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Vacancy defect and defect cluster energetics in ion-implanted ZnO

机译:离子注入ZnO中的空位缺陷和缺陷簇能

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摘要

We have used depth-resolved cathodoluminescence, positron annihilation, and surface photovoltage spectroscopies to determine the energy levels of Zn vacancies and vacancy clusters in bulk ZnO crystals. Doppler broadening-measured transformation of Zn vacancies to vacancy clusters with annealing shifts defect energies significantly lower in the ZnO band gap. Zn and corresponding O vacancy-related depth distributions provide a consistent explanation of depth-dependent resistivity and carrier-concentration changes induced by ion implantation.
机译:我们已经使用深度分辨阴极发光,正电子hil没和表面光电压光谱法确定块状ZnO晶体中Zn空位和空位簇的能级。 Zn空位的多普勒增宽测量转换为具有退火位移的空位簇,从而使ZnO带隙中的缺陷能明显降低。 Zn和相应的O空位相关的深度分布为离子注入引起的深度依赖的电阻率和载流子浓度变化提供了一致的解释。

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