酸化ガリウム半導体の表面制御と高品質単結晶薄膜の作製

摘要

半導体デバイスの進化は，新しい半導体材料の開発に負うところが大きい。窒化ガリウム（GaN）をベースとした材料の開発が大きなインパクトをもたらして以来，次のターゲットと考えられている材料の一つに酸化物半導体がある。酸化物半導体の特徴として，例えば，絶縁体に近い高抵抗から透明導電膜として用いられるほどの低抵抗を示すほか，光·電子·磁気機能にわたる多様な特性を示すことがあげられる。多くの材料は広いバンドギャップを持ち，透明トランジスタ，紫外光機能デバイス，パワーデバイス等への応用が期待されるとともに，新しいスピントロニクス材料としての応用も考えられる。酸化物半導体のもう一つの側面は，環境に優しい材料という点である。酸化物は多くのものが安定で，酸化反応は多くの金属にとって最も生じやすい反応である。