机译:CMP后铜的非接触清洗工艺
机译:在CMP后清洁工艺中使用非接触式刷洗去除颗粒的建模
机译:表面活性剂在CMP后清洁过程中促进苯并三唑的去除和抑制铜腐蚀的应用
机译:后CMP铜的非接触式清洁过程
机译:开发用于a-SiC和锰CMP的配方以及CMP后的钴清洗。
机译:铜渣的元素特性和在铜渣加工设施中测得的空气中暴露量
机译:新型清洗液与各种螯合剂的比较,用于多晶硅薄膜的Cmp后清洗
机译:利用先进的集聚技术开发洁净煤和清洁土壤技术。第3卷,土壤清理和碳氢化合物废物处理过程:aRC / EpRI联盟煤炭加工开发计划。