机译:光化掩模成像:sHaRp EUV显微镜的最新结果和未来方向。会议:极紫外(EUV)光刻V,加利福尼亚州圣何塞,2014年2月23日;相关信息:期刊出版日期:2014年4月17日。
SEMATECH; Aperture arrays; High-resolutions images; Microscope images; Coherence effect; Zoneplate; Extreme ultraviolet; Actinic; Synchrotron-based; Positions; Mask; Imaging analysis; EUV optics; Coherence imaging; Imaging properties; Sharp models; SEMATECH High Numerical Aperture Actinic Reticle Review Project (SHARP);
机译:极端光刻技术:大学获得1700万美元的EUV拨款
机译:极紫外光刻掩模上的光化成像和相结构评估
机译:光化掩模成像:SHARP EUV显微镜的最新结果和未来方向
机译:SemaTech高NA光旋能疱疹综述项目(夏普)EUV掩模 - 成像显微镜
机译:更新sEmaTECH 0.5 Na极紫外光刻(EUVL)微场曝光工具(mET)。会议:spIE - 极紫外(EUV)光刻V,加利福尼亚州圣何塞,2014年2月23日;相关信息:Journal.publication日期:90481m。