プラズマによる短波長光源研究の進展とその物理

摘要

半導体集積回路の微細化は,情報化社会を飛躍的に発展 することに大きく貢献している.この半導体集積回路の高 密度化を支えてきたのが微細な回路パターンを形成するリ ソグラフィ技術である.半導体技術ロードマップ（Inter-national Technology Roadmap for Semiconductors: ITRS)によると,半導体集積回路は2013年にハーフピッチ 32 nm, 2016年に22nmのように更なる微細化が求められ ており,リソグラフィ技術の研究開発はさらに重要になっ てきている.半導体集積回路の量産には依然として投影露 光による光リソグラフィ技術が用いられているが,従来技 術の延長では解像度が限界に近づいている.