法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-02-10
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L51/05 申请公布日:20130703 申请日:20130320
发明专利申请公布后的视为撤回
2013-07-31
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L51/05 申请日:20130320
实质审查的生效
2013-07-03
公开
公开
机译: 具有类金刚石碳的栅绝缘层和采用该栅绝缘层的薄膜晶体管及其制造方法
机译: 具有类金刚石碳的栅绝缘层和采用该栅绝缘层的薄膜晶体管及其制造方法
机译: 用于集成电路生产的有机场效应晶体管包括布置在基板上的栅电极,绝缘层和半导体层