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Fe/TiN 人工多層膜を用いたトラップ水素位置の解析その6

机译:使用Fe / TiN人工多层膜分析陷阱氢位置第6部分

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摘要

1200MPa 超級の高強度鋼では、水素脆化の防止が最重要課題の一つである。水素脆化は、腐食反応などにより発生? 吸蔵された拡散性水素に起因すると考えられている。このため、水素脆化の防止策の一つとして、拡散性水素のトラッ プ作用を有するTi やV などの炭窒化物の分散が試みられている1)。これらの炭窒化物による水素のトラップ挙動は、 これまで昇温脱離分析法などによって調べられているが、多くはサブミクロン以下の微細析出物形態であることから、 トラップ水素を直接検出した例は少ない2)。我々は、Fe/TiN多層膜を人工合成して水素(H)および重水素(D)チャージを 行い、大気圧イオン化質量分析法(API-MS)と二次イオン質量分析法(SIMS)によりトラップ水素の存在位置(分布)の解析 を試みた。その結果、Fe/TiN 多層膜中に吸蔵したHあるいはDはFe/TiN 界面近傍に存在していることが示唆された 3-6)。多層膜界面にトラップされた水素の非破壊の解析方法としてX線あるいは中性子を用いた反射率測定が有効と考え られる。本稿では、Fe/TiN 多層膜においてD の存在の影響についてシミュレーションを行い、反射率測定の有効性を 検討したので報告する。
机译:防止氢脆是对于1200MPa级超高强度钢而言最重要的问题之一。氢脆性被认为是由于腐蚀反应而产生或储存的扩散氢引起的。因此,作为防止氢脆性的措施之一,已经尝试了分散具有捕集氢扩散作用的Ti和V之类的碳氮化物1)。已经通过热脱附分析等研究了这些碳氮化物对氢的捕集行为,但是由于它们大多数以亚微米以下的细小沉淀形式存在,因此直接检测被捕集氢的示例是少数2)。我们人工合成Fe / TiN多层膜以充氢(H)和氘(D),并通过大气压电离质量分析(API-MS)和二次离子质量分析(SIMS)进行捕集。我们试图分析氢的位置(分布)。结果表明,存储在Fe / TiN多层膜中的H或D存在于Fe / TiN界面3-6附近。对于多层膜界面处捕获的氢,使用X射线或中子进行反射率测量是一种有效的非破坏性分析方法。在本文中,我们通过模拟D对Fe / TiN多层膜的影响来报告反射率测量的有效性。

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