、醋酸乙烯酯系。

作为丙烯酸和/或其酯类、醋酸乙烯酯系乳液，可以使用市售的物质，例 如可以举出：ACRIT UW-309、UW-319SX、UW-520(大成精细化学株式会社 制)、及Movinyl(日本合成化学工业株式会社制)等。

另外，可使用的分散剂没有特别限制，除烷基磺酸盐、烷基苯磺酸盐、 二乙基胺、乙二胺、季铵盐这样的低分子的分散剂以外，可以举出：聚氧乙 烯壬基苯基醚、聚氧乙烯月桂酸醚、羟基乙基纤维素、聚乙烯基吡咯烷酮这 样的高分子分散剂。

上述的乳液从提高柔软性的观点考虑，玻璃化温度(Tg)优选为20℃以下， 更优选为-30～10℃。

其它的添加剂

以下列举可应用于本发明的折射率层的其它的添加剂。例如可以举出： 日本特开昭57-74193号公报、日本特开昭57-87988号公报、及日本特开昭 62-261476号公报中记载的紫外线吸收剂、阴离子、阳离子或非离子的各种表 面活性剂、硫酸、磷酸、乙酸、柠檬酸、氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钾等pH 调节剂、消泡剂、二乙二醇等润滑剂、防腐剂、防霉剂、防静电剂、消光剂、 抗氧化剂、阻燃剂、红外线吸收剂、色素、颜料等公知的各种添加剂等。

另外，在电介质多层膜中含有低折射率层的成分及高折射率层的成分两 者的情况下，有时存在界面不明确的部分。在这样的情况下，以该层间所含 的高折射率层的成分、例如金属氧化物粒子作为基准进行判断。即，关于高 折射率层的金属氧化物粒子的厚度方向的EDX分布，将相对于峰顶的高折射 率层的金属氧化物粒子的计算为1/2的位置作为2个层间的界面。

高折射率层或低折射率层可如上通过与邻接的折射率层的折射率的对比 来判断，高折射率层的折射率(nH)优选为1.60～2.50，更优选为1.70～2.50，进 一步优选为1.80～2.20，特别优选为1.90～2.20。另一方面，低折射率层的折射 率(nL)优选为1.10～1.60，更优选为1.30～1.55，进一步优选为1.30～1.50。此时， 各折射率层的折射率的值采用以下测定的值。具体而言，将支承体上成为测 定对象的折射率层以单层进行涂布，将得到的涂膜裁切成10cm×10cm，制作 样品。该样品为了防止背面的光的反射，对与测定面相反侧的面(背面)进行糙 面化处理，用黑色喷雾进行光吸收处理。将如上制作的样品使用分光光度计 U-4000型(株式会社日立制作所制)以5度正反射的条件测定25点可见区域 (400nm～700nm)的反射率，求出平均值，由其测定结果求出平均折射率。

本实施方式的近红外反射膜中，构成电介质体多层膜的任意高折射率层 的折射率(nH)和与该高折射率层邻接的至少1层低折射率层的折射率(nL)之 比(nH/nL)优选满足

[数学式10]

2﹥nH/nL≥1.1。

通过上述折射率之比(nH/nL)在上述范围，可以以较少的层数提高期望的 波长的光的反射率。另一方面，有时在脉动等可见区域产生反射峰，但根据 本实施方式的近红外反射膜，可以抑制这样的可见区域的反射峰。

作为上述高折射率层及上述低折射率层的折射率的差，优选为0.05以上， 更优选为0.06以上，进一步优选为0.1以上，特别优选为0.3以上，最优选为 0.4以上。此时，构成电介质多层膜的折射率层间的所有折射率之比、折射率 差优选在上述适当的范围内。但是，即使在该情况下，关于构成反射层的折 射率层中的最表层及最下层，也可以为上述适当的范围外的构成。

折射率层的厚度没有特别限制，但优选为20～800nm，更优选为 50～350nm。此时，关于与电介质多层膜的支承体侧最近的折射率层，可以为 上述范围外，优选比构成电介质多层膜的其它折射率层厚。作为上述最下层 的厚度，优选为构成电介质多层膜的其它折射率层的平均厚度的1.2～8倍，更 优选为2～6倍的厚度。

作为构成电介质多层膜的折射率层的总层数的范围，优选为100层以下， 更优选为40层以下，进一步优选为20层以下。

在本实施方式的近红外反射膜中，构成电介质多层膜的任意高折射率层 及与该高折射率层邻接的低折射率层满足

[数学式11]

1.1≥(dH×nH)/(dL×nL)﹥1或者1﹥(dH×nH)/(dL×nL)≥0.9。

此时，dH表示高折射率层的厚度，nH表示高折射率层的折射率，dL表 示低折射率层的厚度，nL表示低折射率层的折射率，dH×nH表示高折射率层 的光学厚度，dL×nL表示低折射率层的光学厚度。

另外，上述的所谓“任意的”是指构成电介质多层膜的所有高折射率层 及与该高折射率层邻接的低折射率层彼此的光学厚度满足上述范围。

近红外反射膜通常为了反射期望的波长的光，可适宜考虑光学厚度来设 计。例如如果将期望的波长(近红外光的波长)假定为λ，则高折射率层及低折 射率层分别以满足

[数学式12]

nH×dH＝λ/4且nL×dL＝λ/4。

通过如上进行设计，近红外光的反射光通过干涉而增强，可得到在近红 外区域具有高反射率的近红外反射膜。然而，可见光的反射光(副反射)也与近 红外光的反射光(主反射)一同增强，由此也会产生例如脉动这样的可见区域的 反射峰。在本实施方式中，错开高折射率层及与该高折射率层邻接的低折射 率层间的光学厚度进行设计。由此，可抑制可见区域的反射峰。作为该原因， 是因为通过错开光学厚度，通过干涉增强的反射光引起的反射峰减弱，相对 地，较弱的副反射的反射光引起的反射峰消失。

[电介质膜组组合]

构成本实施方式的近红外反射膜的电介质多层膜具有电介质膜组组合。 上述电介质膜组组合含有第一电介质膜组及第二电介质膜组。此时，上述电 介质多层膜可以为仅由图1所示那样的电介质膜组组合构成的构成，也可以 进一步含有其它的折射率层。

(第一电介质膜组)

第一电介质膜组由高折射率层(折射率n₁H、厚度d₁H)及低折射率层(折射 率n₁L、厚度d₁L)中的各自至少3层构成。即，上述第一电介质膜组将具有相 同的折射率及厚度的高折射率层和具有相同的折射率及厚度的低折射率层交 替各自层叠3层以上而成。因此，上述第一电介质膜组至少由6层的折射率 层构成。

(第二电介质膜组)

关于第二电介质膜组，也与第一电介质膜组同样地由高折射率层(折射率 n₂H、厚度d₂H)及低折射率层(折射率n₂L、厚度d₂L)中的各自至少3层构成。 即，上述第二电介质膜组将具有相同的折射率及厚度的高折射率层和具有相 同的折射率及厚度的低折射率层交替各自层叠3层以上而成。因此，关于上 述第二电介质膜组，也与第一电介质膜组同样地至少由6层的折射率层构成。 上述第二电介质膜组在与和第一电介质膜组的支承体相反面相接的状态下配 置。

另外，关于构成第一电介质膜组及第二电介质膜组的各个高折射率层及 低折射率层，构成电介质多层膜的高折射率层及低折射率层方面不变，在与 高折射率层及与该高折射率层邻接的低折射率层之间满足

[数学式13]

1.1≥(dH×nH)/(dL×nL)﹥1或者1﹥(dH×nH)/(dL×nL)≥0.9。

此时，特别是优选第一电介质膜组内的高折射率层的光学厚度(d₁H×n₁H) 和与该高折射率层邻接的低折射率层的光学厚度(d₁L×n₁L)满足

[数学式14]

1.06≥(d1H×n1H)/(d1L×n1L)﹥1或者1﹥(d1H×n1H)/(d1L×n1L)≥0.94， 和/或上述第二电介质膜组内的高折射率层的光学厚度(d2H×n2H)和与该高折 射率层邻接的低折射率层的光学厚度(d2L×n2L)满足

[数学式15]

1.06≥(d2H×n2H)/(d2L×n2L)﹥1或者1﹥(d2H×n2H)/(d2L×n2L)≥0.94， 更优选第一电介质膜组及第二电介质膜组的高折射率层的光学厚度和与该高 折射率层邻接的低折射率层的光学厚度均满足上述式。

另外，本实施方式的近红外反射膜的上述电介质膜组组合满足

[数学式16]

1.10≥d₂H/d₁H﹥1并且1.10≥d₂L/d₁L﹥1。即，构成第二电介质膜组的高 折射率层及低折射率层的厚度比构成第一电介质膜组的高折射率层及低折射 率层厚。

进而，本实施方式的近红外反射膜的上述电介质膜组组合优选满足

[数学式17]

1.10≥(d₂H×n₂H)/(d₁H×n₁H)﹥1.06，和/或

[数学式18]

1.10≥(d₂L×n₂L)/(d₁L×n₁L)﹥1.06，上述电介质膜组组合更优选均满足上 述式。即，在第一电介质膜组和第二电介质膜组的关系中，优选构成第二电 介质膜组的高折射率层的光学厚度与构成第一电介质膜组的高折射率层的光 学厚度相比，在规定的范围大，和/或构成第二电介质膜组的低折射率层的光 学厚度与构成第一电介质膜组的低折射率层的光学厚度相比，在规定的范围 大。

上述电介质多层膜也可以具有多个电介质膜组组合。即，在一实施方式 中，构成近红外反射膜的电介质多层膜可具有2个以上的电介质多层膜组组 合。

近红外反射膜通过具有如上所述的构成，与现有的仅通过错开光学厚度 来抑制在可见区域产生的反射峰的红外反射膜相比，可抑制在可见区域产生 的脉动等反射峰，另外，显示优异的近红外区域的反射峰。

[近红外反射膜的制造方法]

近红外反射膜的制造方法根据上述折射率层的形成方法的不同大致分为 干式成膜法及湿式成膜法。

(干式成膜法)

在干式成膜法中，例如可以使2种以上的电介质体材料蒸镀等在支承体 上，依次形成折射率层，制造近红外反射膜。

作为上述蒸镀法，可以举出：物理蒸镀法及化学蒸镀法。其中，优选使 用物理蒸镀法，特别优选使用真空蒸镀法或溅射法。需要说明的是，所谓真 空蒸镀法为通过电阻加热或电子枪照射使电介质体材料加热蒸发，在基材上 形成薄膜的方法。另一方面，所谓溅射法为通过等离子体发生装置在基材和 靶之间产生等离子体，利用电位梯度对电介质体材料照射轰击离子，剔除电 介质体材料而在基材上成膜的方法。这些方法可适宜参照公知的手法。

(湿式成膜法)

在湿式成膜法中，例如可通过在支承体上涂布涂布液并进行干燥来依次 形成折射率层的方法、叠层涂布涂布液并进行干燥的方法、或它们的组合等 来形成折射率层，制造近红外反射膜。

上述涂布液中，除树脂和/或金属氧化物粒子、以及其它的添加物以外， 通常可含有溶剂。上述溶剂可以为水、有机溶剂、或它们的混合溶剂。

作为上述有机溶剂，例如可以举出：甲醇、乙醇、2-丙醇、1-丁醇等醇类、 醋酸乙酯、醋酸丁酯、丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单乙醚乙酸酯等酯类、 二乙醚、丙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚等醚类、二甲基甲酰胺、N-甲基吡咯 烷酮等酰胺类、丙酮、甲基乙基酮、乙酰丙酮、环己酮等酮类等。这些有机 溶剂可以单独使用或混合使用2种以上。

从环境方面、操作的简便性等考虑，作为涂布液的溶剂，优选使用水或 水和甲醇、乙醇、或者醋酸乙酯的混合溶剂，更优选使用水。

涂布液中树脂的浓度优选为1～10质量％。另外，在涂布液含有金属氧化 物粒子的情况下，金属氧化物粒子的浓度优选为1～50质量％。

涂布液的制备方法没有特别限制，例如可以举出添加树脂及根据需要添 加的金属氧化物粒子及其它的添加剂并搅拌混合的方法。此时，各成分的添 加顺序也没有特别限制，可以一边搅拌一边依次添加混合各成分，也可以一 边搅拌一边一次添加混合。还可以根据需要使用溶剂调整成适当的粘度。

作为涂布液的涂布方式，例如可优选使用辊涂法、条棒涂布法、气刀法、 喷涂法、幕帘涂布方法、或者美国专利第2,761,419号、美国专利第2,761,791 号公报中记载的使用料斗的滑动珠涂布方法、挤压涂布法等。

在上述涂布方式为使用了滑动珠涂布方式的同时叠层涂布的情况下，涂 布液的粘度优选为5～100mPa·s，更优选为10～50mPa·s。另外，在为使用 了帘幕涂布方式的同时叠层涂布的情况下，涂布液的粘度优选为5～1200mPa ·s，更优选为25～500mPa·s。

通过涂布液的涂布得到的涂膜也根据使用的树脂而不同，但优选在 60～120℃、优选在80～95℃下进行干燥，由此可形成折射率层。

[近红外反射玻璃]

根据本发明，可提供一种将上述近红外反射膜贴合于玻璃板表面而成的 近红外反射玻璃。

作为上述玻璃板，没有特别限制，可使用公知的玻璃。另外，也可以使 用玻璃替代树脂。作为上述玻璃替代树脂，没有特别限定，可以举出：聚碳 酸酯树脂、聚砜树脂、丙烯酸树脂、聚烯烃树脂、聚醚树脂、聚酯树脂、聚 酰胺树脂、聚硫醚树脂、不饱和聚酯树脂、环氧树脂、三聚氰胺树脂、酚醛 树脂、邻苯二甲酸二烯丙酯树脂、聚酰亚胺树脂、氨酯树脂、聚醋酸乙烯酯 树脂、聚乙烯醇树脂、苯乙烯树脂、氯乙烯树脂等。上述玻璃替代树脂可以 为热塑性树脂、热固化性树脂、电离放射线固化性树脂中的任一种。上述的 玻璃及玻璃替代树脂可以单独使用，也可以组合使用2种以上。

上述玻璃板例如可以使用玻璃或玻璃代替树脂以挤出成形、压延成形、 注射成形、中空成形、压缩成形等公知的方法制造。上述玻璃板的厚度没有 特别限定，通常为0.1mm～5cm。

上述近红外反射膜通常经由粘接层贴合于玻璃板表面。作为构成上述粘 接层的粘接剂，没有特别限定，但优选以光固性树脂或热固性树脂为主要成 分的粘接剂，更优选为丙烯酸系树脂、硅酮系树脂，进一步优选为丙烯酸系 树脂。上述树脂从控制剥离强度等观点考虑，优选用作溶剂系粘接剂。此时， 例如在使用溶液聚合聚合物作为丙烯酸溶剂系粘接剂的情况下，成为原料的 单体没有特别限制，可使用公知的单体。另外，粘接层中也可以适宜配合紫 外线吸收剂、抗氧化剂、放静电剂、热稳定剂、滑爽剂、填充剂、着色、粘 接调整剂等。

作为近红外反射玻璃，可以举出：将近红外反射膜、粘接剂层、及玻璃 板依次贴合而成的形态、以及将玻璃板、粘接剂层、近红外反射膜、粘接剂 层、及玻璃板贴合而成的形态(夹层玻璃的形态)。

在将近红外反射膜、粘接剂层、及玻璃板依次贴合而成的形态的情况下， 优选电介质多层膜经由粘接层贴合于玻璃板表面，即以支承体-电介质多层膜 -粘接层-玻璃板的顺序进行贴合。

另外，在夹层玻璃的形态的情况下，也可以使用聚乙烯醇丁缩醛系树脂、 乙烯-醋酸乙烯酯共聚物系树脂作为中间层。具体而言为可塑性聚乙烯醇丁缩 醛(积水化学工业株式会社制、三菱树脂株式会社制等)、乙烯-醋酸乙烯酯共 聚物(杜邦株式会社制、Duramin)；武田药品工业株式会社制)、改性乙烯-醋 酸乙烯酯共聚物(MERSEN G；东曹株式会社制)等。

红外反射膜或红外反射玻璃的绝热性能、日光辐射遮蔽性能可以通过依 据JIS R3209-1998(多层玻璃)、JIS R3106-1998(平板玻璃类的透过率、反射率、 放射率、日光辐射取得率的试验方法)、JIS R3107-1998(平板玻璃类的热阻及 建筑物中的热贯流率的计算方法)的方法求出。

对太阳能透过率、日光辐射反射率、反射率、可见光透过率的测定而言， (1)使用波长(300～2500nm)的分光测光器测定各种单板玻璃的分光透过率、分 光反射率。另外，使用波长5.5～50μm的分光测定器测定放射率。另外，浮法 平板玻璃、抛光平板玻璃、压花平板玻璃、热线吸收平板玻璃的反射率使用 既定值。(2)日光辐射透过率、日光辐射反射率、日光辐射吸收率、修正反射 率的算出依据JIS R3106-1998算出日光辐射透过率、日光辐射反射率、日光 辐射吸收率、垂直反射率。关于修正反射率，通过JIS R3107-1998所示的系 数乘以垂直反射率求出。对绝热性、日光辐射遮蔽性的算出而言，(1)使用厚 度的测定值、修正反射率，依据JIS R3209-1998算出多层玻璃的热阻。其中， 在中空层超过2mm的情况下，依据JIS R3107-1998求出中空层的气体导热能 力。(2)绝热性：复层玻璃的热阻加上热传导阻力，以热贯流阻力求出。(3)日 光辐射遮蔽性：通过JIS R3106-1998求出日光辐射热取得率，由1减去而算 出。

实施例

下面，举出实施例对本发明具体地进行说明，但本发明并不限定于这些 实施例。需要说明的是，在实施例中，使用“份”或“％”的表达，但只要 没有特别说明则表示“质量份”或“质量％”。

(实施例1)

在作为聚碳酸酯的Iupiron Sheet NF-2000(三菱瓦斯化学株式会社制)上使 用溅射装置依次交替溅射氟化镁(MgF)及氧化钛(TiO₂)。制造12层的近红外反 射膜。另外，从折射率的值的关系考虑，由氟化镁构成的层为低折射率层(折 射率：1.33)，由氧化钛构成的层为高折射率层(折射率：2.70)。另外，与基材 相接的最下层为低折射率层。得到的近红外反射膜的构成如下所述。

·第一层～第六层为第一电介质膜组

·第七层～第十二层为第二电介质膜组

·对第一电介质膜组的高折射率层而言，折射率(n₁H)＝2.70、厚度 (d₁H)＝102nm，光学厚度(n₁H×d₁H)＝275

·对第一电介质膜组的低折射率层而言，折射率(n₁L)＝1.33、厚度 (d₁L)＝197nm，光学厚度(n₁L×d₁L)＝262

·对第二电介质膜组的高折射率层而言，折射率(n₂H)＝2.70、厚度 (d₂H)＝109nm，光学厚度(n₂H×d₂H)＝294

·对第二电介质膜组的低折射率层而言，折射率(n₂L)＝1.33、厚度 (d₂L)＝211nm，光学厚度(n₂L×d₂L)＝281。

因此，光学厚度等的关系如下所述。

(d₁H×n₁H)/(d₁L×n₁L)＝1.05

(d₂H×n₂H)/(d₂L×n₂L)＝1.05

d₂H/d₁H＝1.07

d₂L/d₁L＝1.07

(d₂H×n₂H)/(d₁H×n₁H)＝1.07

(d₂L×n₂L)/(d₁L×n₁L)＝1.07

nH/nL＝2.03。

(比较例1)

变更高折射率层及低折射率层的厚度，除此以外，通过与实施例1同样 的方法制造近红外反射膜。得到的近红外反射膜的构成如下所述。

·对高折射率层而言，折射率(nH)＝2.70、厚度(dH)＝90nm，光学厚度 (nH×dH)＝243

·对低折射率层而言，折射率(nL)＝1.33、厚度(dL)＝182nm，光学厚度 (nL×dL)＝242。

因此，光学厚度等的关系如下所述。

(dH×nH)/(dL×nL)＝1.00

nH/nL＝2.03。

(比较例2)

变更高折射率层及低折射率层的厚度，除此以外，通过与实施例1同样 的方法制造近红外反射膜。得到的近红外反射膜的构成如下所述。

·对高折射率层而言，折射率(nH)＝2.70、厚度(dH)＝82nm，光学厚度 (nH×dH)＝221

·对低折射率层而言，折射率(nL)＝1.33、厚度(dL)＝201nm，光学厚度 (nL×dL)＝267。

因此，光学厚度等的关系如下所述。

(dH×nH)/(dL×nL)＝0.83

nH/nL＝2.03。

(比较例3)

变更高折射率层及低折射率层的厚度，除此以外，通过与实施例1同样 的方法制造近红外反射膜。得到的近红外反射膜的构成如下所述。

·第一层～第六层为第一电介质膜组

·第七层～第十二层为第二电介质膜组

·对第一电介质膜组的高折射率层而言，折射率(n₁H)＝2.70、厚度 (d₁H)＝94nm，光学厚度(n₁H×d₁H)＝254

·对第一电介质膜组的低折射率层而言，折射率(n₁L)＝1.33、厚度 (d₁L)＝178nm，光学厚度(n₁L×d₁L)＝237

·对第二电介质膜组的高折射率层而言，折射率(n₂H)＝2.70、厚度 (d₂H)＝92nm，光学厚度(n₂H×d₂H)＝248

·对第二电介质膜组的低折射率层而言，折射率(n₂L)＝1.33、厚度 (d₂L)＝173nm，光学厚度(n₂L×d₂L)＝230。

因此，光学厚度等的关系如下所述。

(d₁H×n₁H)/(d₁L×n₁L)＝1.07

(d₂H×n₂H)/(d₂L×n₂L)＝1.08

d₂H/d₁H＝0.98

d₂L/d₁L＝0.97

(d₂H×n₂H)/(d₁H×n₁H)＝0.98

(d₂L×n₂L)/(d₁L×n₁L)＝0.97

nH/nL＝2.03。

(比较例4)

变更高折射率层及低折射率层的厚度，除此以外，通过与实施例1同样 的方法制造近红外反射膜。得到的近红外反射膜的构成如下所述。

·第一层～第六层为第一电介质膜组

·第七层～第十二层为第二电介质膜组

·对第一电介质膜组的高折射率层而言，折射率(n₁H)＝2.70、厚度 (d₁H)＝90nm，光学厚度(n₁H×d₁H)＝243

·对第一电介质膜组的低折射率层而言，折射率(n₁L)＝1.33、厚度 (d₁L)＝197nm，光学厚度(n₁L×d₁L)＝262

·对第二电介质膜组的高折射率层而言，折射率(n₂H)＝2.70、厚度 (d₂H)＝88nm，光学厚度(n₂H×d₂H)＝238

·对第二电介质膜组的低折射率层而言，折射率(n₂L)＝1.33、厚度 (d₂L)＝192nm，光学厚度(n₂L×d₂L)＝255。

因此，光学厚度等的关系如下所述。

(d₁H×n₁H)/(d₁L×n₁L)＝0.93

(d₂H×n₂H)/(d₂L×n₂L)＝0.93

d₂H/d₁H＝0.98

d₂L/d₁L＝0.97

(d₂H×n₂H)/(d₁H×n₁H)＝0.98

(d₂L×n₂L)/(d₁L×n₁L)＝0.97

nH/nL＝2.03。

(实施例2)

将作为壳的聚乙烯、作为核的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)的熔融物(固 有粘度：0.65)及聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)的熔融物(固有粘度：0.63)的128 层的交替层叠体使用本公司制多层挤出模具挤出在浇铸鼓上。接着，将所挤 出的层叠膜一边与冷却鼓密合一边输送，进行冷却固化，得到多层层叠未拉 伸膜。将该未拉伸膜加热至110℃，利用辊沿纵向拉伸3.3倍，接着，在拉幅 机内利用夹具沿横向拉伸3.3倍。一边用夹具固定一边在230℃下热固定后， 骤冷至室温，制造在两面具有聚乙烯的壳的128层的近红外反射膜。另外， 根据折射率的值的关系，由PET构成的层为低折射率层(折射率：1.57)，由 PEN构成的层为高折射率层(折射率：1.64)。另外，与基材相接的最下层为低 折射率层。得到的近红外反射膜的构成如下所述。

·第一层～第三十二层为第一电介质膜组

·第三十三层～第六十四层为第二电介质膜组

·第六十五层～第九十六层为第三电介质膜组

·第九十七层～第一百二十八层为第四电介质膜组

·对第一电介质膜组的高折射率层而言，折射率(n₁H)＝1.64、厚度 (d₁H)＝122nm，光学厚度(n₁H×d₁H)＝200

·对第一电介质膜组的低折射率层而言，折射率(n₁L)＝1.57、厚度 (d₁L)＝134nm，光学厚度(n₁L×d₁L)＝210

·对第二电介质膜组的高折射率层而言，折射率(n₂H)＝1.64、厚度 (d₂H)＝132nm，光学厚度(n₂H×d₂H)＝216

·对第二电介质膜组的低折射率层而言，折射率(n₂L)＝1.57、厚度 (d₂L)＝144nm，光学厚度(n₂L×d₂L)＝226

·对第三电介质膜组的高折射率层而言，折射率(n₃H)＝1.64、厚度 (d₃H)＝142nm，光学厚度(n₃H×d₃H)＝233

·对第三电介质膜组的低折射率层而言，折射率(n₃L)＝1.57、厚度 (d₃L)＝156nm，光学厚度(n₃L×d₃L)＝245

·对第四电介质膜组的高折射率层而言，折射率(n₄H)＝1.64、厚度 (d₄H)＝154nm，光学厚度(n₄H×d₄H)＝253

·对第四电介质膜组的低折射率层而言，折射率(n₄L)＝1.57、厚度 (d₄L)＝169nm，光学厚度(n₄L×d₄L)＝265。

因此，光学厚度等的关系如下所述。

(d₁H×n₁H)/(d₁L×n₁L)＝0.95

(d₂H×n₂H)/(d₂L×n₂L)＝0.96

d₂H/d₁H＝1.08

d₂L/d₁L＝1.07

(d₂H×n₂H)/(d₁H×n₁H)＝1.08

(d₂L×n₂L)/(d₁L×n₁L)＝1.08

(d₃H×n₃H)/(d₃L×n₃L)＝0.95

(d₄H×n₄H)/(d₄L×n₄L)＝0.95

d₄H/d₃H＝1.08

d₄L/d₃L＝1.08

(d₄H×n₄H)/(d₃H×n₃H)＝1.09

(d₄L×n₄L)/(d₃L×n₃L)＝1.08

nH/nL＝1.04。

(实施例3)

变更高折射率层及低折射率层的厚度，除此以外，通过与实施例2同样 的方法制造近红外反射膜。得到的近红外反射膜的构成如下所述。

·第一层～第三十二层为第一电介质膜组

·第三十三层～第六十四层为第二电介质膜组

·第六十五层～第九十六层为第三电介质膜组

·第九十七层～第一百二十八层为第四电介质膜组

·对第一电介质膜组的高折射率层而言，折射率(n₁H)＝1.64、厚度 (d₁H)＝122nm，光学厚度(n₁H×d₁H)＝200

·对第一电介质膜组的低折射率层而言，折射率(n₁L)＝1.57、厚度 (d₁L)＝134nm，光学厚度(n₁L×d₁L)＝210

·对第二电介质膜组的高折射率层而言，折射率(n₂H)＝1.64、厚度 (d₂H)＝126nm，光学厚度(n₂H×d₂H)＝207

·对第二电介质膜组的低折射率层而言，折射率(n₂L)＝1.57、厚度 (d₂L)＝138nm，光学厚度(n₂L×d₂L)＝217

·对第三电介质膜组的高折射率层而言，折射率(n₃H)＝1.64、厚度 (d₃H)＝129nm，光学厚度(n₃H×d₃H)＝212

·对第三电介质膜组的低折射率层而言，折射率(n₃L)＝1.57、厚度 (d₃L)＝142nm，光学厚度(n₃L×d₃L)＝223

·对第四电介质膜组的高折射率层而言，折射率(n₄H)＝1.64、厚度 (d₄H)＝133nm，光学厚度(n₄H×d₄H)＝218

·对第四电介质膜组的低折射率层而言，折射率(n₄L)＝1.57、厚度 (d₄L)＝146nm，光学厚度(n₄L×d₄L)＝229。

因此，光学厚度等的关系如下所述。

(d₁H×n₁H)/(d₁L×n₁L)＝0.95

(d₂H×n₂H)/(d₂L×n₂L)＝0.95

d₂H/d₁H＝1.03

d₂L/d₁L＝1.03

(d₂H×n₂H)/(d₁H×n₁H)＝1.04

(d₂L×n₂L)/(d₁L×n₁L)＝1.03

(d₃H×n₃H)/(d₃L×n₃L)＝0.95

(d₄H×n₄H)/(d₄L×n₄L)＝0.95

d₄H/d₃H＝1.03

d₄L/d₃L＝1.03

(d₄H×n₄H)/(d₃H×n₃H)＝1.03

(d₄L×n₄L)/(d₃L×n₃L)＝1.03

nH/nL＝1.04。

(实施例4)

变更高折射率层及低折射率层的厚度，除此以外，通过与实施例2同样 的方法制造近红外反射膜。得到的近红外反射膜的构成如下所述。

·第一层～第三十二层为第一电介质膜组

·第三十三层～第六十四层为第二电介质膜组

·第六十五层～第九十六层为第三电介质膜组

·第九十七层～第一百二十八层为第四电介质膜组

·对第一电介质膜组的高折射率层而言，折射率(n₁H)＝1.64、厚度 (d₁H)＝119nm，光学厚度(n₁H×d₁H)＝195

·对第一电介质膜组的低折射率层而言，折射率(n₁L)＝1.57、厚度 (d₁L)＝134nm，光学厚度(n₁L×d₁L)＝210

·对第二电介质膜组的高折射率层而言，折射率(n₂H)＝1.64、厚度 (d₂H)＝122nm，光学厚度(n₂H×d₂H)＝200

·对第二电介质膜组的低折射率层而言，折射率(n₂L)＝1.57、厚度 (d₂L)＝138nm，光学厚度(n₂L×d₂L)＝217

·对第三电介质膜组的高折射率层而言，折射率(n₃H)＝1.64、厚度 (d₃H)＝126nm，光学厚度(n₃H×d₃H)＝207

·对第三电介质膜组的低折射率层而言，折射率(n₃L)＝1.57、厚度 (d₃L)＝142nm，光学厚度(n₃L×d₃L)＝223

·对第四电介质膜组的高折射率层而言，折射率(n₄H)＝1.64、厚度 (d₄H)＝130nm，光学厚度(n₄H×d₄H)＝213

·对第四电介质膜组的低折射率层而言，折射率(n₄L)＝1.57、厚度 (d₄L)＝147nm，光学厚度(n₄L×d₄L)＝231。

因此，光学厚度等的关系如下所述。

(d₁H×n₁H)/(d₁L×n₁L)＝0.93

(d₂H×n₂H)/(d₂L×n₂L)＝0.92

d₂H/d₁H＝1.03

d₂L/d₁L＝1.03

(d₂H×n₂H)/(d₁H×n₁H)＝1.03

(d₂L×n₂L)/(d₁L×n₁L)＝1.03

(d₃H×n₃H)/(d₃L×n₃L)＝0.93

(d₄H×n₄H)/(d₄L×n₄L)＝0.92

d₄H/d₃H＝1.03

d₄L/d₃L＝1.04

(d₄H×n₄H)/(d₃H×n₃H)＝1.03

(d₄L×n₄L)/(d₃L×n₃L)＝1.04

nH/nL＝1.04。

(实施例5)

变更高折射率层及低折射率层的厚度，除此以外，通过与实施例2同样 的方法制造近红外反射膜。得到的近红外反射膜的构成如下所述。

·第一层～第三十二层为第一电介质膜组

·第三十三层～第六十四层为第二电介质膜组

·第六十五层～第九十六层为第三电介质膜组

·第九十七层～第一百二十八层为第四电介质膜组

·对第一电介质膜组的高折射率层而言，折射率(n₁H)＝1.64、厚度 (d₁H)＝127nm，光学厚度(n₁H×d₁H)＝208

·对第一电介质膜组的低折射率层而言，折射率(n₁L)＝1.57、厚度 (d₁L)＝123nm，光学厚度(n₁L×d₁L)＝193

·对第二电介质膜组的高折射率层而言，折射率(n₂H)＝1.64、厚度 (d₂H)＝130nm，光学厚度(n₂H×d₂H)＝213

·对第二电介质膜组的低折射率层而言，折射率(n₂L)＝1.57、厚度 (d₂L)＝127nm，光学厚度(n₂L×d₂L)＝199

·对第三电介质膜组的高折射率层而言，折射率(n₃H)＝1.64、厚度 (d₃H)＝134nm，光学厚度(n₃H×d₃H)＝220

·对第三电介质膜组的低折射率层而言，折射率(n₃L)＝1.57、厚度 (d₃L)＝130nm，光学厚度(n₃L×d₃L)＝204

·对第四电介质膜组的高折射率层而言，折射率(n₄H)＝1.64、厚度 (d₄H)＝138nm，光学厚度(n₄H×d₄H)＝226

·对第四电介质膜组的低折射率层而言，折射率(n₄L)＝1.57、厚度 (d₄L)＝134nm，光学厚度(n₄L×d₄L)＝210。

因此，光学厚度等的关系如下所述。

(d₁H×n₁H)/(d₁L×n₁L)＝1.08

(d₂H×n₂H)/(d₂L×n₂L)＝1.07

d₂H/d₁H＝1.02

d₂L/d₁L＝1.03

(d₂H×n₂H)/(d₁H×n₁H)＝1.02

(d₂L×n₂L)/(d₁L×n₁L)＝1.03

(d₃H×n₃H)/(d₃L×n₃L)＝1.08

(d₄H×n₄H)/(d₄L×n₄L)＝1.08

d₄H/d₃H＝1.03

d₄L/d₃L＝1.03

(d₄H×n₄H)/(d₃H×n₃H)＝1.03

(d₄L×n₄L)/(d₃L×n₃L)＝1.03

nH/nL＝1.04。

(比较例5)

变更高折射率层及低折射率层的厚度，除此以外，通过与实施例2同样 的方法制造近红外反射膜。得到的近红外反射膜的构成如下所述。

·对高折射率层而言，折射率(nH)＝1.64、厚度(dH)＝119nm，光学厚度 (nH×dH)＝195

·对低折射率层而言，折射率(nL)＝1.57、厚度(dL)＝124nm，光学厚度 (nL×dL)＝195。

因此，光学厚度等的关系如下所述。

(dH×nH)/(dL×nL)＝1.00

nH/nL＝1.04。

(比较例6)

变更高折射率层及低折射率层的厚度，除此以外，通过与实施例2同样 的方法制造近红外反射膜。得到的近红外反射膜的构成如下所述。

·对高折射率层而言，折射率(nH)＝1.64、厚度(dH)＝133nm，光学厚度 (nH×dH)＝218

·对低折射率层而言，折射率(nL)＝1.57、厚度(dL)＝111nm，光学厚度 (nL×dL)＝174。

因此，光学厚度等的关系如下所述。

(dH×nH)/(dL×nL)＝1.25

nH/nL＝1.04。

(比较例7)

变更高折射率层及低折射率层的厚度，除此以外，通过与实施例2同样 的方法制造近红外反射膜。得到的近红外反射膜的构成如下所述。

·对高折射率层而言，折射率(nH)＝1.64、厚度(dH)＝110nm，光学厚度 (nH×dH)＝180

·对低折射率层而言，折射率(nL)＝1.57、厚度(dL)＝138nm，光学厚度 (nL×dL)＝217。

因此，光学厚度等的关系如下所述。

(dH×nH)/(dL×nL)＝0.83

nH/nL＝1.04。

(实施例6)

将含有70质量份的胶体二氧化硅(Snowtex OXS、平均粒径：5nm、日产 化学工业株式会社制)的未改性聚乙烯醇(PVA217、聚合度：1700、皂化度： 88％、株式会社可乐丽制)的3质量％的水溶液制备成第一涂布液。另外，将 含有85质量份的氧化钛(sws、平均粒子径：8nm、界化学工业株式会社制)的 未改性聚乙烯醇(PVA124、聚合度：2400、皂化度：99％、株式会社可乐丽制) 的4质量％的水溶液制备成第二涂布液。

在易粘接加工的聚酯膜上使用上述第一涂布液及上述第二涂布液使用滑 动涂布机交替进行涂布、干燥，制造24层的近红外反射膜。另外，根据折射 率的值的关系，由第一涂布液(含有胶体二氧化硅)形成的层为低折射率层(折 射率：1.45)，由第二涂布液(含有氧化钛)形成的层为高折射率层(折射率：1.95)。 另外，与基材相接的最下层为高折射率层。得到的近红外反射膜的构成如下 所述。

·第一层～第六层为第一电介质膜组

·第七层～第十二层为第二电介质膜组

·第十三层～第十八层为第三电介质膜组

·第十九层～第二十四层为第四电介质膜组

·对第一电介质膜组的高折射率层而言，折射率(n₁H)＝1.95、厚度 (d₁H)＝118nm，光学厚度(n₁H×d₁H)＝230

·对第一电介质膜组的低折射率层而言，折射率(n₁L)＝1.45、厚度 (d₁L)＝152nm，光学厚度(n₁L×d₁L)＝220

·对第二电介质膜组的高折射率层而言，折射率(n₂H)＝1.95、厚度 (d₂H)＝128nm，光学厚度(n₂H×d₂H)＝250

·对第二电介质膜组的低折射率层而言，折射率(n₂L)＝1.45、厚度 (d₂L)＝164nm，光学厚度(n₂L×d₂L)＝238

·对第三电介质膜组的高折射率层而言，折射率(n₃H)＝1.95、厚度 (d₃H)＝138nm，光学厚度(n₃H×d₃H)＝269

·对第三电介质膜组的低折射率层而言，折射率(n₃L)＝1.45、厚度 (d₃L)＝177nm，光学厚度(n₃L×d₃L)＝257

·对第四电介质膜组的高折射率层而言，折射率(n₄H)＝1.95、厚度 (d₄H)＝149nm，光学厚度(n₄H×d₄H)＝291

·对第四电介质膜组的低折射率层而言，折射率(n₄L)＝1.45、厚度 (d₄L)＝191nm，光学厚度(n₄L×d₄L)＝277。

因此，光学厚度等的关系如下所述。

(d₁H×n₁H)/(d₁L×n₁L)＝1.05

(d₂H×n₂H)/(d₂L×n₂L)＝1.05

d₂H/d₁H＝1.08

d₂L/d₁L＝1.08

(d₂H×n₂H)/(d₁H×n₁H)＝1.09

(d₂L×n₂L)/(d₁L×n₁L)＝1.08

(d₃H×n₃H)/(d₃L×n₃L)＝1.05

(d₄H×n₄H)/(d₄L×n₄L)＝1.05

d₄H/d₃H＝1.08

d₄L/d₃L＝1.08

(d₄H×n₄H)/(d₃H×n₃H)＝1.08

(d₄L×n₄L)/(d₃L×n₃L)＝1.08

nH/nL＝1.34。

(实施例7)

变更高折射率层及低折射率层的厚度，除此以外，通过与实施例6同样 的方法制造近红外反射膜。得到的近红外反射膜的构成如下所述。

·第一层～第六层为第一电介质膜组

·第七层～第十二层为第二电介质膜组

·第十三层～第十八层为第三电介质膜组

·第十九层～第二十四层为第四电介质膜组

·对第一电介质膜组的高折射率层而言，折射率(n₁H)＝1.95、厚度 (d₁H)＝118nm，光学厚度(n₁H×d₁H)＝230

·对第一电介质膜组的低折射率层而言，折射率(n₁L)＝1.45、厚度 (d₁L)＝152nm，光学厚度(n₁L×d₁L)＝220

·对第二电介质膜组的高折射率层而言，折射率(n₂H)＝1.95、厚度 (d₂H)＝122nm，光学厚度(n₂H×d₂H)＝238

·对第二电介质膜组的低折射率层而言，折射率(n₂L)＝1.45、厚度 (d₂L)＝156nm，光学厚度(n₂L×d₂L)＝226

·对第三电介质膜组的高折射率层而言，折射率(n₃H)＝1.95、厚度 (d₃H)＝126nm，光学厚度(n₃H×d₃H)＝246

·对第三电介质膜组的低折射率层而言，折射率(n₃L)＝1.45、厚度 (d₃L)＝161nm，光学厚度(n₃L×d₃L)＝233

·对第四电介质膜组的高折射率层而言，折射率(n₄H)＝1.95、厚度 (d₄H)＝129nm，光学厚度(n₄H×d₄H)＝252

·对第四电介质膜组的低折射率层而言，折射率(n₄L)＝1.45、厚度 (d₄L)＝166nm，光学厚度(n₄L×d₄L)＝241。

因此，光学厚度等的关系如下所述。

(d₁H×n₁H)/(d₁L×n₁L)＝1.05

(d₂H×n₂H)/(d₂L×n₂L)＝1.05

d₂H/d₁H＝1.03

d₂L/d₁L＝1.03

(d₂H×n₂H)/(d₁H×n₁H)＝1.03

(d₂L×n₂L)/(d₁L×n₁L)＝1.03

(d₃H×n₃H)/(d₃L×n₃L)＝1.06

(d₄H×n₄H)/(d₄L×n₄L)＝1.05

d₄H/d₃H＝1.02

d₄L/d₃L＝1.03

(d₄H×n₄H)/(d₃H×n₃H)＝1.02

(d₄L×n₄L)/(d₃L×n₃L)＝1.03

nH/nL＝1.34。

(实施例8)

变更高折射率层及低折射率层的厚度，除此以外，通过与实施例6同样 的方法制造近红外反射膜。得到的近红外反射膜的构成如下所述。

·第一层～第六层为第一电介质膜组

·第七层～第十二层为第二电介质膜组

·第十三层～第十八层为第三电介质膜组

·第十九层～第二十四层为第四电介质膜组

·第一电介质膜组的高折射率层而言，折射率(n₁H)＝1.95、厚度 (d₁H)＝122nm，光学厚度(n₁H×d₁H)＝238

·对第一电介质膜组的低折射率层而言，折射率(n₁L)＝1.45、厚度 (d₁L)＝152nm，光学厚度(n₁L×d₁L)＝220

·对第二电介质膜组的高折射率层而言，折射率(n₂H)＝1.95、厚度 (d₂H)＝126nm，光学厚度(n₂H×d₂H)＝246

·对第二电介质膜组的低折射率层而言，折射率(n₂L)＝1.45、厚度 (d₂L)＝156nm，光学厚度(n₂L×d₂L)＝226

·对第三电介质膜组的高折射率层而言，折射率(n₃H)＝1.95、厚度 (d₃H)＝129nm，光学厚度(n₃H×d₃H)＝252

·对第三电介质膜组的低折射率层而言，折射率(n₃L)＝1.45、厚度 (d₃L)＝161nm，光学厚度(n₃L×d₃L)＝233

·对第四电介质膜组的高折射率层而言，折射率(n₄H)＝1.95、厚度 (d₄H)＝133nm，光学厚度(n₄H×d₄H)＝259

·对第四电介质膜组的低折射率层而言，折射率(n₄L)＝1.45、厚度 (d₄L)＝166nm，光学厚度(n₄L×d₄L)＝241。

因此，光学厚度等的关系如下所述。

(d₁H×n₁H)/(d₁L×n₁L)＝1.08

(d₂H×n₂H)/(d₂L×n₂L)＝1.09

d₂H/d₁H＝1.03

d₂L/d₁L＝1.03

(d₂H×n₂H)/(d₁H×n₁H)＝1.03

(d₂L×n₂L)/(d₁L×n₁L)＝1.03

(d₃H×n₃H)/(d₃L×n₃L)＝1.08

(d₄H×n₄H)/(d₄L×n₄L)＝1.07

d₄H/d₃H＝1.02

d₄L/d₃L＝1.03

(d₄H×n₄H)/(d₃H×n₃H)＝1.03

(d₄L×n₄L)/(d₃L×n₃L)＝1.03

nH/nL＝1.34。

(实施例9)

变更高折射率层及低折射率层的厚度，除此以外，通过与实施例6同样 的方法制造近红外反射膜。得到的近红外反射膜的构成如下所述。

·第一层～第六层为第一电介质膜组

·第七层～第十二层为第二电介质膜组

·第十三层～第十八层为第三电介质膜组

·第十九层～第二十四层为第四电介质膜组

·第一电介质膜组的高折射率层而言，折射率(n₁H)＝1.95、厚度 (d₁H)＝110nm，光学厚度(n₁H×d₁H)＝215

·对第一电介质膜组的低折射率层而言，折射率(n₁L)＝1.45、厚度 (d₁L)＝159nm，光学厚度(n₁L×d₁L)＝231

·对第二电介质膜组的高折射率层而言，折射率(n₂H)＝1.95、厚度 (d₂H)＝113nm，光学厚度(n₂H×d₂H)＝220

·对第二电介质膜组的低折射率层而言，折射率(n₂L)＝1.45、厚度 (d₂L)＝163nm，光学厚度(n₂L×d₂L)＝236

·对第三电介质膜组的高折射率层而言，折射率(n₃H)＝1.95、厚度 (d₃H)＝116nm，光学厚度(n₃H×d₃H)＝226

·对第三电介质膜组的低折射率层而言，折射率(n₃L)＝1.45、厚度 (d₃L)＝168nm，光学厚度(n₃L×d₃L)＝243

·对第四电介质膜组的高折射率层而言，折射率(n₄H)＝1.95、厚度 (d₄H)＝120nm，光学厚度(n₄H×d₄H)＝234

·对第四电介质膜组的低折射率层而言，折射率(n₄L)＝1.45、厚度 (d₄L)＝173nm，光学厚度(n₄L×d₄L)＝251。

因此，光学厚度等的关系如下所述。

(d₁H×n₁H)/(d₁L×n₁L)＝0.93

(d₂H×n₂H)/(d₂L×n₂L)＝0.93

d₂H/d₁H＝1.03

d₂L/d₁L＝1.03

(d₂H×n₂H)/(d₁H×n₁H)＝1.03

(d₂L×n₂L)/(d₁L×n₁L)＝1.03

(d₃H×n₃H)/(d₃L×n₃L)＝0.93

(d₄H×n₄H)/(d₄L×n₄L)＝0.93

d₄H/d₃H＝1.03

d₄L/d₃L＝1.03

(d₄H×n₄H)/(d₃H×n₃H)＝1.04

(d₄L×n₄L)/(d₃L×n₃L)＝1.03

nH/nL＝1.34。

(比较例8)

变更高折射率层及低折射率层的厚度，除此以外，通过与实施例6同样 的方法制造近红外反射膜。得到的近红外反射膜的构成如下所述。

·对高折射率层而言，折射率(nH)＝1.95、厚度(dH)＝112nm，光学厚度 (nH×dH)＝218

·对低折射率层而言，折射率(nL)＝1.45、厚度(dL)＝150nm，光学厚度 (nL×dL)＝218。

因此，光学厚度等的关系如下所述。

(dH×nH)/(dL×nL)＝1.00

nH/nL＝1.34。

(比较例9)

变更高折射率层及低折射率层的厚度，除此以外，通过与实施例6同样 的方法制造近红外反射膜。得到的近红外反射膜的构成如下所述。

·对高折射率层而言，折射率(nH)＝1.95、厚度(dH)＝98nm，光学厚度 (nH×dH)＝191

·对低折射率层而言，折射率(nL)＝1.45、厚度(dL)＝166nm，光学厚度 (nL×dL)＝241。

因此，光学厚度等的关系如下所述。

(dH×nH)/(dL×nL)＝0.79

nH/nL＝1.34。

(比较例10)

变更高折射率层及低折射率层的厚度，除此以外，通过与实施例6同样 的方法制造近红外反射膜。得到的近红外反射膜的构成如下所述。

·对高折射率层而言，折射率(nH)＝1.95、厚度(dH)＝135nm，光学厚度 (nH×dH)＝263

·对低折射率层而言，折射率(nL)＝1.45、厚度(dL)＝152nm，光学厚度 (nL×dL)＝220。

因此，光学厚度等的关系如下所述。

(dH×nH)/(dL×nL)＝1.20

nH/nL＝1.34。

(可见光反射率及近红外光反射率的测定)

对实施例及比较例中得到的各个近红外反射膜使用分光光度计 U-4100(株式会社日立制作所制)在5度正反射的条件下求得可见光反射率 (400～740nm)及近红外光反射率(800～1300nm)。另外，算出可见光反射率相对 于近红外光反射率之比(反射率比＝可见光反射率/近红外光反射率)。此时，反 射率比越小越优选，可成为抑制可见区域的反射峰的同时近红外区域的反射 峰不会减弱这样的是否作为近红外反射膜具有优异的反射峰的指标。

将得到的结果与是否满足下述式(1)～(7)一同示于下述表1。另外，将满足 式(1)～(7)的各个条件的情况记为○，不满足的情况记为×。

[数学式19]

(1)1.1≥(dH×nH)/(dL×nL)＞1或 1＞(dH×nH)/(dL×nL)≥0.9

(2)1.10≥d₂H/d₁H＞1且1.10≥d₂L/d₁L＞1

(3)1.06≥(d₁H×n₁H)/(d₁L×n₁L)＞1或 1＞(d₁H×n₁H)/(d₁L×n₁L)≥0.94

(4)1.06≥(d₂H×n₂H)/(d₂L×n₂L)＞1或 1＞(d₂H×n₂H)/(d₂L×n₂L)≥0.94

(5)1.10≥(d₂H×n₂H)/(d₁H×n₁H)＞1.06

(6)1.10≥(d₂L×n₂L)/(d₁L×n₁L)＞1.06

(7)2＞nH/nL≥1.1

另外，将代表的实施例及比较例(实施例1、比较例1及3、实施例2、比 较例5、实施例6～8、比较例8)的反射峰的图表示于图2～图10。

(实施例1及比较例1～4)

实施例1及比较例1～4的近红外反射膜通过溅射法制造。这些近红外反 射膜整体具有极高的近红外光反射率，但可见光反射率也显示较高的值。

在实施例1中，均满足式(1)～(7)，与比较例1～4相比，虽然相对地近红 外光反射率的值稍微降低，但可见光反射率显示较低的值，作为结果，反射 率比显示最优异的值。

在比较例1中，不满足式(1)～(6)，在高折射率层-低折射率层中具有相同 的光学厚度比。另外，关于比较例2，也不满足式(1)～(6)，虽然在高折射率层 -低折射率层中具有不同的光学厚度，但其值大大不同。比较例1及比较例2 的近红外反射膜的可见光反射率显示较高的值，因此，反射率比显示比实施 例1的近红外反射膜高的值。

比较例3及比较例4满足式(1)及(7)，但不满足式(2)～(6)。比较例3及比 较例4的近红外反射膜的可见光反射率显示较高的值，因此，反射率比显示 比实施例1的近红外反射膜高的值。

(实施例2～5及比较例5～7)

在实施例2～5及比较例5～7中，折射率层含有树脂。这些近红外反射膜 与通过上述溅射法制造的近红外反射膜相比，可见光反射率变低，但近红外 光反射率也变低。另外，在实施例2～5及比较例5～7中，电介质多层膜具有 2个电介质膜组组合，构成各电介质膜组组合的电介质膜组(第一～第四电介质 膜组)分别将高折射率层及低折射率层分别交替层叠16层而构成。另外，由 第三电介质膜组及第四电介质膜组构成的电介质膜组组合具有与由第一电介 质膜组及第二电介质膜组构成的电介质膜组组合同样的光学厚度等。因此， 在由第一电介质膜组及第二电介质膜组构成的电介质膜组组合分别满足/不满 足式(1)～(7)的情况下，由第三电介质膜组及第四电介质膜组构成的电介质膜 组组合也同样地分别满足/不满足式(1)～(7)。

实施例2满足式(1)～(6)，如果与实施例3～5及比较例5～7相比，则显示 相对低的值的可见光反射率及高的值的近红外反射率。其结果，作为反射率 比显示最优异的值。

实施例3满足式(1)～(4)，反射率比显示仅次于实施例2的近红外反射膜 的第二优异的值。

实施例4及实施例5均满足式(1)及(2)，反射率比显示仅次于实施例3的 近红外反射膜的良好的值。

比较例5不满足式(1)～(7)，在高折射率层-低折射率层具有相同的光学厚 度比。另外，关于比较例6及7，也不满足式(1)～(7)，虽然在高折射率层-低 折射率层中具有不同的光学厚度，但其值大大不同。比较例5～7的近红外反 射膜的近红外反射率的降低显著，反射率比的值非常高。

(实施例6～9及比较例8～10)

实施例6～9及比较例8～10的折射率层与树脂一同含有金属氧化物粒子。 这些近红外反射膜在由上述溅射法制造的近红外反射膜、和上述折射率层含 有树脂且不含金属氧化物粒子的近红外反射膜之间显示中间的可见光反射率 及近红外光反射率。另外，在实施例6～9及比较例8～10中，电介质多层膜具 有2个电介质膜组组合，构成各电介质膜组组合的电介质膜组(第一～第四电 介质膜组)分别将高折射率层及低折射率层分别交替层叠3层而构成。另外， 由第三电介质膜组及第四电介质膜组构成的电介质膜组组合具有与由第一电 介质膜组及第二电介质膜组构成的电介质膜组组合同样的光学厚度等。因此， 在由第一电介质膜组及第二电介质膜组构成的电介质膜组组合满足/不满足式 (1)～(7)的情况下，由第三电介质膜组及第四电介质膜组构成的电介质膜组组 合也同样地满足/不满足式(1)～(7)。

实施例6均满足式(1)～(7)，如果与实施例7～9及比较例8～10相比，则显 示低可见光反射率及高近红外光反射率，作为结果，反射率比显示最优异的 值。

实施例7满足式(1)～(4)及(7)，反射率比显示仅次于实施例6的近红外反 射膜的第二优异的值。

实施例8及实施例9均满足式(1)、(2)、及(7)，反射率比显示仅次于实施 例3的近红外反射膜的良好的值。

比较例8不满足式(1)～(6)，在高折射率层-低折射率层中具有相同的光学 厚度比。另外，关于比较例9及10，也不满足式(1)～(6)，虽然在高折射率层- 低折射率层中具有不同的光学厚度，但其值大大不同。比较例8～10的近红外 反射膜的可见光反射率变高，近红外反射率变低，因此，反射率比的值显示 较高的值。

(反射峰的图表)

图2～4分别为表示实施例1、比较例1、及比较例3中制造的近红外反射 膜的反射峰的图表。在图3(比较例1)中，折射率层的光学厚度均相同，因此， 发现恒定的脉动的产生。另一方面，在图2(实施例1)中，可抑制脉动的产生。 另外，在图4(比较例3)中，虽然可稍微抑制脉动的产生，但如表1的结果表 明那样，无法说可充分抑制脉动。

图5及6分别为表示实施例2及比较例5中制造的近红外反射膜的反射 峰的图表。在图6(比较例6)中，折射率层的光学厚度均相同，因此，发现脉 动的产生。另外，近红外区域的反射峰的上升也尖锐。由该结果认为反射光 通过干涉而增强。另一方面，在图5(实施例2)中，可抑制脉动的产生。这由 表1的结果明确。另外，通过错开光学厚度，近红外区域的反射峰的峰宽变 大。由该结果认为反射光的干涉变弱。

图7～图10分别为表示实施例6～8、及比较例8中制造的近红外反射膜的 反射峰的图表。在图10(比较例8)中，折射率层的光学厚度均相同，因此，发 现脉动的产生。另外，近红外区域的反射峰的上升也尖锐。另一方面，在图 7～9(实施例6～8)中，虽然有峰的不同，但可抑制脉动的产生，另外，近红外 区域的反射峰的峰宽变大。