薄型結晶シリコン太陽電池に向けたナノインプリントテクスチャの光閉じ込め効果

摘要

薄型結晶シリコン太陽電池の実現には光吸収層内での光り閉じ込め効果が重要であり，光の多重反射を目的としたテクスチャを形成することが必要である．我々はテクスチャ形成法としてナノインプリント法に注目している．本研究では表面および裏面テクスチャ単独，表面·裏面テクスチャの組み合わせについて光学シミュレーションによるシリコン内の光吸収率の評価を行った．その結果，ミクロンスケールの表面·裏面テクスチャの組み合わせは単独時と比較し，吸収率が増加する傾向が見られた．また光吸収分布より，中·長波長域で強く光を吸収するスポットが確認できた．この結果から，薄型結晶シリコン太陽電池の光閉じ込め構造にはミクロンスケールの表面·裏面テクスチャの組み合わせが有効であると考えられた．