半導体用現像液高純度水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液の製造法

摘要

電子材料分野で大量に使用されているTMAH水溶液の高純度製造法について検討した。 その結果，本報で述べたTMAC（10）を合成中間体とする方法は，従来法に比べて以下の利点を有する，優れた方法である。 （1）電流効率が非常に良かった。これは陽極液（TMAC水溶液）が終始pH＝9－10であるためである。 （2）廃液·排ガス処理の必要が無かった，（3）得られた製品内への炭酸イオンの混入は10ppm以下と微量であり，塩化物イオンの混入は認められなかった。 （4）合成中間体製造装置として，ステンレス材が使用可能であることがわかった。 本法を用いることにより，レジスト用現像液として用いられる高純度TMAH製造法は完成したものと思われる。