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伊東 佑規; 脇坂 憲一; 角 博康吉門 進三Yuki ItoKenichi WakisakaHiroyasu KadoShinzo Yoshikado;
薄膜高温発熱体; (La{sub}0.85Ca{sub}0.15)CrO{sub}3薄膜; RFマグネトロンスパッタリング法; アルミナ基板純度; High temperature heater; Thin (La{sub}0.85Ca{sub}0.15)CrO{sub}3 film; RF magnetron sputtering method; Alumina substrate purity;
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