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机译:193 nm光刻的双层甲硅烷化过程研究。
I. Satou; K. Kuhara; M. Endo; H. Morimoto;
机译:103 nm光刻的双层硅烷化工艺的工艺表征
机译:通过利用FIRM工艺修改抗蚀剂聚合物和工艺条件来进行193 nm抗蚀剂塌陷研究
机译:193nm光刻的双层电致甲硅烷基化工艺研究
机译:通过气相甲硅烷基化对193 nm光刻进行顶表面成像
机译:193-NM准分子激光在视力近视眼角膜切除术中的应用:一项多中心研究。
机译:优化193-nm光刻的顶表面成像过程。
机译:使用酸催化抗蚀剂的193nm光刻的甲硅烷基化方法
机译:没有193 nm准分子激光图案化的光敏添加剂的线型酚醛清漆薄膜的表面势垒硅烷化
机译:双层甲硅烷基化工艺
机译:使用抗反射涂层(ARC)进行双层甲硅烷基化工艺以制作无畸变的亚微米光刻胶图案
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