Co／Pt 原子層積層スパッタ堆積による傾斜異方性膜の作製

摘要

ビットパターン媒体用の弱傾斜磁気異方性膜の作製を検討した．初めに高; 高垂直磁気異方性を持つ Co／Pt 積層膜の室温作製を検討した．Co と Pt の同時スパッタリングで，基板ホルダー回転により fcc（111）配向した Co／Pt 積層膜が得られた．高 Ar 圧力堆積，かつ Co と Pt 層を 2～3 原子層相当膜厚で積層することで，M；が 500 emu/cm~3 以上実効垂直 H_k が 20 kOe 以上の膜が得られた．60° 傾斜コリメータスパッタ堆積によりこの積層膜を作製したところ，結晶配向軸の傾斜が 6° ほど，垂直抗磁力が 5kOe ほどの膜が得られた．トルク測定で傾斜角が 8° ほどであることが確認できた．まだ異方睦の値は垂直膜に比べて1／3 ほどと小さいが，高密度記録用傾斜異方性膜の作製が可能と期待される．