四重極質量分析計(RGA)戸の残留ガス分析技術

摘要

四重極質量分析計による残留ガス分析は，300 mmウェハ時代を迎えるに当たっては，高精度化する半導体製造プロセスの歩留りを向上させる第一歩として各チャンバの残留水分を計測，監視するための機器として，チャンバ毎に設置を検討されるほど用途が広がってきている。本稿では，半導体製造装置·技術におけるRGA応用技術について，STEC製RGAの開発経緯と今後の方向を報告する。