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1.
Design specific APC: dedicated spatial compensation using design analysis and product classification
机译:
设计专用的APC:使用设计分析和产品分类的专用空间补偿
作者:
Martin Haecker
;
Clemens Utzny
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
2.
Real-Time Wafer Temperature Sensing During A Live Plasma Process
机译:
实时等离子过程中的实时晶圆温度感测
作者:
Matteo Galbiati
;
Gary Marshall
;
Mei-Wei Tsao
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
3.
Chamber matching and spare parts influence in Ⅲ-Ⅴ plasma etching
机译:
腔室匹配和零件对Ⅲ-Ⅴ等离子蚀刻的影响
作者:
H.P. Maucher
;
G. Boedege
;
M. Klick
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
4.
Substitution of Tool Checks in Etch by Deployment of FDC Software Maestria
机译:
通过部署FDC软件Maestria替代蚀刻中的工具检查
作者:
Martin Birkle
;
Dennis Foeh
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
5.
Modified Principal Component Analysis for Real-Time Endpoint Detection of SiO_2 Etching Using Plasma Impedance Monitoring
机译:
改进的主成分分析技术,用于等离子体阻抗监测的SiO_2蚀刻实时终点
作者:
Haegyu Jang
;
Daekyoung Kim
;
Heeyeop Chae
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
6.
Comparison of Yield Prediction Techniques against Common Manufacturing Data Quality Issues
机译:
产量预测技术与常见制造数据质量问题的比较
作者:
Ramy Baly
;
James Moyne
;
Hazem Hajj
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
7.
Stochastic Gradient Boosting Methodology for Virtual Metrology on a PVD Tool
机译:
在PVD工具上进行虚拟计量的随机梯度提升方法
作者:
D. Gleispach
;
P. Scheibelhofer
;
G. Hayderer
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
8.
Development of an Interactive Modeling Based Diagnostic Tool set for Plasma Processes
机译:
基于等离子过程的交互式建模诊断工具集的开发
作者:
Giuseppe Fazio
;
Giuseppe Garozzo
;
Bernard Keville
;
Aidan Cowley
;
Stephen Daniels
;
Antonino La Magna
;
Loredana Chiaramente
;
Andrea Schirru
;
Joao Gabriel Pires
;
Nuno Almeida
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
9.
Predictive process control of photoresist thickness variation
机译:
光刻胶厚度变化的预测过程控制
作者:
Gabriele Porri
;
Massimo Carattoli
;
Alessia Verticchio
;
Milena Vaccaro
;
Fabio Ferri
;
Giorgio Tullio
;
Giuseppe Murzilli
;
Sonia Tatti
;
Mario Ciccolella
;
Patricia Maccarone
;
Massimo Ianni
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
10.
Real-time process control based on simultaneous In-Situ plasma emission and electrical plasma key parameter monitoring
机译:
基于同步原位等离子体发射和电等离子体关键参数监控的实时过程控制
作者:
D. Rogler
;
F. Stahr
;
H. Auerswald
;
P. Klement
;
K. v. Maydell
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
11.
Conductivity, thickness and defect characterization of thin-films with imaging eddy current technology for inline and offline applications
机译:
利用成像涡流技术在线和离线应用中薄膜的电导率,厚度和缺陷表征
作者:
H. Heuer
;
S. Hillmann
;
M. Schulze
;
M. Klein
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
12.
On the way to a comprehensive APC library:Identification of process models and design of controllers for vacuum coating processes
机译:
通往全面的APC库的过程:真空镀膜工艺的工艺模型识别和控制器设计
作者:
U. Hartung
;
T. Unkelbach
;
L. Gebauer
;
A. Dementjev
;
S. Dittrich
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
13.
A new variance component algorithm tailored to the needs of semiconductor industry
机译:
适应半导体行业需求的新方差分量算法
作者:
Ulf Seidel
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
14.
Leveraging Experimental Design to Improve Virtual Metrology Predictions
机译:
利用实验设计改善虚拟计量预测
作者:
Tamara Byrne
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
15.
Prediction of wafer homogeneity maps using a virtual metrology scheme consisting of time resolved OES measurements and a neural network
机译:
使用由时间分辨的OES测量和神经网络组成的虚拟计量方案预测晶圆均质性图
作者:
Sven Zimmermann
;
Rene Reich
;
Manuela Zacher
;
Stefan E. Schulz
;
Thomas Gessner
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
16.
Introduction of the openAPC Foundation e.V.
机译:
介绍openAPC Foundation e.V.
作者:
Bernhard Schimunek
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
17.
Modular approach for high volume data analysis -modelling, visualization and reporting
机译:
大量数据分析的模块化方法-建模,可视化和报告
作者:
Jan Zimpel
;
Knut Voigtlaender
;
Michael Rettelbach
;
Peter Doherr
;
Andreas Thamm
;
Roland Beier
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
18.
Using optical emission spectroscopy (OES) for leak monitoring of sputter preclean chambers
机译:
使用光发射光谱(OES)监测溅射预清洁室的泄漏
作者:
P. Heger
;
S. Franke
;
T. Beger
;
G. Hoyer
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
19.
Automatic Metrology Recipe Creation - A study of a productive Application
机译:
自动计量配方创建-生产应用研究
作者:
Andre Holfeld
;
Mark Stark
;
Joerg Nothnagel
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
20.
Manufacturing Applications Enabled By Detailed Equipment Data
机译:
详细的设备数据支持的制造应用
作者:
Alan Weber
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
21.
In-situ analytics for development and control of atomic layer deposition processes
机译:
用于原子层沉积工艺开发和控制的原位分析
作者:
Martin Knaut
;
Matthias Albert
;
Johann W. Bartha
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
22.
Achieving world-class production cycle time performance by a start-up factory in high volume manufacturing
机译:
大批量生产中的初创工厂可实现世界一流的生产周期时间性能
作者:
Adar Kalir
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
23.
Use of a sensor network for semiconductor production plants:motivation, design and preliminary tests
机译:
传感器网络在半导体生产厂中的使用:动力,设计和初步测试
作者:
Francesco Rametta
;
Antonio Bonanno
;
Daniele LaValle
;
Stefano Vitturi
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
24.
Using Operating Envelope Models to Create Improved Operation at Unit Process and Fab Levels
机译:
使用操作包络模型在单元过程和Fab级别上创建改进的操作
作者:
Robin Brooks
;
Alan Mahoney
;
John Wilson
;
Na Zhao
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
25.
Advanced Process Control at Wafertest
机译:
Wafertest的高级过程控制
作者:
Andreas Thamm
;
Jan Zimpel
;
Knut Voigtlander
;
Olaf Reichelt
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
26.
Applied Materials Precision 5000 CVD lamp module health monitoring for improved fault prediction/detection
机译:
应用材料Precision 5000 CVD灯模块运行状况监控,可改善故障预测/检测
作者:
Gunter Welde
;
Percy Heger
;
Martin Kunath
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
27.
Anomaly Detection in FDC Time Series Data
机译:
FDC时间序列数据中的异常检测
作者:
James N DAmour
;
Jan Neirynck
;
Vladimir Martyanov
;
Eugene Tuv
会议名称:
《》
|
2011年
28.
Chamber Matching at Sputter Clean Chambers with Inductively Coupled Plasma
机译:
带有电感耦合等离子体的溅射清洁腔室中的腔室匹配
作者:
N. Urbansky
;
S. Franke
;
T. Beger
;
M. Klick
;
R. Rothe
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
29.
Dynamic Dose to Target (D2T) Filtering In Litho Exposure R2R Controller
机译:
光刻曝光R2R控制器中的动态剂量到目标(D2T)过滤
作者:
Boyidi Ravi Kiran
;
Sanjay Kumar
;
Srinivasan Visveswaran
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
30.
Multi-factor Statistic Modelling of Transport Processes on Factory Level in Semiconductor Manufacturing
机译:
半导体制造工厂级运输过程的多因素统计建模
作者:
Andre Gellrich
;
Thomas Wagner
;
Volodymyr Vasyutynskyy
;
Klaus Kabitzsch
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
31.
Developing a Predictive Maintenance Model to Minimize Helium Backside Cooling Faults on a AMAT Centura Dry Etch Tool
机译:
在AMAT Centura干蚀刻工具上开发预测性维护模型以最大程度减少氦气背面冷却故障
作者:
Stefan Schindler
;
Sandrine Monot
;
Frederic Duvivier
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
32.
Add-on Sensor using object messaging protocol E54.9 Modbus/TCP
机译:
使用对象消息传递协议E54.9 Modbus / TCP的附加传感器
作者:
Dirk Suchland
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
33.
Correlation between in situ and ex situ analysis of ultra low-k dielectric etch processes
机译:
超低k介电质蚀刻工艺的原位与非原位分析之间的相关性
作者:
Benjamin Uhlig
;
Norbert Lang
;
Sven Zimmermann
;
Matthias Schaller
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
34.
Enhanced Equipment Health Monitoring Practice and Methodology
机译:
增强设备健康监控实践和方法
作者:
Gino Crispieri
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
35.
Enhancing Legacy Diffusion Cell Controllers with an APC Framework for Fault Detection
机译:
使用APC框架增强传统扩散池控制器的故障检测能力
作者:
Marco Bagagiolo
;
Brad Schulze
;
Justin Taylor
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
36.
On the way to a comprehensive APC library:Identification of process models and design of controllers for vacuum coating processes
机译:
通往全面的APC库的过程:真空镀膜工艺的工艺模型识别和控制器设计
作者:
U. Hartunq
;
T. Unkelbach
;
B. Heimke
;
L. Gebauer
;
A. Dementjev
;
S. Dittrich
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
37.
A new approach for Cleanroom monitoring by using AMOR (Ambient Monitoring Robot)
机译:
使用AMOR(环境监测机器人)进行洁净室监测的新方法
作者:
Christoph Hocke
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
38.
In-situ FDC by interferometric endpoint detection during plasma etch.
机译:
在等离子体蚀刻过程中通过干涉终点检测实现原位FDC。
作者:
Frank Hoffmann
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
39.
In situ monitoring of plasma etch processes of ultra low-k dielectrics using optical diagnostic methods
机译:
使用光学诊断方法现场监测超低k电介质的等离子体蚀刻过程
作者:
Norbert Lang
;
Sven Zimmermann
;
Benjamin Uhlig
;
Matthias Schaller
;
Stefan E.Schulz
;
Juergen Roepcke
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
40.
Cost Benefit Analysis Model of In-line Inspection in Wafer Fabrication Line
机译:
晶圆生产线在线检测成本效益分析模型
作者:
Israel Tirkel
;
Gad Rabinowitz
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
41.
Deployment of Advanced Process Control in LED manufacturing
机译:
在LED制造中部署高级过程控制
作者:
Heribert Zull
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
42.
Use of FDC for RTP equipment monitoring: motivation and solutions
机译:
将FDC用于RTP设备监控:动机和解决方案
作者:
Marco Cavallaro
;
Marco Bagagiolo
;
Salvatore Restivo
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
43.
Application of APC solutions on coating plants in the photovoltaic industry
机译:
APC解决方案在光伏行业涂装厂中的应用
作者:
Soeren Dittrich
;
Torsten Gertler
;
Bert Mueller
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
44.
Comparison of Control Methods for Temperature Control of Heated Plates
机译:
加热板温度控制的控制方法比较
作者:
D. de Roover
;
J. L. Ebert
;
G.W. van der Linden
;
L. L. Porter
;
R. L. Kosut
;
A. Emami-Naeini
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
45.
Optimal metrology sampling strategies for AEC/APC Applications
机译:
AEC / APC应用的最佳计量采样策略
作者:
Anand Subramanian
;
Tyrone Vincent
;
Kameshwar Poolla
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
|
2011年
46.
Mastering the Flood of Data - Enabling Relational Standard Databases to Store High Frequent Sensor Data
机译:
掌握大量数据-使关系标准数据库能够存储频繁的传感器数据
作者:
Wolfgang Benn
;
Sebastian Leuoth
;
Alexander Adam
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
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2011年
47.
Improvement of Prediction Performance in Virtual Metrology
机译:
虚拟计量学中预测性能的提高
作者:
A. Dementjev
;
H.-D. Ribbecke
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
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2011年
48.
Correlation Analysis of WAT Data to FDC Data from a CVD Tool
机译:
CVD工具将WHAT数据与SFDC数据进行相关性分析
作者:
A. Prossegger
;
F. Fratte
;
D. Gleispach
;
G. Hayderer
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
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2011年
49.
Economic Control Strategy Selection
机译:
经济控制策略选择
作者:
Andrea Laurenzi
;
Stefano Pettirossi
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
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2011年
50.
Process Analysis and Control Engineering for APC in EB PVD and PMS Coating Processes
机译:
EB PVD和PMS涂层工艺中APC的过程分析和控制工程
作者:
A. Dementjev
;
M. Benesch
;
H. Kubin
;
Ch. Metzner
;
U. Hartung
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
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2011年
51.
Process Analysis and Control Engineering for APC in EB PVD and PMS Coating Processes
机译:
EB PVD和PMS涂层工艺中APC的过程分析和控制工程
作者:
A. Dementjev
;
M. Benesch
;
H. Kubin
;
Ch. Metzner
;
U. Hartung
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
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2011年
52.
Information Technology Used for Process Control System Implementation in IMPROVE
机译:
信息技术在IMPROVE中用于过程控制系统的实现
作者:
Giuseppe Fazio
;
Flavio Crippa
;
Silvia Zoia
;
Andreas Kyek
;
Cristian Valeanu
;
Marius Ghiga
;
Josef Bichlmeier
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
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2011年
53.
Random Tree Ensembles for Predictive Maintenance of Filament Breakdown on an Implanter
机译:
随机树集成体,可预测性地维护植入器上的细丝断裂
作者:
P. Scheibelhofer
;
M. Berger
;
P. Schroettner
;
D. Gleispach
;
G. Hayderer
会议名称:
《11th European advanced equipment control/advanced process control conference 2011》
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2011年
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