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18th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents, Jan 15-16, 2002, Munich, Germany
18th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents, Jan 15-16, 2002, Munich, Germany
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1.
Review of the 2001 ITRS Update
机译:
回顾2001年ITRS更新
作者:
Gil Shelden
会议名称:
《18th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents, Jan 15-16, 2002, Munich, Germany》
|
2002年
2.
Productivity and OPC Reticle Inspectability using Multi-Beam UV Wavelength Inspection
机译:
使用多光束紫外线波长检测的生产率和OPC掩模版可检测性
作者:
Mark Laurance
;
Dino Hsieh
;
Vincent Wen
会议名称:
《18th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents, Jan 15-16, 2002, Munich, Germany》
|
2002年
3.
Printability of hard and soft defects in 193nm lithography
机译:
193nm光刻中硬缺陷和软缺陷的可印刷性
作者:
Vicky Philipsen
;
Rik Jonckheere
;
Stephanie Kohlpoth
;
Christoph Friedrich
;
Andres Torres
会议名称:
《18th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents, Jan 15-16, 2002, Munich, Germany》
|
2002年
关键词:
defect printability;
193nm lithography;
soft defects;
l00nm node;
reticle quality;
4.
Plasma Etch of Cr Masks Utilizing TCP Source for a Next-generation Plasma Source
机译:
Cr掩模的等离子刻蚀,将TCP源用于下一代等离子源
作者:
Hyuk-Joo Kwon
;
Dong-Soo Min
;
Pil-Jin Jang
;
Byung-Soo Chang
;
Boo-Yeon Choi
;
Soo-Hong Jeong
会议名称:
《18th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents, Jan 15-16, 2002, Munich, Germany》
|
2002年
5.
SIMULATION STUDY OF 193-NM PHASE-SHIFTING MASKS: ANALYSIS OF DISTRIBUTED DEFECTS OF EMBEDED ATTENUATED PHASE MASK (EAPSM)
机译:
193-NM移相掩模的仿真研究:嵌入式衰减相掩模(EPSM)的分布缺陷分析
作者:
Linard Karklin
会议名称:
《18th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents, Jan 15-16, 2002, Munich, Germany》
|
2002年
6.
Reticle processing induced proximity effects
机译:
光罩加工引起的邻近效应
作者:
Maurice Janssen
;
Robert de Kruif Ton Kiers
会议名称:
《18th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents, Jan 15-16, 2002, Munich, Germany》
|
2002年
关键词:
retiele;
proximity;
processing;
correction;
pitch;
7.
OPC Aware Mask and Wafer Metrology
机译:
OPC感知掩模和晶圆计量
作者:
Wilhelm Maurer
;
Vincent Wiaux
;
Rik Jonckheere
;
Vicky Philipsen
;
Thomas Hoffmann
;
Staf Verhaegen
;
Kurt Ronse
;
Jonathan England
;
William Howard
会议名称:
《18th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents, Jan 15-16, 2002, Munich, Germany》
|
2002年
关键词:
optical lithography;
SEM metrology;
two-dimensional metrology;
mask metrology;
OPC;
8.
Pattern Data Processing Using Inm Address Grid
机译:
使用Inm地址网格处理图案数据
作者:
Juergen Gramss
;
Hans Eichhorn
;
Michael Gehre
;
Bernd Schnabel
;
Traugott Schulmeiss
;
Detlef Melzer
;
Klaus Kunze
;
Ulrich Baetz
会议名称:
《18th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents, Jan 15-16, 2002, Munich, Germany》
|
2002年
关键词:
address grid;
data processing;
shaped beam tool;
fracture quality;
SB350;
9.
Measures to Achieve 20nm IPL Stencil Mask Distortion
机译:
实现20nm IPL模板掩模变形的措施
作者:
E. Haugeneder
;
A. Chalupka
;
T. Lammer
;
H. Loeschner
;
F.-M. Kamm
;
T. Struck
;
A. Ehrmann
;
R
;
Kaesmaier
;
A. Wolter
;
J. Butschke
;
M. Irmscher
;
F. Letzkus
;
R. Springer
会议名称:
《18th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents, Jan 15-16, 2002, Munich, Germany》
|
2002年
10.
Actual Performance Data Obtained on New Transmitted Light Mask Metrology System
机译:
在新型透射光罩计量系统上获得的实际性能数据
作者:
K.-D. Roeth
;
G. Schlueter
会议名称:
《18th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents, Jan 15-16, 2002, Munich, Germany》
|
2002年
关键词:
mask metrology;
transmitted light measurement;
optical CD-metrology;
pattern placement metrology;
next generation lithography masks (NGL);
11.
Long Term Performance of the DUV Optical Metrology Tool for the 90nm Node
机译:
DUV光学计量工具在90nm节点上的长期性能
作者:
Louis Chacon
;
Nicholas Doe
;
Richard Eandi
;
Patrick St. Cin
会议名称:
《18th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents, Jan 15-16, 2002, Munich, Germany》
|
2002年
12.
Mask Strategy at International SEMATECH
机译:
国际SEMATECH的口罩策略
作者:
Kurt R. Kimmel
会议名称:
《18th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents, Jan 15-16, 2002, Munich, Germany》
|
2002年
关键词:
mask;
photomadk;
mask cost;
lithography cost;
lnternational SEMATECH;
13.
Application of Lithography Simulation in Reticle Inspection
机译:
光刻模拟在光罩检查中的应用
作者:
Christian K. Kalus
;
Robert Wildfeuer
会议名称:
《18th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents, Jan 15-16, 2002, Munich, Germany》
|
2002年
14.
An advanced optical imaging platform for CD metrology and defect review on 130nm-100nm node reticles -An overview of preliminary results
机译:
先进的光学成像平台,用于CD计量和130nm-100nm节点掩模版上的缺陷检查-初步结果概述
作者:
A.C. Hourd
;
A. Grimshaw
;
G. Scheuring
;
C. Gittinger
;
H.-J. Brueck
;
S.-B. Chen
;
P.W. Chen
;
H. Hartmann
;
V. Ordynskyy
;
R. Jonckheere
;
V. Philipsen
;
T. Schaetz
;
K. Sommer
会议名称:
《18th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents, Jan 15-16, 2002, Munich, Germany》
|
2002年
15.
Defect Density Engineering for High End Masks (= 0.14 Technology Phase-Shift-Masks)
机译:
高端掩模的缺陷密度工程(= 0.14技术相移掩模)
作者:
R. Laubmeier
;
A. MacKenzie
;
M. Schmidt
;
R. Sikorski
;
K. Koremura
;
T. Ito
会议名称:
《18th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents, Jan 15-16, 2002, Munich, Germany》
|
2002年
16.
Environmental Monitoring System
机译:
环境监测系统
作者:
G. Goedl
;
D. Loeffelmacher
;
T. Wandel
;
Dr. G. Gralla
;
A. Greiner
会议名称:
《18th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents, Jan 15-16, 2002, Munich, Germany》
|
2002年
17.
EUV Mask Development: Material and Process
机译:
EUV面膜开发:材料和工艺
作者:
Jenspeter Rau
;
Hermann Wendt
;
Josef Mathuni
;
Christoph Stepper
;
Albrecht Ehrmann
;
Frank-Michael Kamm
会议名称:
《18th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents, Jan 15-16, 2002, Munich, Germany》
|
2002年
18.
Mask Availability for Next Generation Lithography
机译:
下一代光刻的掩模可用性
作者:
Michael Lercel
;
Emily Fisch
;
Ken Racette
;
Mark Lawliss
;
Carey Williams
;
Louis Kindt
;
Chester Huang
会议名称:
《18th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents, Jan 15-16, 2002, Munich, Germany》
|
2002年
19.
Mask CD uniformity impact during incoming quality control
机译:
传入质量控制期间掩膜CD均匀性的影响
作者:
Ernesto Villa
;
Emanuele Baracchi
;
Anja Rosenbusch
;
Michael Har-zvi
;
Gidi Gottlib
会议名称:
《18th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents, Jan 15-16, 2002, Munich, Germany》
|
2002年
关键词:
linewidth bias monitor (LBM);
CD control;
CD uniformity mapping;
mask inspection;
incoming quality control (IQC);
20.
High precision mask repair using nanomachining
机译:
使用纳米加工的高精度面膜修复
作者:
M. Verbeek
;
R. White
;
M. Klos
会议名称:
《18th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents, Jan 15-16, 2002, Munich, Germany》
|
2002年
21.
Recent Progress of Low Energy E-beam Proximity Projection Lithography (LEEPL) with β-tool Development
机译:
带有β工具的低能电子束临近投影光刻技术(LEEPL)的最新进展
作者:
Nobuo Shimazu
;
Hiroshi Nozue
;
Akihiro Endo
;
Akira Higuchi
;
Toru Ise
;
Toyoharu Fukui
;
Naoki Yasumitsu
;
Tsutomu Miyatake
;
Noriichi Anazawa
会议名称:
《18th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents, Jan 15-16, 2002, Munich, Germany》
|
2002年
22.
Cleaning of Low Thermal Expansion Materials for Low Defect EUVL Mask Substrates
机译:
用于低缺陷EUVL掩模基板的低热膨胀材料的清洁
作者:
Eva Krueger-Velthusen
;
Falk Friemel
;
Lutz Aschke
;
Frank Lenzen
会议名称:
《18th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents, Jan 15-16, 2002, Munich, Germany》
|
2002年
23.
Multi-beam high resolution die-to-database reticle inspection
机译:
多光束高分辨率芯片到数据库掩模版检查
作者:
William W. Volk
;
William H. Broadbent
;
Hector I. Garcia
;
Sterling G. Watson
;
Phillip M. Lim
;
Wayne E. Ruch
会议名称:
《18th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents, Jan 15-16, 2002, Munich, Germany》
|
2002年
关键词:
inspection;
reticles;
attenuating;
OPC;
24.
Non-contact fluorescence measurements for inspection and imprint depth control in nanoimprint lithography
机译:
非接触式荧光测量,用于纳米压印光刻中的检查和压印深度控制
作者:
Ch. Finder
;
C. Mayer
;
H. Schulz
;
H.-C. Scheer
;
M. Fink
;
K. Pfeiffer
会议名称:
《18th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents, Jan 15-16, 2002, Munich, Germany》
|
2002年
关键词:
nanoimprint lithography (NIL);
fluorescence microscopy;
25.
Inspection of alternating PSM reticles using UV-based 365 nm reticle inspection tool
机译:
使用基于紫外线的365 nm掩模版检测工具检测交替的PSM掩模版
作者:
Anja Rosenbusch
;
Michael Har-zvi
;
Gidi Gottlib
会议名称:
《18th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents, Jan 15-16, 2002, Munich, Germany》
|
2002年
关键词:
phase shift mask;
248 nm AAPSM;
J-line inspection;
mask inspection;
reticle enhancement teehnique (RET);
26.
Measuring and Assessing Printability of Reticle Pinhole Defects
机译:
测量和评估掩模版针孔缺陷的可印刷性
作者:
Darren Taylor
;
Anthony Vacca
;
Larry Zurbrick
;
William Broadbent
;
Peter Fiekowsky
会议名称:
《18th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents, Jan 15-16, 2002, Munich, Germany》
|
2002年
关键词:
inspection;
pinhole;
printability;
SEM;
27.
CD performance of CA-resists with a dynamically controlled multi-zone bake system
机译:
动态控制的多区域烘烤系统可抵抗CA的CD性能
作者:
Shiho Sasaki
;
Masa-aki Kurihara
;
Hiroshi Mohri
;
Naoya Hayashi Peter Dress
;
Andreas Noering
;
Thomas Gairing
会议名称:
《18th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents, Jan 15-16, 2002, Munich, Germany》
|
2002年
关键词:
chemically amplified resist;
hotplate;
PEB;
PCB;
profile compensation;
CD uniformity;
28.
Calibration of test reticles for qualification of imaging properties of microlithographic projection lenses
机译:
校准测试掩模版以鉴定微光刻投影透镜的成像特性
作者:
W. Haeβler-Grohne
;
K. Hahm
;
W. Mirande
;
H. Basse
;
M. Arnz
会议名称:
《18th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents, Jan 15-16, 2002, Munich, Germany》
|
2002年
29.
DEFECT INPSECTION AND REPAIR RETICLE (DIRRT) DESIGN FOR THE 100NM AND SUB-100NM TECHNOLOGY NODES
机译:
100海里和100海里以下技术节点的缺陷检查和修补标记(DIRTT)设计
作者:
NISHRIN KACHWALA
;
KLAUS EISNER
会议名称:
《18th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents, Jan 15-16, 2002, Munich, Germany》
|
2002年
30.
Elements of Hierarchical Mask Data Preparation Bottom up or Top down?
机译:
分层掩码数据准备的要素是自下而上还是自上而下?
作者:
Christian K. Kalus
;
Michal Simecek
会议名称:
《18th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents, Jan 15-16, 2002, Munich, Germany》
|
2002年
31.
Feasibility study of manufacturing process and quality control for the new Alternating PSM structure
机译:
新型交替PSM结构的制造过程和质量控制的可行性研究
作者:
Yasutaka Morikawa
;
Haruo Kokubo
;
Masaharu Nishiguchi
;
Masami Nara
;
Yousuke Totsu
;
Morihisa Hoga
;
Naoya Hayashi
会议名称:
《18th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents, Jan 15-16, 2002, Munich, Germany》
|
2002年
关键词:
alternating phase-shifting mask;
side-wall chrome alternating aperture mask;
SCAAM;
undercut structure;
resolution enhancement technique;
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