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Experimental study of the short-circuit performanceudfor a 600V normally-off p-gate GaN HEMT

机译:短路性能的实验研究 ud用于600V常关型p栅GaN HEMT

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摘要

In this paper, the short-circuit robustness of a normally off GaN HEMT is investigated in relation to applied bias conditions and pulse duration. The results align with previous studies on normally-on devices in highlighting an electrical type of failure. Here, however, the relevance of the specific gate-drive circuit design and corresponding device operational condtions is demonstrated. A gate-bias dependence (GBD) of the failure, correlated to the applied drain-source voltage, is introduced as a novel specific feature for the p-Gate type device.
机译:在本文中,研究了常关GaN HEMT的短路鲁棒性与施加的偏置条件和脉冲持续时间的关系。该结果与以前对常开设备的研究相吻合,突出了电​​气故障类型。然而,在此,说明了特定的栅极驱动电路设计和相应的器件工作条件的相关性。引入了与施加的漏-源电压相关的故障的栅极偏置相关性(GBD),作为p-Gate型器件的一种新颖的特定功能。

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