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ヒドロシランと金属オキソ錯体を用いる触媒的還元反応

机译:用氢硅烷和金属氧代复合物催化还原反应

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摘要

金属オキソ錯体(金属-酸素多重結合を有する高原子価遷移金属錯体)は,従来,酸化反応や酸素原子転位反応の触媒として用いられてきたが,2003年にTosteらは金属オキソ錯体を還元反応の触媒として利用する反応を報告した。触媒量のレニウム(V)ジオキソ錯体(1)存在下,ヒドロシランを還元剤に用いることで,カルボニル化合物の還元(ヒドロシリル化)が高収率で進行する(スキーム1)。本反応は,ロジウムや鋼などの低原子価遷移金属触媒を用いるヒドロシリル化反応と異なり,厳密な脱気·脱水条件が不要という利点がある。
机译:金属氧代复合物(具有金属 - 氧复合物的高度神经过渡金属配合物)通常被用作氧化反应和氧原子脱位反应的催化剂,但Toste等。2003年减少金属氧代络合物,将反应报告为催化剂。 通过在催化量的铼(V)二恶英复合物(1)存在下使用氢硅烷,羰基化合物的还原(氢化硅烷化)具有高产率(方案1)。 该反应与使用低价过渡金属催化剂如铑和钢的氢化硅烷化反应不同,并且具有不需要严格脱气和脱水条件的优点。

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