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高周波によるプラズマ加熱技術入門 2.高周波加熱技術ことはじめ

机译:高频等离子体加热技术简介2。高频加热技术简介

摘要

高周波を用いたプラズマ加熱装置を説明するにあたって,必要となる基礎的な知識を概観した.特に必要とされる高電力に対応する技術項目として,高周波の発生源である発振器として四極管,クライストロン,マグネトロン,ジャイロトロン等についてその原理と実際について図を用いて説明した.高周波の伝送技術については,主に使用される周波数帯を意識して記述した.基礎的な伝送線路的な扱い方,反射や整合の記述,解析するためのスミスチャートを始め,マイクロ波ミリ波で必要となる導波管の扱い方,準光学的な扱いまでを,概念的なことを主に記述するように努めた.
机译:概述了解释使用高频等离子体加热装置所需的基本知识。作为与特别需要的高功率相对应的技术项目,使用附图说明了作为振荡器的四极管,速调管,磁控管,回旋管等作为振荡器的原理和实践。关于高频传输技术,我们主要描述了所使用的频带。从处理传输线的基本方法,反射和匹配的描述到史密斯圆图进行分析,再到微波毫米波所需的波导的处理,再到准光处理,我试图主要描述事物。

著录项

  • 作者

    武藤 敬; 下妻 隆;

  • 作者单位
  • 年度 2006
  • 总页数
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 ja
  • 中图分类

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