ナノインプリント技術と適用

摘要

ナノインプリントは、光ディスク製竹では良く知られているエンボス技術を発展させ、その解像性を高めた技術であり、凹凸のパターンを形成したモールドを、基板上の液状ポリマーなどへ押し付けパターンを転写するものである。この技術を光素子や半導体素子あるいは、ナノ構造材料形成など新たな応用へ展開しようとする試みが進められており、10nmレベルのナノ構造体を、安価に大量生産でき、かつ高精度化が可能となりうる技術として近年注目を浴びている。1995年にプリンストン大学のChou教授が、ポリマーのガラス転移温度付近で昇温、冷却過程により10nmパターン転写が可能であるナノインプリント技術を発表した。熱サイクルプロセスであるため、熱ナノインプリントとも呼ばれている。その後、オランダのフィリップス研究所（1996年）、米国テキサス大学のWilson教授が紫外光硬化樹脂を用いた、光（UV）ナノインプリント技術を発表した。