首页> 外文期刊>Физика >ТОКОВАЯ НЕУСТОЙЧИВОСТЬ В ЧЕТЫРЕХСЛОЙНЫХ р-и-р-л-СТРУКТУРАХ
【24h】

ТОКОВАЯ НЕУСТОЙЧИВОСТЬ В ЧЕТЫРЕХСЛОЙНЫХ р-и-р-л-СТРУКТУРАХ

机译:四层P-and-R-L结构中的电流不稳定性

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

Исследовалось поведение р_1-п_1-р_2-п_2-структуp с контактами к n_1- и n_2-областям. Показано, что при таком двухэлектродном включении четырехслойные структуры в некотором интервале напряжений не имеют стационарного состояния - в них развивается неустойчивость, сопровождающаяся генерацией импульсов тока релаксационной формы. Предложена физическая модель наблюдаемой нестабильности.
机译:研究了P_1-P_1-P_2-P_2结构与N_1-和N_2-区域的行为。 结果表明,通过这种双电极包含,在某个电压范围内的四层结构不具有静止状态 - 它们正在发展不稳定,伴随着弛豫电流脉冲的产生。 提出了观察到的不稳定性的物理模型。

著录项

获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号