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炭化珪素単結晶ウエハを開発ブリヂストンが世界初

机译:开发碳化硅单晶晶片普利司通是世界上第一个

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摘要

ブリヂストンは、次世代の半導体の基板として期待されている炭化珪素(SiC)単結晶ウエハの開発に成功した。 炭化珪素半導体は、現在のシリコーン半導体に比べて、電力損失性、高速動作性、高温動作性等に優れた特性をもっている。 この半導体を用いた各種デバイスが実用されると、情報通信·エネルギー·自動車関連産業など幅広い分野での活用が見込まれ、またLED、LDなど光学デバイスの主流となる窒化ガリウム(GaN)デバイスの基板としても利用が進hでいる。
机译:普利司通成功开发碳化硅(SiC)单晶晶片,预期为下一代半导体的基材。 与目前的硅胶半导体相比,碳化硅半导体具有功率损耗,高速操作,高温操作等的优异特性。 当使用该半导体的各种设备进行实践时,在广泛的领域中利用诸如信息通信,能源和汽车相关行业等。甚至使用是推进H.

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