...
首页> 外文期刊>電子技術 >次世代MRAMのための新材料技術 - く記憶容量1 Gbitの壁を破るためのMRAMの材料開発動向を紹介する〉
【24h】

次世代MRAMのための新材料技術 - く記憶容量1 Gbitの壁を破るためのMRAMの材料開発動向を紹介する〉

机译:下一代MRAM的新材料技术-介绍MRAM材料的发展趋势以突破存储容量的障碍1 Gbit>

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

現行の技術では、MRAM (磁気抵抗ランダムアクセスメモリ)の記録容量は1 Gbitが上限であると言われている。 この壁を破るには①より大きな磁気抵抗効果を示すTMR (トンネル磁気抵抗)素子を開発すること、および、②書込み電流を小さくすること、が必要となる。 本稿では、これらの問題に対する材料開発の立場からの取り組みを中心に紹介する。
机译:使用当前技术,据说MRAM(磁阻随机存取存储器)的最大记录容量为1 Gbit。为了打破该壁,需要(1)开发一种表现出较大磁阻效应的TMR(隧道磁阻)元件,以及(2)减小写入电流。本文主要从材料开发的角度介绍解决这些问题的努力。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号