04年の露光装置市場動向－ASMLの1強時代が到来か

摘要

露光装置にとっての04年は，ArF液浸露光装置が，既存技術の改良，薬液を用いるなどの新規技術の採用によりNAを引き上げ，65nmノードのみならず，45nm ノードに対しても適用が考えられるようになり，次世代露光装置の本命の座を固めた年となった。 装置市場を見ると，04年（暦年ベース）は半導体向け露光装置メーカー各社ともに売り上げを伸ばしたものの，最終的にはASMLが一人勝ち，という結果になった。 また，03年には台数ベースでニコンがASMLを抜きトップシェアを獲得したものの，04年で再びASMLがニコンを抜き去りトップへと返り咲いた。 05年もASMLは競合他社以上に売り上げを伸ばす可能性が高く，露光装置市場は1強支配の時代に突入したといっても過言ではない状況となってきた。