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低酸素の分子イメージング

机译:低氧分子成像

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摘要

活深な細胞増殖を行っているがh組織においては、腫瘍の増大速度に血管新生が追いつかず、腫瘍組織内に低酸素領域が出現する。腫瘍組織内の低酸素領域の存在は、放射線治療や杭がh剤に対する抵抗性の大きな原因となることは古くから知られていたが、近年の研究により、がh細胞が低酸素状態に適応する過程で、様々な遺伝子発現が惹起され、その結果として、がh細胞がその悪性度をさらに増すことが明らかとなった。以上より、治療を行うにあたって、前もってそのがh組織における低酸素の状態を知ることは、治療方針の決定ゃ治療効果や予後の予測などにおいて重要な臨床的意義を有すると考えられる。
机译:在H-Coass,在H-Coass中,缺氧区域出现在H-组织中的肿瘤组织中,但缺氧区域出现在肿瘤组织中。 肿瘤组织中缺氧区域的存在长期以来已知放射治疗和桩具有抗HA代理的主要原因,但近年来,H细胞通过研究调整缺氧状态进行各种基因表达,导致进一步增加他们的恶性肿瘤。 从以上,据信,预先确定H组织中的缺氧在测定治疗政策和预后预测中具有重要的临床意义。

著录项

  • 来源
    《核医学》 |2010年第3期|共1页
  • 作者

    佐賀恒夫;

  • 作者单位

    放射線医学総合研究所分子イメージング研究センター;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类 放射医学;
  • 关键词

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