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工業ナノ材料の曝露は,エピジェネティックコ一ドにどのように影響するか?メカニズムおよび分子標的のレビュー

机译:工業ナノ材料の曝露は,エピジェネティックコ一ドにどのように影響するか?メカニズムおよび分子標的のレビュー

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摘要

工業ナノ材料(ENM)がエピジェネティック修飾を誘発する可能性があることが示唆されている。このレビューでは,酸化チタン(TiO2),銀(Ag),金(Au),シリカ(SiO2)ナノ粒子および炭素系ナノ材料(CNM)などのさまざまなアプリケーションで使用されるENMによって誘導される遺伝子発現のエピジェネティック制御の概要を提供する。これらのENMの曝露は,DNAメチル イ匕,転写後ヒストン修飾およびノンコーディングRNAの発現の変化を引き起こす可能性がある。このような影響は,ENMの用量や,サイズ,形状,表面化学などの物理化学的特性および細胞/生物の感受性に依存する。影響を受けた遺伝子は,主にエピジェネティック機構の調節,ならびにアポトーシス,細胞周期,DNA修復および炎症関連経路に関与しており,その長期的な変化が特定の病状の発症または進行につながる可能性がある。さらに,一部のDNAメチル化パターンは,エピジェネティックな記憶の一形態として保持される場合がある。

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