Intemational Technology Roadmap for Semiconductors 2003 の要求清浄度について－シリコンウエハ表面と雰囲気環境に要求される清浄度，分析方法の現状について一

飯田裕幸; 竹田常男; 藤本武利; Hiroyuki Iida; Kikuo Takeda; Taketoshi Fujimoto

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Intemational Technology Roadmap for Semiconductors 2003 の要求清浄度について－シリコンウエハ表面と雰囲気環境に要求される清浄度，分析方法の現状について一

机译：用于半导体的半导体2003-ON上的硅晶片表面的型号的型号技术路线图以及大气环境所需的分析方法

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半導体に関するロードマップはUSAのSemiconductor Industry Associationが1992，1994，1997にNational Technology RoadmapforSemiconductorsとして公表された。その後，USA以外の各国の参加により，1999年にはhtemadonal Technology Road map for Semiconductorsとして刊行されている。（日本はemiconductor Technology Road map Comittee of Japan（STRJ）で独自のRoadmapを作成し，この国際半導体技術ロードマップに提案している。）

机译：半导体路线图已作为国家科技路线普罗斯省，美国半导体工业协会发布。此后，1999年作为半导体的HEMADONAL技术路线图公布了美国以外的内部人员。（日本在日本Emicumondiond Technology Road地图上创建自己的路线图（Strj），并提出了这一国际半导体技术路线图。）

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来源
《エアロゾル研究》 |2004年第3期|共4页
作者
飯田裕幸; 竹田常男; 藤本武利; Hiroyuki Iida; Kikuo Takeda; Taketoshi Fujimoto;
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作者单位

（株）住化分析センター筑波事業所;

（株）住化分析センター千葉事業所;

（株）住化分析センター本社;

Tsukuba Laboratory Sumika Chemical Analysis Service Ltd. 6-Kitahara Tsukuba 300-3266;

Chiba Laboratory Sumika Chemical Analysis Service Ltd. 9-1 Kitasode Sodegaura 299-0266;

Head Office Sumika Chemical Analysis Service Ltd. 4-6-17 Koraibashi Chuo-ku Osaka 541-0043;

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收录信息
原文格式 PDF
正文语种 jpn
中图分类胶体化学（分散体系的物理化学）;
关键词
ITRS; Roadmap; Cleanliness Required Level; Particle; Airborne Molecular Contaminants (AMCs); Surface Molecular Contaminants (SMCs); Atmosphere; Cleanroom; Determination Limit; Silicon Wafer;

机译：ITRS;路线图;清洁所需水平;颗粒;空气传播的分子污染物（AMCs）;表面分子污染物（SMC）;大气;洁净室;确定极限;硅晶片;硅晶片;

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1. Intemational Technology Roadmap for Semiconductors 2003 の要求清浄度について－シリコンウエハ表面と雰囲気環境に要求される清浄度，分析方法の現状について一 [J] . 飯田裕幸, 竹田常男, 藤本武利, エアロゾル研究 . 2004,第3期

机译：关于《 2003年半导体国际技术路线图》中要求的清洁度-关于硅晶片表面和大气环境所需的清洁度现状和分析方法。
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