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一种利用激光点云扫描技术与BIM技术运用于芯片行业二次配工作的方法

摘要

本发明公开了一种利用激光点云扫描技术与BIM技术运用于芯片行业二次配工作的方法;通过激光点云扫描技术,精准录入设备模型及模型位置,导入到二次配BIM设计软件中,合理的进行二次配管,提高设计精度,从而保证施工质量,并对整体设计进行数字化存档。本发明利用激光点云扫描技术精度误差小于1mm的特点,成果设备模型、模型位置精准,同时通过合理的BIM技术进行二次配管设计,解决了设备图纸与实际设备不统一、设备定位图纸与现场实际位置不一致、常规二次配设计配管无序、无图纸存档的问题,提高工作效率、工程质量和工程信息的延续性。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-10-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06Q10/06 申请日:20190621

    实质审查的生效

  • 2019-09-24

    公开

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