Alloy films; Alloys; Atomic layer deposition; Atomic properties; Critical compressive strain; Critical tensile strain; Fabrication; Flexible films; Gas diffusion barriers; Mechanical properties of thin films; Molecular layer deposition; Molecules; Strain(Mechanics); Thin films; Water vapor transmission rate;
机译:使用Al2O3原子层沉积和Alucone分子层沉积生长的纳米层压膜的临界拉伸应变和水蒸气透过率
机译:使用Al_2O_3原子层沉积和Alucone分子层沉积生长的纳米层压膜的临界拉伸应变和水蒸气透过率
机译:具有多层涂层的钢的腐蚀防护:使用Al2O3 / TiO2原子层沉积纳米层压板改善物理气相沉积CrN涂层的密封性能
机译:利用原子和分子层沉积技术制备的有机-无机杂化膜
机译:使用原子和分子层沉积技术沉积的无机和杂化有机-无机薄膜的生长,表征和后处理。
机译:基于原子层沉积有机-无机杂化层的分子控释简单方法
机译:基于原子层沉积杂化有机 - 无机层的分子控释的简便方法