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Alternative lithographic technologies V
Alternative lithographic technologies V
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1.
Practical proof of CP element based design for 14nm node and beyond
机译:
基于CP元素的14nm及更高节点设计的实践证明
作者:
Takashi Maruyama
;
Hiroshi Takita
;
Rimon Ikeno
;
Morimi Osawa
;
Yoshinori Kojima
;
Shinji Sugatani
;
Hiromi Hoshino
;
Toshio Hino
;
Masaru Ito
;
Tetsuya Iizuka
;
Satoshi Komatsu
;
Makoto Ikeda
;
Kunihiro Asada
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
EBDW;
14nm;
character projection;
MCC;
Multi-beam;
Shot count;
LSI design;
logic cell;
memory;
interconnection;
2.
MAPPER: Progress towards a High Volume Manufacturing system
机译:
MAPPER:迈向大批量生产系统的过程
作者:
G. de Boer
;
M.P. Dansberg
;
R. Jager
;
J.J.M. Peijster
;
E. Slot
;
S.W.H.K. Steenbrink
;
M.J. Wieland
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
MAPPER;
electron beam lithography;
high throughput;
status;
3.
Quantifying throughput improvements for electron-beam lithography using a suite of benchmark patterns
机译:
使用一套基准测试图案量化电子束光刻的生产量提升
作者:
John G. Hartley
;
Nigel Crosland
;
Robert C. Dowling Jr.
;
Philip C. Hoyle
;
Andrew McClelland
;
Martin Turnidge
;
James H. Smith II
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
Electron-beam;
lithography;
vector-scan;
Gaussian;
throughput;
benchmark;
pattern;
Vistec;
4.
Novel error mode analysis method for graphoepitaxial directed self-assembly lithography based on the dissipative particle dynamics method
机译:
基于耗散粒子动力学方法的石墨外延定向自组装光刻误差模式分析新方法
作者:
Katsuyoshi Kodera
;
Shimon Maeda
;
Satoshi Tanaka
;
Shoji Mimotogi
;
Yuriko Seino Hiroki
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
Direct self-assembly lithography;
Dissipative particle dynamics method;
5.
Influence of high-energy electron irradiation on ultra-low-k characteristics and transistor performance
机译:
高能电子辐照对超低k特性和晶体管性能的影响
作者:
Katja Steidel
;
Kang-Hoon Choi
;
Martin Freitag
;
Manuela Gutsch
;
Christoph Hohle
;
Robert Seidel
;
Xaver Thrun
;
Thomas Werner
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
multi electron beam;
EBDW;
ULK damage;
high-energy electrons;
dielectric breakdown;
RC performance;
6.
Process sensitivities in exemplary chemo-epitaxy directed self-assembly integration
机译:
示例性化学外延定向自组装集成中的过程敏感性
作者:
Paulina A. Rincon Delgadillo
;
Roel Gronheid
;
Guanyang Lin
;
Yi Cao
;
Ainhoa Romo
;
Mark Somervell
;
Kathleen Nafus
;
Paul F. Nealey
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
Directed Self-Assembly;
Chemo-epitaxy;
Defectivity;
7.
Effects of block copolymer polydispersity and _xN on pattern line edge roughness and line width roughness from directed self-assembly of diblock copolymers
机译:
嵌段共聚物多分散度和_xN对二嵌段共聚物定向自组装对图案线边缘粗糙度和线宽粗糙度的影响
作者:
Andrew J. Peters
;
Richard A. Lawson
;
Peter J. Ludovice
;
Clifford L. Henderson
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
Directed Self-Assembly;
Computational;
Coarse Grained;
LER;
LWR;
PDI;
x;
Molecular Dynamics;
Roughness;
GPU;
8.
Deterministically Isolated Gratings through the Directed Self-Assembly of Block Copolymers
机译:
通过嵌段共聚物的定向自组装确定性地隔离光栅
作者:
Gregory S. Doerk
;
Joy Y. Cheng
;
Charles T. Rettner
;
Srinivasan Balakrishnan
;
Noel Arellano
;
Daniel P. Sanders
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
directed self-assembly;
chemical epitaxy;
block copolymer;
self-aligned;
customization;
9.
Reflective Electron Beam Lithography: Lithography Results Using CMOS Controlled Digital Pattern Generator Chip
机译:
反射电子束光刻:使用CMOS控制的数字模式生成器芯片的光刻结果
作者:
Thomas Gubiotti
;
Jeff Sun
;
Regina Freed
;
Francoise Kidwingira
;
Jason Yang
;
Chris Bevis
;
Allen Carroll
;
Alan Brodie
;
William M. Tong
;
Shy-Jay Lin
;
Wen-Chuan Wang
;
Luc Haspeslagh
;
Bart Vereecke
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
electron beam;
direct write;
lithography;
roadmap;
REBL;
digital pattern generator;
10.
Block-copolymer healing of simple defects in a chemoepitaxial template
机译:
化学外延模板中简单缺陷的嵌段共聚物修复
作者:
Paul N. Patrone
;
Gregg M. Gallatin
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
11.
Patterning process for semiconductor using Directed Self-Assembly
机译:
使用定向自组装的半导体构图工艺
作者:
Jaewoo Nam
;
Eun Sung Kim
;
Daekeun Kang
;
Hangeun Yu
;
Kyoungseon Kim
;
Shiyong Yi
;
Chul-Ho Shin
;
Ho-Kyu Kang
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
Directed Self-Assembly (DSA);
block copolymers (BCPs);
cylinder phase;
grapho-epitaxy;
CD distribution;
PS-b-PMMA;
193nm immersion;
Nega-tone Development (NTD);
12.
Direct electron beam patterning of sub-5nm monolayer graphene interconnects
机译:
5nm以下单层石墨烯互连的直接电子束构图
作者:
Zhengqing John Qi
;
Julio A. Rodriguez-Manzo
;
Sung Ju Hong
;
Yung Woo Park
;
Eric A. Stach
;
Marija Drndic
;
A. T. Charlie Johnson
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
13.
Polymer blends for directed self-assembly
机译:
聚合物共混物,用于定向自组装
作者:
Yuji Namie
;
Yusuke Anno
;
Takehiko Naruoka
;
Shinya Minegishi
;
Tomoki Nagai
;
Yoshi Hishiro
;
Yoshikazu Yamaguchi
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
Photoresist;
DSA;
Polymer blend;
14.
Multifunctional hardmask neutral layer for directed self-assembly (DSA) patterning
机译:
用于定向自组装(DSA)图案化的多功能硬掩模中性层
作者:
Douglas J. Guerrero
;
Mary Ann Hockey
;
Yubao Wang
;
Eric Calderas
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
DSA;
BCP;
hardmask neutral layer;
pattern transfer;
grapho-epitaxy;
15.
Practical study on the electron-beam-only alignment strategy for the electron beam direct writing technology
机译:
电子束直接写入技术的仅电子束对准策略的实践研究
作者:
Yoshinori Kojima
;
Yasushi Takahashi
;
Shuzo Ohshio
;
Shinji Sugatani
;
Jun-ichi Kon
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
EBDW;
e-beam;
alignment;
mass production;
16.
Preliminary Investigation of Shot Noise, Dose, and Focus Latitude for E-Beam Direct Write
机译:
电子束直接写入的散粒噪声,剂量和聚焦纬度的初步研究
作者:
Alan Brodie
;
Shinichi Kojima
;
Mark McCord
;
Luca Grella
;
Thomas Gubiotti
;
Chris Bevis
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
Ebeam;
electron;
electron beam;
lithography;
direct write;
shot noise;
17.
Electron multi-beam technology for mask and wafer writing at 0.1 nm address grid
机译:
电子多光束技术,用于在0.1 nm地址栅格处进行掩模和晶圆写入
作者:
Elmar Platzgummer
;
Christof Klein
;
Hans Loeschner
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
electron;
multi-beam;
mask writer;
template writer;
direct wafer writer;
MBMW;
EBDW;
18.
Fabrication of 28nm pitch Si fins with DSA lithography
机译:
DSA光刻技术制造28nm间距的硅鳍片
作者:
Gerard Schmid
;
Richard Farrell
;
Ji Xu
;
Chanro Park
;
Moshe Preil
;
Vidhya Chakrapani
;
Nihar Mohanty
;
Akiteru Ko
;
Michael Cicoria
;
David Hetzer
;
Mark Somervell
;
Benjamen Rathsack
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
directed self-assembly;
block copolymer;
finFET;
19.
Orientation and position-controlled block copolymer nanolithography for bit-patterned media
机译:
位图介质的取向和位置控制的嵌段共聚物纳米光刻
作者:
R. Yamamoto
;
M. Kanamaru
;
K. Sugawara
;
N. Sasao
;
Y. Ootera
;
T. Okino
;
H. Hieda
;
N. Kihara
;
Y. Kamata
;
A. Kikitsu
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
bit patterned media;
diblock copolymer;
self-assemble;
DSA;
HDD;
dot pitch;
20.
Data Delivery System for MAPPER using Image Compression
机译:
使用图像压缩的MAPPER数据传送系统
作者:
Jeehong Yang
;
Serap A. Savari
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
Data compression;
image compression;
multiple electron beam lithography;
maskless direct write lithography;
data deliv-ery;
21.
Contrast enhanced exposure strategy in multi-beam mask writing
机译:
对比增强的多光束遮罩曝光策略
作者:
Nikola Belic
;
Ulrich Hofmann
;
Jan Klikovits
;
Stephan Martens
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
50keV electron;
multi-beam;
proximity effect correction;
shape-PEC;
dose-PEC;
model-based hybrid-PEC;
overdose- undersize;
process window;
22.
0.1-nanometer resolution positioning stage for sub-10 nm scanning probe lithography
机译:
适用于10纳米以下扫描探针光刻的0.1纳米分辨率定位台
作者:
Nataliya Vorbringer-Doroshovets
;
Felix Balzer
;
Roland Fuessl
;
Eberhard Manske
;
Marcus Kaestner
;
Andreas Schuh
;
Jens-Peter Zoellner
;
Manuel Hofer
;
Elshad Guliyev
;
Ahmad Ahmad
;
Tzvetan Ivanov
;
Ivo W. Rangelow
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
Nanopositioning and Nanomeasuring Machine (NPM);
Abbe error free measurement;
Nanolithography;
Scanning Probe Lithography;
Maskless Patterning;
Closed Loop Lithography;
23.
Sub-22 nm silicon template nanofabrication by advanced spacer patterning technique for NIL applications
机译:
通过NIL应用的先进间隔物图案化技术进行亚22纳米硅模板纳米加工
作者:
Jong-Moon Park
;
Kun-Sik Park
;
Dong-Pyo Kim
;
Seong-Ook Yoo
;
Jin-Ho Lee
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
Spacer Patterning;
Plasma Etching;
Nanoimprint;
Mold;
Nano Patterning;
24.
A dose modification strategy of electron beam direct writing considering TDDB reliability in LSI interconnects
机译:
LSI互连中考虑TDDB可靠性的电子束直接写入剂量修改策略
作者:
Yoshihiro Midoh
;
Atsushi Osaki
;
Koji Nakamae
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
electron beam direct writing;
time-dependent dielectric breakdown;
reliability;
proximity effect correction;
throughput;
25.
High Performance Wire Grid Polarizers Using Jet and Flash Imprint Lithography
机译:
使用喷射和闪光压印光刻的高性能线栅偏振器
作者:
Sean Ahn
;
Jack Yang
;
Mike Miller
;
Maha Ganapathisubramanian
;
Marlon Menezes
;
Jin Choi
;
Frank Xu
;
Douglas J. Resnick
;
S. V. Sreenivasan
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
jet and flash imprint lithography;
J-FIL;
nanoimprint;
polarizer;
wire grid polarizer;
WGP;
displays;
26.
Detectivity study of directed self-assembly of cylindrical diblock copolymers in laterally confined thin channels
机译:
侧向受限细通道中圆柱形二嵌段共聚物定向自组装的检测性研究
作者:
Bongkeun Kim
;
Nabil Laachi
;
Glenn H. Fredrickson
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
Self-Consistent Field Theory (SCFT);
graphoepitaxy;
directed self-assembly;
defects;
Graphic Processing Unit (GPU);
27.
Dissipative particle dynamics simulations to optimize contact hole shrink process using graphoepitaxial directed self-assembly
机译:
耗散粒子动力学仿真,使用石墨外延定向自组装优化接触孔收缩过程
作者:
Hironobu Sato
;
Hiroki Yonemitsu
;
Yuriko Seino
;
Hirokazu Kato
;
Masahiro Kanno
;
Katsutoshi Kobayashi
;
Ayako Kawanishi
;
Katsuyoshi Kodera
;
Tsukasa Azuma
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
dissipative particle dynamics (DPD) simulations;
directed self-assembly (DSA);
contact hole shrink process;
three-dimensional configuration of block copolymer;
28.
Computational simulation of block copolymer directed self-assembly in small topographical guiding templates
机译:
小型地形导向模板中嵌段共聚物定向自组装的计算模拟
作者:
He Yi
;
Azat Latypov
;
H.-S. Philip Wong
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
directed self-assembly;
DSA;
block copolymers;
BCP;
29.
Image Contrast of Line-Cut / Contact Hole Features in Complementary E-Beam Lithography (CEBL)
机译:
互补电子束光刻(CEBL)中的线切割/接触孔特征的图像对比
作者:
Enden D. Liu
;
Cong Tran
;
David K. Lam
;
Ted Prescop
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
E-Beam Lithography;
CEBL;
Line-Cut;
Contact Hole;
Proximity Effect;
Image Contrast;
20 nm;
30.
A slim column cell of 12nm resolution for wider application of e-beam lithography
机译:
分辨率为12nm的超薄柱单元,可广泛应用于电子束光刻
作者:
Akio Yamada
;
Hitoshi Tanaka
;
Tomohiko Abe
;
Youichi Shimizu
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
e-beam exposure system;
slim column;
electromagnetic lens;
beam blur;
calorific power by lens coil;
31.
Process Enhancements for Negative Tone Development (NTD)
机译:
负音开发(NTD)的过程增强
作者:
Go Noya
;
Kazuma Yamamoto
;
Naoki Matsumoto
;
Yukie Takemura
;
Maki Ishii
;
Yoshihiro Miyamoto
;
Masahiro Ishii
;
Tatsuo Nagahara
;
Georg Pawlowski
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
Lithography;
NTD process;
shrink;
rinse;
resolution enhancement;
yield enhancement;
32.
MAPPER Alignment sensor evaluation on Process Wafers
机译:
在晶圆上的MAPPER对准传感器评估
作者:
N. Vergeer
;
L. Lattard
;
G. de Boer
;
F. Couweleers
;
D. Dave
;
J. Pradelles
;
J. Bustos
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
maskless lithography;
MAPPER;
alignment;
33.
Large-Scale Dynamics of Directed Self-Assembly Defects on Chemically Pre-Patterned Surface
机译:
化学预成型表面上定向自组装缺陷的大规模动力学
作者:
Kenji Yoshimoto
;
Takashi Taniguchi
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
DSA;
block copolymers;
defects;
annealing;
model;
simulation;
dynamics;
34.
Dissipative Particle Dynamics Study on Directed Self-Assembly in Holes
机译:
孔中定向自组装的耗散粒子动力学研究
作者:
T. Nakano
;
M. Matsukuma
;
K. Matsuzaki
;
M. Muramatsu
;
T. Tomita
;
T. Kitano
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
directed self-assembly;
DSA;
dissipative particle dynamics simulation;
block copolymer;
hole shrink;
35.
Defect Reduction for Semiconductor Memory Applications Using Jet And Flash Imprint Lithography
机译:
使用喷射和闪存压印光刻技术减少半导体存储应用的缺陷
作者:
Zhengmao Ye
;
Kang Luo
;
J. W. Irving
;
Xiaoming Lu
;
Wei Zhang
;
Brian Fletcher
;
Weijun Liu
;
Frank Xu
;
Dwayne LaBrake
;
Douglas Resnick
;
S.V. Sreenivasan
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
jet and flash imprint lithography;
J-FIL;
imprint lithography;
imprint mask;
template;
defectivity;
contamination;
resist filtration;
36.
Design Strategy of Small Topographical Guiding Templates for sub-15 nm Integrated Circuits Contact Hole Patterns using Block Copolymer Directed Self-Assembly
机译:
使用嵌段共聚物定向自组装的亚15 nm集成电路接触孔图案的小型地形导引模板的设计策略
作者:
He Yi
;
Xin-Yu Bao
;
Richard Tiberio
;
H.-S. Philip Wong
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
37.
Exploration of the directed self-assembly based nano-fabrication design space using computational simulations
机译:
利用计算仿真探索基于定向自组装的纳米加工设计空间
作者:
Azat Latypov
;
Moshe Preil
;
Gerard Schmid
;
Ji Xu
;
He Yi
;
Kenji Yoshimoto
;
Yi Zou
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
directed self-assembly;
DSA;
block copolymers;
BCP;
SCFT;
Monte Carlo;
38.
Influence of Data Volume and EPC on Process Window in Massively Parallel E-Beam Direct Write
机译:
大规模并行电子束直接写入中数据量和EPC对过程窗口的影响
作者:
Shy-Jay Lin
;
Pei-Yi Liu
;
Cheng-Hung Chen
;
Wen-Chuan Wang
;
Jaw-Jung Shin
;
Burn J. Lin
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
multiple e-beam direct write;
MEBDW;
electron proximity correction;
EPC;
truncation;
Exposure-Defocus Forest;
REBL;
39.
Alignment Strategy for Mixed E-Beam and Optical Lithography
机译:
混合电子束和光学光刻的对准策略
作者:
Paul Duval
;
Kamal Tabatabaie-Alavi
;
Dale Shaw
;
Alan St Germain
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
Alignment Strategy;
Zero Layer;
Mix Match;
40.
Scaling-down lithographic dimensions with block-copolymer materials: 10nm-sized features with PS-b-PMMA
机译:
使用嵌段共聚物材料缩小光刻尺寸:PS-b-PMMA具有10nm尺寸的特征
作者:
X. Chevalier
;
C. Nicolet
;
R. Tiron
;
A. Gharbi
;
M. Argoud
;
J. Pradelles
;
M. Delalande
;
G. Cunge
;
G. Fleury
;
G. Hadziioannou
;
C. Navarro
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
lithography;
block-copolymer;
self-assembly;
PS-b-PMMA;
graphoepitaxy;
41.
Development of maskless electron-beam lithography using nc-Si electron-emitter array
机译:
利用nc-Si电子发射极阵列开发无掩模电子束光刻技术
作者:
A. Kojima
;
N. Ikegami
;
T. Yoshida
;
H.Miyaguchi
;
M. Muroyama
;
H.Nishino
;
S. Yoshida
;
M. Sugata
;
S. Cakir
;
H. Ohyi
;
N. Koshida
;
M. Esashi
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
nanocrystalline Si;
ballistic electron;
electron emitter;
massively parallel;
electron beam direct write system;
MEMS;
42.
Defect source analysis of directed self-assembly process (DSA of DSA)
机译:
定向自组装过程的缺陷源分析(DSA的DSA)
作者:
Paulina Rincon Delgadillo
;
Ryota Harukawa
;
Mayur Suri
;
Stephane Durant
;
Andrew Cross
;
Venkat R. Nagaswami
;
Dieter Van Den Heuvel
;
Roel Gronheid
;
Paul Nealey
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
Directed Self Assembly;
Defect Source Analysis;
DSA Defects;
inspection signal;
RCWA;
defect simulation;
43.
The hole shrink problem: Theoretical studies of directed self-assembly in cylindrical confinement
机译:
孔收缩问题:圆柱约束定向自组装的理论研究
作者:
Nabil Laachi
;
Kris T. Delaney
;
Bongkeun Kim
;
Su-Mi Hur
;
Robert Bristol
;
David Shykind
;
Corey J. Weinheimer
;
Glenn H. Fredrickson
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
Self-Consistent Field Theory (SCFT);
graphoepitaxy;
directed self-assembly;
hole shrink problem;
VIA lithography;
contact holes;
44.
Computational solution of inverse directed self-assembly problem
机译:
逆向自组装问题的计算解
作者:
Azat Latypov
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
directed self-assembly;
DSA;
block copolymers;
BCP;
inverse problem;
proximity correction;
45.
Perpendicular orientation of block-co-polymer on controlled neutralization layer
机译:
受控中和层上嵌段共聚物的垂直取向
作者:
Daiju Shiono
;
Tsuyoshi Kurosawa
;
Kenichiro Miyashita
;
Tasuku Matsumiya
;
Ken Miyagi
;
Katsumi Ohmori
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
directed self-assembly;
block copolymer;
neutralization layer;
46.
Scanning Probe Lithography approach for beyond CMOS devices
机译:
超越CMOS器件的扫描探针光刻技术
作者:
Zahid Durrani
;
Mervyn Jones
;
Marcus Kaestner
;
Manuel Hofer
;
Elshad Guliyev
;
Ahmad Ahmad
;
Tzvetan Ivanov
;
Jens-Peter Zoellner
;
Ivo W. Rangelow
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
Scanning Probe Lithography;
Nanolithography beyond CMOS;
Nanoelectronics;
Single-electron devices;
47.
Mix Match Electron Beam Scanning Probe Lithography for high throughput sub-10 nm Lithography
机译:
混合与匹配电子束和扫描探针光刻技术,可实现亚10纳米以下的高通量光刻
作者:
Marcus Kaestner
;
Manuel Hofer
;
Ivo W. Rangelow
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
Nanolithography;
Mix Match Lithography;
Hybrid Lithography;
Scanning Probe Lithography (SPL);
Electron Beam Lithography (EBL);
Molecular Glass Resist;
Calixarene;
48.
Directed Self-Assembly Process Implementation in a 300mm Pilot Line Environment
机译:
在300毫米试验线环境中进行定向自组装过程的实现
作者:
Chi-Chun Liu
;
I. Cristina Estrada-Raygoza
;
Jassem Abdallah
;
Steven Holmes
;
Yunpeng Yin
;
Anthony Schepis
;
Michael Cicoria
;
David Hetzer
;
Hsinyu Tsai
;
Michael Guilllorn
;
Melia Tjio
;
Joy Cheng
;
Mark Somervell
;
Matthew Colburn
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
Directed self-assembly;
DSA;
block copolymer;
BCP;
process window;
chemical pattern;
49.
The potential of block copolymer's directed self-assembly for contact hole shrink and contact multiplication
机译:
嵌段共聚物定向自组装对接触孔收缩和接触倍增的潜力
作者:
R. Tiron
;
A.Gharbi
;
M.Argoud
;
X. Chevalier
;
J.Belledent
;
P.Pimenta Barros
;
I.Servin
;
C. Navarro
;
G. Cunge
;
S.Barnola
;
L.Pain
;
M.Asai
;
C. Pieczulewski
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
directed self-assembly;
graphoepitaxy;
block copolymer;
PS-b-PMMA;
contact shrink;
50.
New Materials and Processes for Directed Self-Assembly
机译:
定向自组装的新材料和新工艺
作者:
Shih-Wei Chang
;
Jessica P. Evans
;
Shouren Ge
;
Valeriy V. Ginzburg
;
John W. Kramer
;
Brian Landes
;
Christopher Lee
;
Greg Meyers
;
Daniel J. Murray
;
Jong Park
;
Rahul Sharma
;
Peter Trefonas III
;
Jeffrey D. Weinhold
;
Jieqian Zhang
;
Phillip D. Hustad
会议名称:
《》
|
2013年
关键词:
Block copolymer;
BCP;
directed self assembly;
DSA;
graphoepitaxy;
PS-PMMA;
51.
Healing LER using directed self assembly: treatment of EUVL resists with aqueous solutions of block copolymers
机译:
使用定向自组装修复LER:用嵌段共聚物水溶液处理EUVL抗蚀剂
作者:
Ya-Mi Chuang
;
Han-Hao Cheng
;
Kevin Jack
;
Andrew Whittaker
;
Idriss Blakey
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
Directed self assembly;
line edge roughness;
block copolymer;
polymersomes;
electrostatic;
52.
Novel Fluorinated Compounds as Release Materials for Nanoimprint Lithography
机译:
新型氟化化合物作为纳米压印光刻的剥离材料
作者:
Tsuneo Yamashita
;
Hisashi Mitsuhashi
;
Masamichi Morita
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
Nanoimprint;
Resist;
Fluoropolymers;
UV-NIL;
Fluorine lyophobic resist;
Fluoroalkyl acrylate copolymer;
Contact angle;
Release material;
Perfluoroporyether;
53.
Matching of beams on the MAPPER MATRIX tool: a simulation study
机译:
MAPPER MATRIX工具上的光束匹配:仿真研究
作者:
J. Belledent
;
G.Z.M. Berglund
;
P.L. Brandt
;
S. Berard-Bergery
;
MJ. Wieland
;
L. Pain
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
massively parallel mask-less electron beam lithography;
data preparation;
IMAGINE;
MAPPER;
data path;
emulator;
exposure simulations;
54.
Block co-polymer multiple patterning directed self-assembly on PS-OH brush layer and AFM based nanolithography
机译:
在PS-OH刷层和基于AFM的纳米光刻技术上进行嵌段共聚物多重图案化定向自组装
作者:
Lorea Oria
;
Alaitz Ruiz de Luzuriaga
;
Juan A. Alduncin
;
Francesc Perez-Murano
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
Guided Self-assembly;
block co-polymer;
chemical surface modification;
polymer brush;
multiple patterning;
AFM nanolithography;
55.
Direct-write maskless lithography using patterned oxidation of Si-substrate Induced by femtosecond laser pulses
机译:
飞秒激光脉冲诱导的硅衬底图案化氧化的直接写入无掩模光刻
作者:
Amirkianoosh Kiani
;
Krishnan Venkatakrishnan
;
Bo Tan
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
photolithography;
ultra fast laser;
silicon;
etching;
silicon oxide;
56.
A process for low cost Wire Grid Polarizers
机译:
低成本线栅偏振器的工艺
作者:
M.P.C.Watts
;
M. Little
;
E. Egan
;
A. Hochbaum
;
C. Johns
;
S. Stephansen
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
57.
Using Process Monitor Wafers to Understand Directed Self-Assembly Defects
机译:
使用过程监视器晶圆了解定向的自组装缺陷
作者:
Yi Cao
;
YoungJun Her
;
Paulina Rincon Delgadillo
;
Nadia Vandenbroeck
;
Roel Gronheid
;
Boon Teik Chan
;
Yukio Hashimoto
;
Ainhoa Romo
;
Mark Somervell
;
Kathleen Nafus
;
Paul F. Nealey
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
Directed self-assembly;
chemo-epitaxy;
defectivity;
58.
Reticle Level Compensation for Long Range Effects
机译:
十字线电平补偿,实现远距离效果
作者:
Thiago Figueiro
;
Clyde Browning
;
Martin J. Thornton
;
Cyril Vannufel
;
Patrick Schiavone
会议名称:
《Alternative lithographic technologies V》
|
2013年
关键词:
Proximity Effect Correction;
Electron Beam Lithography;
Reticle Level Compensation;
Fogging;
CMP;
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