机译:靶衬底距离电池碳棒靶材料对SKD11钢碳薄膜厚度和硬度的影响
机译:靶-基片距离对非晶碳膜的结构,机械和电性能的作用
机译:靶材与衬底的距离和组成对氧化钇稳定的氧化锆薄膜择优取向的影响
机译:射频磁控溅射法制备的掺杂铝的ZnO薄膜的微观结构,电导率和透明性随靶材距离的变化
机译:使用电池碳棒作为靶的低频等离子体溅射沉积碳薄膜
机译:通过沉积方法和膜厚控制和设计PECVD碳掺杂低k二氧化硅薄膜的关键性能。
机译:使用碳纳米管/聚四氟乙烯复合聚合物靶材通过中频溅射制备的氟碳薄膜
机译:直流反应溅射技术研究衬底温度和靶-衬底距离对TiO2薄膜生长的影响