Selete Symposium 2005レビュー－hp45nm以降での実用化に向けた技術が報告

摘要

05年5月30日，パシフィコ横浜においてSelete Symposium 2005が開催された。 96年2月に半導体メーカー10社によって設立された半導体先端テクノロジーズ(Selete)は，02年よりSelete Symposiumを開催しており，今回が4回目となった。 また同社は，01年4月より「あすかプロジェクト」をスタートさせている。 同プロジェクトの最終的な目標は，SoC開発の共通基盤の構築，産学官による連携の促進·強化などであるが，04年には65nmに対応したフロントエンドプロセスおよびバックエンドプロセスの開発を実現しており，いわば“最初のゴール”に到達した。