机译:在不同沉积温度下RF-磁控溅射制备的ZnO纳米结构的结构,光学和UV光响应性的退火效应
机译:低温缓冲,射频功率和退火对射频磁控溅射生长的ZnO / Al_2O_3(0001)薄膜的结构和光学性能的影响
机译:射频磁控溅射并在不同温度下退火制备的RuO_(2)薄膜的结构和电性能
机译:共掺杂对射频磁控溅射制备ZnO纳米结构和光学性能的影响
机译:退火处理对通过同时RF-磁控溅射制备的TiO_2 / ZnO薄膜性能的影响
机译:沉积参数与射频磁控溅射沉积氧化锆薄膜性能之间的关系。
机译:使用低温气相陷阱热化学气相沉积法在蓝宝石衬底上生长的Zno微米/纳米结构:结构和光学性质
机译:错误:“低温缓冲液,RF功率和退火对由RF-磁控溅射生长的ZnO / Al2O3(0001)薄膜结构和光学性质的影响”J。苹果。物理。 106,023511(2009)