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「窒化物半導体マルチビジネス創生センター」が竣工、開所記念式典開催

机译:“氮化物半导体多商务创建中心”完成,开放开放纪念仪式

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摘要

国立大学法人名古屋工業大学(愛知県名古屋市昭和区御器所町、高橋実学長) は9月20日、同大学の江川孝志電気電子工学科教授の「シリコン基板上での窒化ガリウム結晶成長技術」を利用して、窒化物半導体パワーデバイスの実用化と事業化に向けた研究開発を推進する拠点である「窒化物半導体マルチビジネス創生センター」 (江川教授がセンター長) の開所記念式典を開催。関係各省の関係者、県·市関係者、共同研究参画企業及び参画予定企業関係者、各関係団体、大学関係者など78名が参加した。
机译:国立大学公司名古屋科技大学(Aichi Peoya Nagoya City,Takahiro,Takahashi,Takahashi,Takahashi,Takahashi,Takao Takahiro,Takao Eragawa,Takao Eragawa,大学利用“硅基衬里上的氮化镓晶体生长技术”举起“氮化物半导体多商业创建中心”(EGAWA教授)开放式开幕式,这是一个促进氮化物半导体功率器件的实际使用和商业化的研发的基础。 有78人,包括相关方,县,城市官员,联合研究参与者和参与公司,每个相关的组织,大学官员等。

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