机译:使用Silsesquoxane进行化学扩增的Si抗蚀剂,用于ARF光刻(休闲)及其在双层抗蚀剂过程中的应用。
机译:新型非化学放大的分子抗蚀剂设计,具有用于多光刻应用和纳米透明仪的可切换敏感性
机译:面向电子束光刻应用的新型非化学放大(n-CARS)负性抗蚀剂
机译:化学放大抗蚀剂在电子束光刻中的应用的最新进展
机译:使用吸收带移方法与ARF准分子激光光刻结合使用吸收带移方法的化学放大抗蚀剂
机译:探索基于溶出抑制剂的非化学放大抗蚀剂,用于193 nm光刻。
机译:HfO2 / TiOx双层电阻随机存取存储器中的低功率电阻切换特性
机译:含有ARF准分子激光光刻的化学放大的抗蚀剂。