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19th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents Jan 13-15, 2003 Sonthofen, Germany
19th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents Jan 13-15, 2003 Sonthofen, Germany
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1.
Integration of OPC and Mask Data Preparation
机译:
OPC和模板数据准备的集成
作者:
Steffen Schulze
;
Pat LaCour
;
Norma Rodriguez
会议名称:
《19th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents Jan 13-15, 2003 Sonthofen, Germany》
|
2003年
2.
Implementation of 248nm based CD Metrology for Advanced Reticle Production
机译:
实现基于248nm的CD计量技术以实现高级光罩
作者:
Andrew C. Hourd
;
Anthony Grimshaw
;
Gerd Scheming
;
Christian Gittinger
;
Stefan Doebereiner
;
Frank Hillmann
;
Hans-Juergen Brueck
;
Hans Hartmann
;
Volodymyr Ordynskyy
;
Kai Peter
;
Shiuh-Bin Chen
;
Parkson Chen
;
Rik Jonckheere
;
Vicky Philipsen
;
Thomas Schaetz
会议名称:
《19th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents Jan 13-15, 2003 Sonthofen, Germany》
|
2003年
关键词:
CD metrology;
DUV imaging;
90nm node;
193nm;
3.
Mask Technologies for Deep X-ray LIGA
机译:
深度X射线LIGA的掩模技术
作者:
Laurence Singleton
;
Peter Detemple
会议名称:
《19th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents Jan 13-15, 2003 Sonthofen, Germany》
|
2003年
关键词:
LIGA;
deep X-ray lithography;
DXRL;
PMMA;
optical components;
waveguides;
moulding;
4.
Mask CD characterization with EUV reflectometry at the electron storage ring BESSY Ⅱ
机译:
在电子存储环BESSYⅡ上用EUV反射法对掩模CD进行表征
作者:
Albrecht Ehrmann
;
Jenspeter Rau
;
Andreas Wolter
;
Frank-Michael Karnm
;
Josef Mathuni Frank Scholze
;
Johannes Tuemmler
;
Gerhard Ulml
会议名称:
《19th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents Jan 13-15, 2003 Sonthofen, Germany》
|
2003年
5.
Method to determine a detection capability of the die-to-database mask inspection system in regard to pinhole and pindot defects
机译:
确定芯片到数据库掩模检查系统关于针孔和针孔缺陷的检测能力的方法
作者:
Syarhey M. Avakaw
会议名称:
《19th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents Jan 13-15, 2003 Sonthofen, Germany》
|
2003年
关键词:
inspection;
reticles;
detection probability;
6.
Inspection of alternating phase shift masks through the use of phase contrast techniques
机译:
通过使用相衬技术检查交替相移掩模
作者:
Larry Zurbrick
;
Maciej Rudzinski
;
Stan Stokowski
;
Long He
;
Kurt Kimmel
;
Nishrin Kashwala
会议名称:
《19th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents Jan 13-15, 2003 Sonthofen, Germany》
|
2003年
7.
Development and characterization of new CD mask standards: a status report'
机译:
新的CD掩模标准的开发和表征:状态报告
作者:
Thomas Schaetz
;
Bertram Hauffe
;
Stefan Doebereiner
;
Hans-Juergen Brueck
;
Bernd Brendel
;
Lutz Bettin
;
Klaus-Dieter Roeth
;
Walter Steinberg
;
Peter Speckbacher
;
Wolfgang Sedlmeier
;
Thomas Engel
;
Wolfgang Haessler-Grohne
;
Werner Mirande
;
Harald Bosse
会议名称:
《19th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents Jan 13-15, 2003 Sonthofen, Germany》
|
2003年
8.
Compensation of Long-Range Process Effects on Photomasks by Design Data Correction
机译:
通过设计数据校正补偿远距离工艺对光掩模的影响
作者:
Martin Bloecker
;
Gerd Ballhorn
;
Jens Schneider
;
Nikola Belie
;
Hans Eisenmann
;
Danny Keogan
会议名称:
《19th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents Jan 13-15, 2003 Sonthofen, Germany》
|
2003年
关键词:
mask process correction;
dry etch loading;
pattern density;
CATS;
9.
Electron Beam Mask Repair with induced Reactions
机译:
电子束掩模的诱导反应修复
作者:
Hans W.P. Koops
;
Klaus Edinger
;
Johannes Bihr
;
Volker Boegli
;
Jens Greiser
会议名称:
《19th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents Jan 13-15, 2003 Sonthofen, Germany》
|
2003年
10.
Early Mask Making During the 1960's in Dresden
机译:
1960年代在德累斯顿的早期面具制作
作者:
Hans W. Becker
会议名称:
《19th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents Jan 13-15, 2003 Sonthofen, Germany》
|
2003年
11.
A Printability Study for Phase-Shift Masks at 193nm Lithography
机译:
193nm光刻技术下相移掩模的可印刷性研究
作者:
Vicky Philipsen
;
Rik Jonckheere
会议名称:
《19th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents Jan 13-15, 2003 Sonthofen, Germany》
|
2003年
关键词:
defect printability;
mask 2D quality;
193nm lithography;
attenuated phase-shift mask;
12.
A Mask Industry Assessment: 2002
机译:
口罩行业评估:2002年
作者:
Kurt R. Kimmel
会议名称:
《19th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents Jan 13-15, 2003 Sonthofen, Germany》
|
2003年
关键词:
mask industry;
photomask;
industry;
mask yield;
photomask yield;
mask quality;
photomask quality;
13.
Feature Proximity Errors on Mask: Assessment Results of Commercially Obtained Reticles'
机译:
面罩上的特征接近误差:商业获得的掩模版的评估结果
作者:
Rik Jonckheere
;
Goedele Potoms
;
Vicky Philipsen
会议名称:
《19th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents Jan 13-15, 2003 Sonthofen, Germany》
|
2003年
关键词:
4X reticles;
CD metrology;
2D quality;
proximity effects;
193nm lithography;
14.
Extending TeraStar Reticle Inspection Capability to the 90nm Node Through Layer Specific Algorithms
机译:
通过特定于层的算法将TeraStar标线检查功能扩展到90nm节点
作者:
Maciej Rudzinski
;
Hector Garcia
;
William Volk
;
Lantian Wang
会议名称:
《19th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents Jan 13-15, 2003 Sonthofen, Germany》
|
2003年
关键词:
alternating phase shift masks;
defect inspection;
reticle;
contact;
via;
15.
Fully automated CD - Metrology and Mask Inspection in a Mask Production Environment using the MueTec
DUV Tool
机译:
全自动CD-使用MueTec
DUV工具在口罩生产环境中进行计量和口罩检查
作者:
Gerd Scheming
;
Alexander Petrashenko
;
Stefan Doebereiner
;
Frank Hillmann
;
Hans-Juergen Brueck
;
Andrew C. Hourd
;
Anthony Grimshaw
;
Gordon Hughes
;
Shiuh-Bin Chen
;
Parkson Chen
;
Thomas Schaetz
;
Thomas Struck
;
Paul van Adrichem
;
Herman Boerland
;
Sigrid Lehni
会议名称:
《19th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents Jan 13-15, 2003 Sonthofen, Germany》
|
2003年
16.
Yield Mask: First Professional Yield Management Tool Specifically Developed for a Mask House
机译:
Yield Mask:第一个专门为面具屋开发的专业产量管理工具
作者:
Rudolf Laubmeier
;
Annemarie MacKenzie
;
Gerd Stockmann
;
Sana Shaik
;
Steve White
会议名称:
《19th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents Jan 13-15, 2003 Sonthofen, Germany》
|
2003年
17.
The compact excimer laser - light source for optical (mask) inspection systems
机译:
紧凑型准分子激光-用于光学(掩模)检查系统的光源
作者:
Tobias Pflanz
;
Heinz Huber
会议名称:
《19th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents Jan 13-15, 2003 Sonthofen, Germany》
|
2003年
18.
Performance of the Aerial Image Measurement System for 157 nm Lithography
机译:
157 nm光刻的航空图像测量系统的性能
作者:
Peter Kuschnerus
;
Thomas Engel
;
Wolfgang Harnisch
;
Claudia Hertfelder
;
Axel Zibold
;
Jan-Peter Urbach
;
Christof M. Schilz
;
Klaus Eisner
会议名称:
《19th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents Jan 13-15, 2003 Sonthofen, Germany》
|
2003年
关键词:
AIMS;
157 nm lithography;
photo masks;
process window;
19.
Integration of Mask RD and Mask Manufacturing to support the European Semiconductor Industry
机译:
掩膜研发与掩膜制造的整合,以支持欧洲半导体产业
作者:
Markus Dilger
会议名称:
《19th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents Jan 13-15, 2003 Sonthofen, Germany》
|
2003年
20.
Investigation of reticle defect formation at DUV lithography
机译:
在DUV光刻中标线片缺陷形成的研究
作者:
Kaustuve Bhattacharyya
;
William Volk
;
Brian Grenon
;
Darius Brown
;
Javier Ayala
会议名称:
《19th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents Jan 13-15, 2003 Sonthofen, Germany》
|
2003年
关键词:
DUV;
PSM;
mask contamination;
mask;
crystal-growth;
cyanuric acid;
pellicle;
193nm;
scanner;
STARlight;
21.
New methods for CD measurements on photomasks using dark field optical microscopy
机译:
使用暗场光学显微镜在光掩模上测量CD的新方法
作者:
Bernd Bodermann
会议名称:
《19th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents Jan 13-15, 2003 Sonthofen, Germany》
|
2003年
22.
Inspecting Alternating Phase Shift Masks by Matching Stepper Conditions
机译:
通过匹配步进条件来检查相移掩模
作者:
Shirley Hemar
;
Anja Rosenbusch
会议名称:
《19th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents Jan 13-15, 2003 Sonthofen, Germany》
|
2003年
关键词:
aerial-image based mask inspection;
AAPSM;
OPC;
193nm technology;
at-wavelength inspection;
23.
Contact hole litho correlation with shape analysis'
机译:
接触孔岩性与形状分析的相关性'
作者:
Maurice Janssen
;
Khalid Elbattay
;
Cars ten Kohler
会议名称:
《19th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents Jan 13-15, 2003 Sonthofen, Germany》
|
2003年
关键词:
contact hole shape simulation;
attenuated PSM;
reticle SEM measurement;
24.
Application of Chromeless Phase Lithography (CPL) masks in ArF lithography
机译:
无铬相位光刻(CPL)掩模在ArF光刻中的应用
作者:
Bryan S. Kasprowicz
;
Christopher J. Progler
;
Wei Wu
;
Will Conley
;
Lloyd C. Litt
;
Doug Van Den Broeke
;
Kurt E. Wampler
;
Robert Socha
会议名称:
《19th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents Jan 13-15, 2003 Sonthofen, Germany》
|
2003年
关键词:
PSM manufacturing;
chromeless phase lithography;
CPL;
PSM;
high transmission attenuated PSM;
chromeless mask;
25.
Accuracy vs. Complexity: OPC Solutions andTradeoffs
机译:
准确性与复杂性:OPC解决方案和权衡
作者:
Artur Balasinski
;
Walter Iandolo
;
Bartosz Banachowicz
;
Wolf Staud
;
Melody Ma
;
Jason Sweis
会议名称:
《19th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents Jan 13-15, 2003 Sonthofen, Germany》
|
2003年
26.
Through-Pellicle Capable, DUV-based CD Metrology on Reticles for Wafer Fab and RD Environment
机译:
具有晶圆级功能且基于DUV的CD计量技术适用于晶圆晶圆厂和研发环境
作者:
Rik Jonckheere
;
Vicky Philipsen
;
Gerd Scheuring
;
Frank Hillmann
;
Hans-Juergen Brueck
;
Volodymyr Ordynskyy
;
Kai Peter
;
Andrew Hourd
;
Thomas Schaetz
;
Shiuh-Bin Chen
;
Parkson Chen
;
Karl Sommer
会议名称:
《19th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents Jan 13-15, 2003 Sonthofen, Germany》
|
2003年
关键词:
4X reticles;
optical CD metrology;
2D quality;
linearity;
193nm lithography;
27.
Through the looking glass: What is on the horizon for the Mask Maker?
机译:
通过窥镜:Mask Maker的前景如何?
作者:
R. S. Mackay
;
B. G. Eynon
;
D. P. Mathur
会议名称:
《19th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents Jan 13-15, 2003 Sonthofen, Germany》
|
2003年
28.
Selete Activity of 157nm Lithography and Masks
机译:
157 nm光刻和掩模的删除活动
作者:
Nobuyuki Yoshioka
;
Toshiro Itani
;
Wataru Wakamiya
会议名称:
《19th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents Jan 13-15, 2003 Sonthofen, Germany》
|
2003年
29.
Simulation study of pattern printability for reflective mask in EUV lithography
机译:
EUV光刻中反射掩模的图案可印刷性的仿真研究
作者:
Minoru Sugawara
;
Akira Chiba
;
Iwao Nishiyama
会议名称:
《19th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents Jan 13-15, 2003 Sonthofen, Germany》
|
2003年
关键词:
optical proximity correction;
attenuated phase shift mask;
alternating phase shift mask;
30.
Optical Emission Endpoint Optimization in the Tetra Etch Chamber for Production of Embedded Phase Shift Photomasks
机译:
Tetra蚀刻室中用于嵌入式相移光掩模生产的光发射端点优化
作者:
Cynthia B. Brooks
;
Scott Anderson
;
Rex Anderson
;
Corey Collard
;
Jason Clevenger
;
Nicole Sandlin
;
Melisa J. Buie
会议名称:
《19th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents Jan 13-15, 2003 Sonthofen, Germany》
|
2003年
关键词:
MoSiON etch;
tetra;
photomask etch;
PSM;
endpoint;
optical emission spectroscopy;
chrome etch;
31.
A System to Improve the Understanding of Collected Logistic Data, to Optimise Cycle-Time and Delivery Performance
机译:
一个改善对收集的物流数据的了解,优化周期时间和交付绩效的系统
作者:
Wim-Jan van Rooijen
;
Ben Rodriguez
会议名称:
《19th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents Jan 13-15, 2003 Sonthofen, Germany》
|
2003年
关键词:
mask house;
bottleneck management;
cycle time;
flow-factor;
MES;
32.
Use of Nanomachining for 100 Nanometer Mask Repair
机译:
使用纳米加工修复100纳米掩模
作者:
Bob LoBianco
;
Roy White
;
Ted Nawrocki
会议名称:
《19th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents Jan 13-15, 2003 Sonthofen, Germany》
|
2003年
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