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机译:从100℃至400℃的非晶硅膜的等离子体增强化学气相沉积的表征
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机译:CVD石墨烯上等离子增强化学气相沉积法制备的无转移反型石墨烯/硅异质结构
机译:通过等离子体增强的化学气相沉积沉积氢化非晶碳化硅薄膜
机译:非晶硅等离子体增强化学气相沉积过程中放电动力学和等离子体化学模型