Изучено гидрирование оснований Шиффа в мягких условиях (298-318 ℃; Р_(H2) =0.1 МПа, органический растворитель - ДМФА) на Pd/С. По результатам квантовохимических расчетов исследуемых соединений (метод РВЕ/sbk (ОРТ) программа Рпгойа) проведена оценка молекулярных дескрипторов, описывающих их реакционную способность в гидрировании. Показано, что использование величин сродства к электрону и заряда на > С=N- связи оснований Шиффа позволяет получить модели с хорошими прогностическими свойствами.
展开▼
