Chira-at-Metal錯体の精密設計:四面体型キラル亜錯錯体の合成と触媒機能

摘要

キラルな金属錯体は，不斉触媒やキラル光学材料として幅広く用いられている。キラル金属錯体の最も一般的な合成法は，キラルな配位子を金属イオンに結合させる方法である。一方，異なる複数のアキラルな配位子を金属中心に結合させることにより，その立体配置に由来するキラリテイ一を生じさせることができる。このような錯体はchiral-at-metal錯体と呼ばれる（図1a)。Chiral-at-metal錯体の特徴は，光学的に純粋なキラル配位子の合成が不要なことだけでなく，金属中心の周辺に，配位構造に特異なキラル空間をつくり出せることにある。特に，反応基質が金属中心で活性化される触媒反応の場合，反応基質は金属近傍のキラル空間に取り込まれるため，設計性のより高い不斉触媒として近年注目されている。本稿では，これらのchiral-at-metal錯体の設計原理と，筆者らが最近報告した四面体型chiral-at-zinc錯体について報告する。