首页> 外文OA文献 >Enabling Alternating Phase Shifted Mask Designs for a Full Logic Gate Level: Design Rules and Design Rule Checking

【2h】

Enabling Alternating Phase Shifted Mask Designs for a Full Logic Gate Level: Design Rules and Design Rule Checking

机译：为完整逻辑门电平启用交替相移掩模设计：设计规则和设计规则检查

页面导航

著录项
相似文献
相关主题

著录项

作者
Lars Liebmann; Jennifer Lund; Fook-luen Heng; Ioana Graur;
展开▼
作者单位

展开▼
年度 2001
总页数
原文格式 PDF
正文语种
中图分类

相似文献

外文文献
中文文献
专利

1. Design Rules for IGZO Logic Gates on Plastic Foil Enabling Operation at Bending Radii of 3.5 mm [J] . Munzenrieder N., Zysset C., Kinkeldei T., Electron Devices, IEEE Transactions on . 2012,第8期

机译：塑料箔上的IGZO逻辑门的设计规则，以3.5 mm的弯曲半径实现操作
2. DETERMINING MASK RULE CHECK VIOLATIONS AND MASK DESIGN [J] . Research Disclosure . 2021,第687期

机译：确定蒙版规则检查违规和掩码设计
3. Performance analysis of an IC-mask design rule check and net extraction software suite [J] . Thomas P.R., Brown A.D. IEE Proceedings. Part G, Electronic Circuits and Systems . 1989,第4期

机译：IC掩模设计规则检查和网络提取软件套件的性能分析
4. Enabling alternating phase shifted mask designs for a full logic gate level: design rules and design rule checking [C] . Liebmann, L., Lund, . 2001

机译：为完整的逻辑门级启用交替相移掩模设计：设计规则和设计规则检查
5. A configurable hardware/software system for design rule checking. [D] . Luo, Zhen. 2001

机译：用于设计规则检查的可配置硬件/软件系统。
6. Design rules for liquid crystalline electrolytes for enabling dendrite-free lithium metal batteries [O] . Zeeshan Ahmad, Zijian Hong, Venkatasubramanian Viswanathan 2020

机译：液晶电解质的设计规则用于实现无树枝状锂金属电池
7. Alternating phase-shifting mask design for low aberration sensitivity [O] . Alfred K. Wong 2005

机译：用于低像差灵敏度的交替相移掩模设计
8. Bulk CMOS VLSI Technology Studies. Part 1. Scalable CMOS Design Rules. Part 2. CMOS Approaches to PLA (Programmable Logic Array) Design [R] . Trotter, J. D., Naini, A. K. R. 1985

机译：批量CmOs VLsI技术研究。第1部分：可扩展CmOs设计规则。第2部分pLa（可编程逻辑阵列）设计的CmOs方法

Enabling Alternating Phase Shifted Mask Designs for a Full Logic Gate Level: Design Rules and Design Rule Checking

著录项

相似文献

相关主题

期刊订阅