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机译:TMP精磨机中的功耗分布:第一阶段和第二阶段的比较
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机译:CD82芯片磨浆机在不同操作点的TMP特性和磨浆条件。第二部分:五项测试的比较
机译:[〜227Th] EDTMP的重新分配:与[〜227Th]柠檬酸盐,[〜153Srn] EDTMP和[〜223Ra]氯化物的比较
机译:TMP磨浆机板间隙中的功耗和纤维开发:LE磨浆机和标准磨浆机段的比较
机译:在各种非正态分布下,精确统计量与Wilcoxon秩和统计量和学生t统计量的功效比较。
机译:功耗受限环境中设计无线传感器网络计算负荷分布的框架
机译:不同操作点CD82芯片精磨机中的TMP特性和炼油厂条件。第二部分:五项测试的比较