首页> 外文OA文献 >Analyse électrique et en bruit basse fréquence et haute-fréquence des technologies InAIN/GaN HEMTs en vue de la conception d'amplificateurs robustes faible bruit en bande Ka
【2h】

Analyse électrique et en bruit basse fréquence et haute-fréquence des technologies InAIN/GaN HEMTs en vue de la conception d'amplificateurs robustes faible bruit en bande Ka

机译:InAIN / GaN HEMTs技术的低频和高频电噪声分析,用于设计耐用的低噪声Ka波段放大器

摘要

Les technologies à grande bande interdite font l'objet d'un engouement croissant depuis plus d'une décennie, en raison de leurs aptitudes naturelles pour réaliser des fonctions électroniques opérant à forte puissance, à forte température et à haute fréquence. Parmi ces technologies, celle basée sur l'hétérostructure AlGaN/GaN est la plus mature à l'heure actuelle en hyperfréquence. L'utilisation d'une hétérojonction InAlN/GaN est une solution attractive pour augmenter les fréquences de fonctionnement de ces dispositifs et réaliser ainsi des circuits fonctionnant aux ondes millimétriques. La première partie de notre travail est consacrée à l'étude électrique des différentes déclinaisons technologiques InAlN/GaN développées à III-V Lab. Celle-ci a permis de mettre en évidence les différents mécanismes de conduction du courant de grille grâce à une analyse du courant de fuite et à des mesures C(V) de la jonction Schottky. Des mesures en petit-signal ont mis en évidence la dispersion fréquentielle de la conductance de sortie et de la transconductance extrinsèques jusqu'aux fréquences de 1 GHz. Nous avons ainsi proposé des modèles analytiques large-bande afin de prendre en compte ces phénomènes de dispersion lors de la conception des circuits. Une deuxième partie a consisté en l'étude du bruit de fond dans les transistors InAlN/GaN. Les caractérisations et modélisations du bruit basse-fréquence ont mis en évidence et confirmé les mécanismes de piégeage/dépiégeage observés lors de l'étude électrique. L'étude du bruit en haute fréquence a permis d'évaluer les évolutions technologiques de cette filière et de connaitre les conditions optimales en bruit pour la conception des LNAs. Dans la dernière partie, des amplificateurs faible bruit hybrides ont été réalisés à partir de ces dispositifs reportés en flip-chip sur des alumines afin de démontrer les potentialités de cette technologie en bande Ka. Des amplificateurs à un étage ont été conçus, notamment pour des tests de robustesse, et présentent un gain de 5 dB et un facteur de bruit de 3.1 dB à 29.5 GHz. Les simulations effectuées sur des amplificateurs 3 étages indiquent des performances intéressantes en termes de gain (20 dB) et de facteur de bruit (3 dB) comparées à celles obtenues dans la littérature sur des composants à base de GaN.
机译:十多年来,由于宽带技术具有执行高功率,高温和高频下运行的电子功能的自然能力,因此宽带禁止技术一直是人们日益增长的热情主题。在这些技术中,基于AlGaN / GaN异质结构的技术是目前微波中最成熟的技术。 InAlN / GaN异质结的使用是一种吸引人的解决方案,可以提高这些器件的工作频率,从而产生以毫米波工作的电路。我们工作的第一部分致力于III-V实验室开发的InAlN / GaN各种技术变化的电气研究。由于对漏电流的分析以及肖特基结的测量值C(V),因此可以突出显示电网电流的各种传导机制。小信号测量表明,在高达1 GHz的频率下,非本征输出电导和跨导的频率色散。因此,我们提出了宽带分析模型,以便在设计电路时考虑这些色散现象。第二部分包括研究InAlN / GaN晶体管的背景噪声。低频噪声的特征和模型已突出显示并确认了电学研究中观察到的捕获/捕获机制。高频噪声的研究使得评估该领域的技术发展以及了解LNA设计的最佳噪声条件成为可能。在最后一部分中,混合低噪声放大器是由将这些器件倒装芯片转移到氧化铝上制成的,目的是展示这种Ka波段技术的潜力。设计了单级放大器,特别是用于耐用性测试,在29.5 GHz时增益为5 dB,噪声系数为3.1 dB。与在基于GaN的组件的文献中获得的性能相比,在三级放大器上进行的仿真表明,在增益(20 dB)和噪声因子(3 dB)方面,性能表现出令人感兴趣的性能。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号