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【2h】

Charge Carrier Transport through Nano-Slit in Ferroelectric Thin Film of Metal/Ferroelectric Junction: Possibility of New Non-Volatile Memory Device

机译:通过金属/铁电结的铁电薄膜中的纳米缝隙进行电荷载流子传输:新型非易失性存储器件的可能性

摘要

o 금속/강유전체(나노슬릿)/절연체/금속 적층구조를 갖는 1T1R (1 Transistor & 1 Resistor) 강유전체 비휘발성 메모리 소자구조 창안 및 동작 특성 모델링 - 유한요소법을 사용하여 나노슬릿 내 터널 절연막을 통한 전자에너지 밴드 프로파일 계산 - WKB 방법을 이용하여 나노슬릿을 통한 터널 전류 계산 - 강유전체 내 자발분극의 방향에 따라 나노슬릿의 터널저항이 극단적으로 변화됨을 확인 (스위칭비 > 108 ) - 파괴적 읽기 방식으로 소자 수명에 문제가 있는 기존 강유전체 메모리와 달리 비파괴적 읽기 방식의 고속, 고집적, 저전력 비휘발성 메모리 소자 구현 가능 - 소자 모델링 관련 연구결과를 한국물리학회 가을 학술논문발표회 및 미국물리학회 March Meeting에 발표 - 소자 모델링 관련 연구결과에 대한 논문 작성 중 - 현재 고안된 소자 구조의 실제 구현을 위한 공정개발 및 이를 통한 시작품 제작 중 o 강유전체 박막 상에 형성된 가장자리 금속/절연체/금속 (EMIM: Edge Metal/Insulator/Metal) 터널소자를 이용한 1T (1 Transistor) 비휘발성 메모리 소자 구조 창안, 소자 모델링, 소자 제작 - 강유전체 박막 상에 얇은 절연막을 사이에 두고 두 금속박막 전극이 교차되는 면에 형성되는 EMIM 소자구조를 이용해 제조공정과 집적도 면에서 가장 유리한 1T 구조의 비파괴적 읽기 방식의 강유전체 메모리 소자 구조 창안 - 강유전체 박막의 자발분극의 방향에 따른 EMIM 소자의 터널저항 변화를 이론적으로 계산 (유한요소법 전자에너지 밴드 프로파일 계산, WKB 방법 이용 터널전류 계산) 하여 스위칭 비가 > 60,000 이 됨을 확인 - 소자 모델링 관련 연구결과를 한국물리학회 가을 학술논문발표회 및 미국물리학회 March Meeting에 발표 - 현재 소자 모델링 결과에 대해 논문 작성 중이며 아울러 소자구조 관련 특허 출원하였음. - EMIM 소자를 실제로 제작해 동작 특성을 평가하였음
机译:o创建具有金属/铁电(纳米裂隙)/绝缘体/金属堆叠结构的1T1R(1晶体管和1电阻)铁电非易失性存储器件结构,并通过有限元方法对通过纳米隙中的隧道绝缘膜的电子能量进行工作特性建模能带分布的计算-使用WKB方法计算通过纳米缝的隧道电流-确认纳米缝的隧道电阻根据铁电体中自发极化的方向(开关比> 108)急剧变化-破坏性的读取方法可延长器件寿命与传统的铁电存储器不同,可以实现高速,高密度和低功耗非易失性存储设备的无损读取方法。-在韩国物理学会秋季会议和美国物理学会三月会议上提出了设备建模研究的结果-设备建模在就研究结果撰写论文的过程中-在实际开发当前设计的器件结构的过程开发过程中以及通过该过程生产原型的过程中,o在铁电薄膜上形成的Edge金属/绝缘体/金属(EMIM)隧道器件使用1T(1晶体管)非易失性存储器件结构创建,器件建模和器件制造-使用在两个金属薄膜电极与铁电薄膜上的绝缘薄膜相交的表面上形成的EMIM器件结构进行制造过程和集成最有利的1T结构无损读取铁电存储器件结构,根据铁电薄膜的自发极化方向从理论上计算EMIM器件的隧道电阻变化(有限元方法电子能带分布计算,使用WKB方法的隧道电流计算),以确保切换比例> 60,000。-在韩国物理学会秋季会议和美国物理学会3月会议上介绍了设备建模的结果。 -通过实际制造EMIM器件来评估操作特性。

著录项

  • 作者

    Park Kibog;

  • 作者单位
  • 年度 2013
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  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 other
  • 中图分类

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